光电混载基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN103389547A

    公开(公告)日:2013-11-13

    申请号:CN201310135895.5

    申请日:2013-04-18

    CPC classification number: G02B6/122 G02B6/136 G02B6/138 G02B6/43

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制光传播损失的增加且挠性也优异的光电混载基板及其制造方法。光电混载基板包括:电路基板(E),其通过在绝缘层(1)的表面上形成电布线(2)而构成;以及光波导路(W),其隔着金属层(M)形成于该电路基板(E)的上述绝缘层(1)的背面,其中,金属层(M)的至少一部分呈下述(A)或(B)中的任意一种图案形成状态,且上述光波导路(W)的第1包层(下包层)(6)进入并埋入到金属层(M)的经由该图案形成被去除而形成的去除痕迹中,(A)上述金属层(M)形成为分布形成有多个点状凸部(Ma)的图案,(B)在上述金属层(M)上形成有分布形成有多个点状凹部的图案。

    光电混装基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN103308981B

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:CN201310054894.8

    申请日:2013-02-20

    CPC classification number: G02B6/12004 G02B6/136 G02B6/138 G02B6/4214 G02B6/43

    Abstract: 本发明提供一种在抑制光传播损耗的增大、弯曲性、对于反复弯曲的耐性方面均优异的光电混装基板及其制造方法。该光电混装基板包括:在绝缘层1的表面形成电配线(2)而成的电路板E);光波导(W),其形成于该电路板(E)的上述绝缘层(1)的背面,该光波导(W)具有第1包层(6)和芯体(7);以及金属层(M),其形成于上述光波导W)的上述第1包层(6)与上述电路板(E)的上述绝缘层(1)的背面之间;上述光电混装基板的一部分形成为弯曲部,上述金属层(M)的与该弯曲部相对应的部分被局部去除,上述光波导的第1包层(6)进入并填充该去除痕迹(R1)。

    光电混载基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN103389547B

    公开(公告)日:2016-03-16

    申请号:CN201310135895.5

    申请日:2013-04-18

    CPC classification number: G02B6/122 G02B6/136 G02B6/138 G02B6/43

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制光传播损失的增加且挠性也优异的光电混载基板及其制造方法。光电混载基板包括:电路基板(E),其通过在绝缘层(1)的表面上形成电布线(2)而构成;以及光波导路(W),其隔着金属层(M)形成于该电路基板(E)的上述绝缘层(1)的背面,其中,金属层(M)的至少一部分呈下述(A)或(B)中的任意一种图案形成状态,且上述光波导路(W)的第1包层(下包层)(6)进入并埋入到金属层(M)的经由该图案形成被去除而形成的去除痕迹中,(A)上述金属层(M)形成为分布形成有多个点状凸部(Ma)的图案,(B)在上述金属层(M)上形成有分布形成有多个点状凹部的图案。

    光电混装基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN103308981A

    公开(公告)日:2013-09-18

    申请号:CN201310054894.8

    申请日:2013-02-20

    CPC classification number: G02B6/12004 G02B6/136 G02B6/138 G02B6/4214 G02B6/43

    Abstract: 本发明提供一种在抑制光传播损耗的增大、弯曲性、对于反复弯曲的耐性方面均优异的光电混装基板及其制造方法。该光电混装基板包括:在绝缘层1的表面形成电配线(2)而成的电路板(E);光波导(W),其形成于该电路板(E)的上述绝缘层(1)的背面,该光波导(W)具有第1包层(6)和芯体(7);以及金属层(M),其形成于上述光波导(W)的上述第1包层(6)与上述电路板(E)的上述绝缘层(1)的背面之间;上述光电混装基板的一部分形成为弯曲部,上述金属层(M)的与该弯曲部相对应的部分被局部去除,上述光波导的第1包层(6)进入并填充该去除痕迹(R1)。

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