公开(公告)号：CN107250902B

公开(公告)日：2021-01-26

申请号：CN201680008950.6

申请日：2016-02-04

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 杉山崇明 ,  芦泽亮一 ,  山口智裕 ,  佐久间大辅

IPC: G02F1/1337 ,  C07D307/58 ,  C08G73/00 ,  C08L79/08

Abstract: 本发明提供一种液晶取向剂和液晶表示元件，所述液晶取向剂能够实现响应速度快且源自AC的残影特性优异的液晶表示元件。一种液晶表示元件，其是通过使液晶取向剂和/或液晶层含有式(1)所示的聚合性化合物而形成的。(X1、X2表示醚键等连接基团；S1、S2表示碳数2～9的直链亚烷基；S1、X1、X2、S2以分子左右不对称的方式进行选择。)

公开(公告)号：CN104685411A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201380051035.1

申请日：2013-07-24

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 坂本谦治 ,  佐久间大辅 ,  桥本淳 ,  平贺浩二 ,  元山贤一

IPC: G02F1/1337 ,  C08G77/20

CPC classification number: C08G77/20 ,  G02F2001/133742

Abstract: 本发明涉及包含使包括以式(1)表示的烷氧基硅烷及以式(3)表示的烷氧基硅烷成分反应而得的聚硅氧烷(A)的液晶取向剂；式(1)中，R1表示以下式(2)的结构，R2表示碳数1～5的烷基。R1Si(OR2)3 (1)

公开(公告)号：CN104054019A

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201280067218.8

申请日：2012-11-15

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 桥本淳 ,  桧森章吾 ,  平贺浩二 ,  元山贤一 ,  佐久间大辅

IPC: G02F1/1337 ,  C08G77/20

CPC classification number: C08G77/20 ,  C08G77/80 ,  C08L83/04

Abstract: 本发明提供一种即使在使用不添加聚合性化合物的液晶、与PSA方式进行相同处理来提高UV照射后的响应速度的方式的液晶显示元件中，也可形成能够在不降低垂直取向力的情况下提高UV照射后的响应速度的液晶取向膜的液晶取向剂，液晶取向膜，以及液晶显示元件。该液晶取向剂为含有对包括式(1)所表示的烷氧基硅烷及式(3)所表示的烷氧基硅烷的烷氧基硅烷进行水解、缩聚而得的聚硅氧烷(A)的液晶取向剂。R1Si(OR2)3 (1)(R1表示下述式(2)的结构，R2表示碳数1～5的烷基。)[化1](Y1、Y2、Y3为单键等，Y4、Y5为苯环等，Y6为氢原子等，n为0～4的整数)R3Si(OR4)3 (3)(R3为丙烯酰基等，R4为碳数1～5的烷基等)。

公开(公告)号：CN103748517A

公开(公告)日：2014-04-23

申请号：CN201280038944.7

申请日：2012-08-10

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 中岛诚 ,  佐久间大辅 ,  菅野裕太 ,  岸冈高广

IPC: G03F7/11 ,  C08G77/28 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  C07F7/1804 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/31133

Abstract: 一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其中，含有作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物，该硅烷为下述式（1）所示的化合物，〔(R1)aSi(R2)(3-a)〕b(R3)？？？？式（1）式（1）中，R3表示含有磺酰基和吸光基、以Si-C键与Si原子键合的有机基团，R1是烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、烷氧基芳基、酰基氧基芳基、异氰脲酸酯基、羟基、环状氨基或氰基的有机基团、或它们的组合，其表示以Si-C键与Si原子键合的有机基团，R2表示烷氧基、酰基氧基或卤素基，a表示0～2的整数，b表示1～3的整数。

公开(公告)号：CN103339569A

公开(公告)日：2013-10-02

申请号：CN201280006068.X

申请日：2012-01-24

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 菅野裕太 ,  佐久间大辅 ,  中岛诚

IPC: G03F7/11 ,  C08G77/14 ,  C08G77/48 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0752 ,  C08G77/14 ,  C08L83/06 ,  C09D4/00 ,  C09D183/06 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3088 ,  Y10T428/31663

Abstract: 本发明的课题是提供用于形成可以作为硬掩模使用的抗蚀剂下层膜的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。作为解决本发明课题的方法是一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，其包含作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物，该硅烷包含下述式(1)：［(R1)aSi(R2)(3－a)］b(R3)式(1)〔式中R3表示式(2)、式(3)、或式(4)：(式中，R4、R5和R6中的至少1个基团直接或介由连接基团而与Si原子结合。)所示的基团，R1表示烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或者具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、氨基或氰基的有机基团、或者它们的组合。R2表示烷氧基、酰氧基、或卤原子。〕所示的水解性有机硅烷。

公开(公告)号：CN105190415B

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201480024169.9

申请日：2014-02-26

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 菊池奈穂 ,  佐久间大辅 ,  巴幸司

IPC: G02F1/1337 ,  C08G73/10

CPC classification number: C08G73/1078 ,  C08G73/1042 ,  C09D179/08

Abstract: 一种液晶取向处理剂，其含有选自聚酰亚胺前体和将该聚酰亚胺前体进行酰亚胺化而得到的聚酰亚胺中的至少1种聚合物，所述聚酰亚胺前体是使包含下式[1]所示的四羧酸二酐和下式[2]所示的脂肪族四羧酸二酐的四羧酸成分与二胺成分反应而得到的。(式[2]中，Z1为选自下式[2a]～式[2j]中的至少1种4价基团。)(式[2a]中，Z2～Z5表示氢原子、甲基、氯原子或苯环，任选彼此相同或不同；式[2g]中，Z6和Z7表示氢原子或甲基，任选彼此相同或不同)。

公开(公告)号：CN105980357A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201580008596.2

申请日：2015-02-10

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 巴幸司 ,  石井秀则 ,  石川和典 ,  坂本谦治 ,  佐久间大辅 ,  原田佳和

IPC: C07D211/26 ,  C08G73/10 ,  G02F1/1337

CPC classification number: C07D211/26 ,  C08G73/10 ,  C08G73/1082 ,  G02F1/133723

Abstract: 提供一种液晶取向剂，其能够获得电压保持率、耐刷磨性高、可快速缓和蓄积电荷、尤其是可抑制横向电场驱动方式中的刷磨方向与液晶取向方向的偏移的液晶取向膜。一种液晶取向剂，其含有选自由聚酰亚胺前体和使该聚酰亚胺前体闭环而得到的聚酰亚胺组成的组中的至少1种聚合物，所述聚酰亚胺前体是使含有式(1)所示二胺的二胺成分与四羧酸衍生物成分进行反应而得到的。(R1表示氢或1价有机基团。Q1表示碳数1～5的亚烷基，Cy为包括氮杂环丁烷、吡咯烷、哌啶或六亚甲基亚胺在内的2价基团，这些环部分任选键合有取代基。R2、R3为1价有机基团，q、r各自独立地为0～4的整数。其中，q与r合计为2以上时，多个R2、R3具有上述定义。)

公开(公告)号：CN103718091B

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201280036983.3

申请日：2012-05-25

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 坂本谦治 ,  军司里枝 ,  桥本淳 ,  高山祐树 ,  佐久间大辅 ,  桧森章吾 ,  平贺浩二 ,  元山贤一

IPC: G02F1/1337 ,  C08F299/08 ,  C08G77/20

CPC classification number: C08G77/04 ,  C08G77/80

Abstract: 本发明提供一种液晶取向剂，该液晶取向剂即使在使用不添加聚合性化合物的液晶并与ＰＳＡ方式同样地进行处理而使ＵＶ照射后的响应速度提高的方式的液晶显示元件中，也能够形成不使垂直取向力下降而可使ＵＶ照射后的响应速度提高的液晶取向膜。该液晶取向剂的特征在于，含有聚硅氧烷（Ａ），该聚硅氧烷（Ａ）由含有下述式（1）表示的烷氧基硅烷和下述式（3）表示的烷氧基硅烷的烷氧基硅烷缩聚而得。Ｒ1Ｓｉ（ＯＲ2）3（1）（Ｒ1表示下述式（2）的结构，Ｒ2表示碳原子数1～5的烷基。）（Ｙ1表示单键等，Ｙ2表示单键等，Ｙ3表示单键等，Ｙ4表示选自苯环、环己基环或杂环的二价环状基等，Ｙ5表示选自苯环、环己基环和杂环的二价环状基等，ｎ表示0～4的整数，Ｙ6表示氢原子等。）Ｒ3Ｓｉ（ＯＲ4）3（3）（Ｒ3表示被丙烯酰基等取代的碳数1～30的烷基、Ｒ4表示碳数1～5的烷基）。

公开(公告)号：CN103718091A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201280036983.3

申请日：2012-05-25

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 坂本谦治 ,  军司里枝 ,  桥本淳 ,  高山祐树 ,  佐久间大辅 ,  桧森章吾 ,  平贺浩二 ,  元山贤一

IPC: G02F1/1337 ,  C08F299/08 ,  C08G77/20

CPC classification number: C08G77/04 ,  C08G77/80

Abstract: 本发明提供一种液晶取向剂，该液晶取向剂即使在使用不添加聚合性化合物的液晶并与ＰＳＡ方式同样地进行处理而使ＵＶ照射后的响应速度提高的方式的液晶显示元件中，也能够形成不使垂直取向力下降而可使ＵＶ照射后的响应速度提高的液晶取向膜。该液晶取向剂的特征在于，含有聚硅氧烷（Ａ），该聚硅氧烷（Ａ）由含有下述式（1）表示的烷氧基硅烷和下述式（3）表示的烷氧基硅烷的烷氧基硅烷缩聚而得。Ｒ1Ｓｉ（ＯＲ2）3（1）（Ｒ1表示下述式（2）的结构，Ｒ2表示碳原子数1～5的烷基。）（Ｙ1表示单键等，Ｙ2表示单键等，Ｙ3表示单键等，Ｙ4表示选自苯环、环己基环或杂环的二价环状基等，Ｙ5表示选自苯环、环己基环和杂环的二价环状基等，ｎ表示0～4的整数，Ｙ6表示氢原子等。）Ｒ3Ｓｉ（ＯＲ4）3 （3）（Ｒ3表示被丙烯酰基等取代的碳数1～30的烷基、Ｒ4表示碳数1～5的烷基）。

公开(公告)号：CN106661301B

公开(公告)日：2019-06-04

申请号：CN201580032275.6

申请日：2015-06-23

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 根木隆之 ,  川野勇太 ,  南悟志 ,  佐久间大辅

IPC: C08L33/04 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种聚合物组合物，其含有(A)侧链型高分子和(B)有机溶剂，所述(A)侧链型高分子是在特定的温度范围内表现出液晶性的感光性侧链型高分子，其具有式(0)所示的侧链，还具有侧链(a)，所述侧链(a)具有选自含氮芳香族杂环基团、酰胺基和氨基甲酸酯基中的基团。另外，提供一种具有液晶取向膜的基板的制造方法，其包括下述工序：将该组合物涂布在具有横向电场驱动用导电膜的基板上而形成涂膜的工序；对所得涂膜照射偏振紫外线的工序；以及将所得涂膜进行加热的工序。通过该聚合物组合物和横向电场驱动型液晶表示元件，提供以高效率被赋予了取向控制能力、残影特性优异的液晶取向膜。