公开(公告)号：CN104822783A

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201380063021.1

申请日：2013-10-03

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 江口和辉 ,  元山贤一

IPC: C09D185/00 ,  B05D1/26 ,  C09D7/12 ,  C09D183/00 ,  H01B3/10

CPC classification number: H01B3/10 ,  C09D1/00 ,  C23C18/06 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1245 ,  C23C18/1283 ,  C23C18/14

Abstract: 本发明提供一种适合形成微细的金属氧化物被膜的金属氧化物被膜形成用涂布液。本发明是一种用于通过微细液滴吐出装置进行的涂布的金属氧化物被膜形成用涂布液，含有特定的金属醇盐、特定的金属盐、有机溶剂、水和防析出剂，在全部有机溶剂中含有30质量％以上的选自乙二醇、丙二醇、1,2‐丁二醇、1,3‐丁二醇、1,4‐丁二醇、1,2‐戊二醇、1,3‐戊二醇、1,4‐戊二醇、1,5‐戊二醇、2,4‐戊二醇、2,5‐己二醇、二乙二醇、二丙二醇、三乙二醇、以及N‐甲基吡咯烷酮的至少1种，且表面张力在28mN/m以上。

公开(公告)号：CN104685411A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201380051035.1

申请日：2013-07-24

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 坂本谦治 ,  佐久间大辅 ,  桥本淳 ,  平贺浩二 ,  元山贤一

IPC: G02F1/1337 ,  C08G77/20

CPC classification number: C08G77/20 ,  G02F2001/133742

Abstract: 本发明涉及包含使包括以式(1)表示的烷氧基硅烷及以式(3)表示的烷氧基硅烷成分反应而得的聚硅氧烷(A)的液晶取向剂；式(1)中，R1表示以下式(2)的结构，R2表示碳数1～5的烷基。R1Si(OR2)3 (1)

公开(公告)号：CN102725679B

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201080062549.3

申请日：2010-12-01

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 元山贤一 ,  小野豪 ,  军司里枝 ,  保坂和义

IPC: G02F1/1337 ,  C08G77/26 ,  C08L79/08

CPC classification number: C08L79/08 ,  C08G77/26 ,  C08L83/08 ,  G02F1/133723 ,  C08L83/00 ,  C08L2666/20

Abstract: 本发明的目的在于提供可获得伴随摩擦处理的膜磨损少的良好的液晶取向膜的新的液晶取向处理剂，以及提供减少了来源于膜磨损的显示缺陷的液晶显示元件。包含作为(A)成分的选自聚酰胺酸和聚酰亚胺的至少一种聚合物以及作为(B)成分的具有被脲基取代的碳原子数1～12的烃基的聚硅氧烷的液晶取向处理剂，由该液晶取向处理剂得到的液晶取向膜和具有该液晶取向膜的液晶显示元件。

公开(公告)号：CN104054019A

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201280067218.8

申请日：2012-11-15

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 桥本淳 ,  桧森章吾 ,  平贺浩二 ,  元山贤一 ,  佐久间大辅

IPC: G02F1/1337 ,  C08G77/20

CPC classification number: C08G77/20 ,  C08G77/80 ,  C08L83/04

Abstract: 本发明提供一种即使在使用不添加聚合性化合物的液晶、与PSA方式进行相同处理来提高UV照射后的响应速度的方式的液晶显示元件中，也可形成能够在不降低垂直取向力的情况下提高UV照射后的响应速度的液晶取向膜的液晶取向剂，液晶取向膜，以及液晶显示元件。该液晶取向剂为含有对包括式(1)所表示的烷氧基硅烷及式(3)所表示的烷氧基硅烷的烷氧基硅烷进行水解、缩聚而得的聚硅氧烷(A)的液晶取向剂。R1Si(OR2)3 (1)(R1表示下述式(2)的结构，R2表示碳数1～5的烷基。)[化1](Y1、Y2、Y3为单键等，Y4、Y5为苯环等，Y6为氢原子等，n为0～4的整数)R3Si(OR4)3 (3)(R3为丙烯酰基等，R4为碳数1～5的烷基等)。

公开(公告)号：CN103080153A

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN201180041624.2

申请日：2011-06-30

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 樱叶汀丹尼尔安东尼 ,  松本欣也 ,  元山贤一 ,  后藤耕平 ,  芦泽亮一 ,  山之内洋一

IPC: C08F24/00 ,  C07D307/58 ,  C08F290/08 ,  G02F1/1334 ,  G02F1/1337

CPC classification number: C07D307/58 ,  G02F1/133711

Abstract: 下式(1)所示的聚合性化合物。式(1)中，V是单键或以-R1O-表示，R1是直链或分支的碳数1～10的亚烷基，W是单键或以-OR2-表示，R2是直链或分支的碳数1～10的亚烷基。

公开(公告)号：CN101679805B

公开(公告)日：2013-02-27

申请号：CN200880016113.3

申请日：2008-05-16

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 根木隆之 ,  元山贤一

IPC: C09D183/08 ,  B32B27/00 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C08K5/17 ,  C09D183/08

Abstract: 本发明提供在水接触角高的基材上也能够于较低的温度下固化而形成透光性高、硬度高、耐擦伤性良好且具有低折射率的被膜的被膜形成用涂布液，其制造方法及使用该被膜的防反射材料。低折射率被膜形成用涂布液的特征在于，包含具有结合有含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷(A)、碳数在20以下的直链烷基胺化合物(B)、整体的碳数在20以下且其结构中具有碳数10以下的环状基团的胺化合物(C)。

公开(公告)号：CN102725679A

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN201080062549.3

申请日：2010-12-01

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 元山贤一 ,  小野豪 ,  军司里枝 ,  保坂和义

IPC: G02F1/1337 ,  C08G77/26 ,  C08L79/08

CPC classification number: C08L79/08 ,  C08G77/26 ,  C08L83/08 ,  G02F1/133723 ,  C08L83/00 ,  C08L2666/20

Abstract: 本发明的目的在于提供可获得伴随摩擦处理的膜磨损少的良好的液晶取向膜的新的液晶取向处理剂，以及提供减少了来源于膜磨损的显示缺陷的液晶显示元件。包含作为(A)成分的选自聚酰胺酸和聚酰亚胺的至少一种聚合物以及作为(B)成分的具有被脲基取代的碳原子数1～12的烃基的聚硅氧烷的液晶取向处理剂，由该液晶取向处理剂得到的液晶取向膜和具有该液晶取向膜的液晶显示元件。

公开(公告)号：CN101535430B

公开(公告)日：2012-02-08

申请号：CN200780041914.0

申请日：2007-11-13

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 谷好浩 ,  元山贤一

IPC: C09D183/08 ,  B05D7/24 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/02 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C08K5/17 ,  C09D7/42 ,  C09D7/63 ,  C09D183/08

Abstract: 本发明提供可在较低温度下固化而形成高硬度的耐擦伤性良好的具有低折射率的被膜的被膜形成用涂布及其制造方法，以及使用该被膜的防反射材料。低折射率被膜形成用涂布液的特征在于，含有含氟有机基团与硅原子结合的聚硅氧烷(A)和碳数3～12的含氟胺化合物(B)，将它们溶于有机溶剂(C)而形成。

公开(公告)号：CN101243149B

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200680029437.1

申请日：2006-07-27

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 沼尻悟 ,  元山贤一

IPC: C09D185/00 ,  C09D5/25 ,  C09D7/12 ,  C09D183/00 ,  C09D183/02 ,  H01L21/312 ,  H01L21/316 ,  H01L21/768

CPC classification number: H01L21/316 ,  C09D183/14

Abstract: 本发明提供能在低温的固化条件下形成充分固化的被膜、能在该被膜上形成抑制了凹陷和针孔的取向膜的被膜形成用涂布液的制造方法。该被膜形成用涂布液的制造方法的特征在于，包含得到含有使烷氧基金属(A)在溶剂(B)中进行水解·缩合反应而生成的缩合物的溶液的工序1；得到将上述工序1中得到的溶液用溶剂(C)置换后的溶液的工序2。烷氧基金属(A)是选自式(1)表示的化合物(式中，R1表示碳原子数为1～5的烷基)中的至少1种烷氧基金属；Ti(OR1)4(1)溶剂(B)是选自碳原子数为1～10的醇、碳原子数为2～5的酯、四氢呋喃以及碳原子数为2～5的醚中的至少1种有机溶剂；溶剂(C)是选自碳原子数为2～10的二醇中的至少1种有机溶剂。

公开(公告)号：CN104583350B

公开(公告)日：2018-04-10

申请号：CN201380043117.1

申请日：2013-06-12

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 江口和辉 ,  村梶庆太 ,  元山贤一

IPC: C09D185/00 ,  C09D183/04

CPC classification number: C09D183/04 ,  C08G77/58 ,  C09D183/14 ,  C08K5/098 ,  C08K3/28

Abstract: 本发明提供一种形成具有足够保护ITO等透明电极的硬度、具有良好的成膜性、且能够通过光刻来形成图案的被膜的金属氧化物被膜用涂布液。本发明的金属氧化物被膜用涂布液是在式(III)所示的金属盐的存在下，将式(I)所示的金属醇盐、和式(IIA)或式(IIB)所示的有机锡化合物在有机溶剂中水解、缩聚，再添加析出防止剂而得的金属氧化物被膜用涂布液。M1(OR1)n (I)(M1为Si、Mg、Zn、Ti、Ta、Zr、B、In、Bi或Nb。R1为碳数1～5的烷基。n为2～5的整数)。Sn(OOCR2)2 (IIA)(R2为可被氟原子取代、或可具有杂原子的碳数1～20的烷基)Sn(R3COCHCOR4)2 (IIB)(R3、R4为可被氟原子取代、或可具有杂原子的碳数1～20的烷基)M3(X)k (III)(M3为Al、In、Zn、Zr、Bi、La、Ta、Y或Ce。X为氯、硝酸、硫酸、乙酸、草酸、氨基磺酸、磺酸、乙酰乙酸、乙酰丙酮化物或它们的碱式盐，k为M3的价数)。