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公开(公告)号：CN103026474B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201180036266.6
申请日：2011-07-26
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: H01L21/368 , H01L29/786
CPC classification number: H01L29/247 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02592 , H01L21/02628 , H01L29/78693
Abstract: 形成包含金属盐、第一酰胺、以水为主体的溶剂的非晶态金属氧化物半导体层形成用前体组合物，使用该组合物制成非晶态金属氧化物半导体层。
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公开(公告)号：CN112552769A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202011478659.X
申请日：2014-06-09
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D143/02 , C09D5/16 , C08F230/02 , C08F220/34
Abstract: 本发明提供具有抑制生物物质附着的能力的涂覆膜和离子络合材料、它们的制造方法、通过将特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、具有特定的组成的涂覆膜形成用组合物、作为用于形成该膜的涂覆膜形成用组合物的原料使用的含有共聚物的清漆的制造方法、以及用于形成涂覆膜的溶胶。尤其是，提供通过包括以下工序的方法得到的涂覆膜：将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序，以及于－200℃～200℃的温度进行干燥的工序，所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂，所述共聚物包含：包含式(a)表示的有机基团的重复单元和包含式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如本说明书及权利要求书中所定义的那样)。
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公开(公告)号：CN106025098A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610319620.0
申请日：2012-09-14
Applicant: 日产化学工业株式会社
CPC classification number: H01L51/0059 , C08K5/18 , C08K5/42 , C09D5/24 , C09D7/63 , H01L51/0021 , H01L51/5056 , H01L51/5088 , H01L51/5237 , H01L51/524
Abstract: 包含式(1)所示的芳基二胺化合物、电子接受性掺杂剂物质和溶剂的电荷传输性清漆形成具有高透明性、应用于有机EL元件时可发挥良好的元件特性的电荷传输性薄膜。式中，R1～R4各自独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、羟基、硫醇基、磷酸基、磺酸基、羧基、碳数1～20的烷氧基等，R5～R8各自独立地表示氢原子、苯基、萘基、吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、吡嗪基、呋喃基、吡咯基、吡唑基、咪唑基、噻吩基等，n表示2～5的整数。
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公开(公告)号：CN103814091B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201280045988.2
申请日：2012-09-14
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08G73/00
CPC classification number: H01L51/0059 , C08K5/18 , C08K5/42 , C09D5/24 , C09D7/63 , H01L51/0021 , H01L51/5056 , H01L51/5088 , H01L51/5237 , H01L51/524
Abstract: 包含式（1）所示的芳基二胺化合物、电子接受性掺杂剂物质和溶剂的电荷传输性清漆形成具有高透明性、应用于有机EL元件时可发挥良好的元件特性的电荷传输性薄膜。式中，R1～R4各自独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、羟基、硫醇基、磷酸基、磺酸基、羧基、碳数1～20的烷氧基等，R5～R8各自独立地表示氢原子、苯基、萘基、吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、吡嗪基、呋喃基、吡咯基、吡唑基、咪唑基、噻吩基等，n表示2～5的整数。
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公开(公告)号：CN105308169A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480032593.8
申请日：2014-06-09
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C12M3/00 , B05D7/24 , C08F230/02 , C09D133/14 , C09D133/26 , A61L31/00
Abstract: 本发明提供细胞培养容器、使用了该细胞培养容器的细胞凝集块的制造方法以及该细胞培养容器的制造方法，所述细胞培养容器的特征在于，在表面上涂覆有下述共聚物，所述共聚物包含：包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元和包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如说明书及权利要求书中所记载的那样)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101473270A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200780022550.1
申请日：2007-06-15
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G63/58 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/091 , C08G63/19 , C08G63/672 , C08G63/6856 , G03F7/094 , G03F7/11
Abstract: 本发明的课题是提供一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，所述光刻用抗蚀剂下层膜可以用作下述膜，即，减轻对半导体基板上所形成的光致抗蚀剂的曝光照射光从基板反射的下层防反射膜、用于将具有凹凸的半导体基板平坦化的平坦化膜、防止加热烘烤时从半导体基板产生的物质污染光致抗蚀剂的膜等。本发明通过提供下述组合物而解决了上述课题，即，一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，其含有具有上述式(1)的结构的聚合物和溶剂，其中，Y表示碳原子数1～10的亚烷基或碳原子数6～14的芳香族环，亚烷基和芳香族环具有羟基，该羟基数为1个以上，且为该亚烷基和芳香族环上能够取代的氢原子数以下。
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公开(公告)号：CN1965268A
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN200580018731.8
申请日：2005-04-06
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08L79/04 , C09D163/00 , C09D179/04 , H01L21/027
CPC classification number: C08G73/0616 , C08G61/122 , C08G61/123 , C08G73/0638 , C08L79/04 , G02B1/111 , G03F7/091 , Y10S438/952
Abstract: 本发明的课题在于提供一种防反射效果好、不发生与光致抗蚀剂的混合、可以用于使用ArF准分子激光和F2准分子激光等照射光的光刻工艺中的防反射膜，及用于形成防反射膜的组合物。本发明提供一种形成防反射膜的组合物，其特征在于，含有具有嘧啶三酮结构、咪唑烷二酮结构、咪唑烷三酮结构或三嗪三酮结构的聚合物和溶剂。
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公开(公告)号：CN112625535A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN202011478711.1
申请日：2014-06-09
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D143/02 , C09D5/16 , C08F230/02 , C08F220/34
Abstract: 本发明提供具有抑制生物物质附着的能力的涂覆膜和离子络合材料、它们的制造方法、通过将特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、具有特定的组成的涂覆膜形成用组合物、作为用于形成该膜的涂覆膜形成用组合物的原料使用的含有共聚物的清漆的制造方法、以及用于形成涂覆膜的溶胶。尤其是，提供通过包括以下工序的方法得到的涂覆膜：将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序，以及于－200℃～200℃的温度进行干燥的工序，所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂，所述共聚物包含：包含式(a)表示的有机基团的重复单元和包含式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如本说明书及权利要求书中所定义的那样)。
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公开(公告)号：CN107001539B
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201580066417.0
申请日：2015-12-10
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08F230/02 , A61L27/00 , A61L31/00
Abstract: 本发明提供通过使至少包含下述式(A)、(B)及(C)(式中，Ta、Tb、Tc、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、Qa、Qb及Qc、Ra、Rb及Rc、An‑、以及m如本说明书及权利要求书中所定义的那样)表示的化合物的单体混合物聚合而得到的共聚物等。本发明的共聚物可作为抑制生物材料附着的能力优异的离子复合物材料利用。
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公开(公告)号：CN105308137B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201480032648.5
申请日：2014-06-09
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D201/02 , B05D5/00 , B05D7/24 , B32B27/00 , C08F230/02 , C08L43/02 , C08L101/02 , C09D5/16 , C09D143/02
Abstract: 本发明提供具有抑制生物物质附着的能力的涂覆膜、该涂覆膜的制造方法、通过将特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、具有特定的组成的涂覆膜形成用组合物、作为用于形成该膜的涂覆膜形成用组合物的原料使用的含有共聚物的清漆的制造方法、以及用于形成涂覆膜的溶胶。尤其是，提供通过包括以下工序的方法得到的涂覆膜：将涂覆膜形成用组合物涂布于基体的工序，以及于－200℃～200℃的温度进行干燥的工序，所述涂覆膜形成用组合物包含下述共聚物和溶剂，所述共聚物包含：包含式(a)表示的有机基团的重复单元和包含式(b)表示的有机基团的重复单元(式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3、以及An－如本说明书及权利要求书中所定义的那样)。或
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