公开(公告)号：CN100577861C

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：CN200680016257.X

申请日：2006-07-21

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 岩崎安邦 ,  福田祥慎 ,  宫崎修

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/44

CPC classification number: C23C14/564 ,  B01J3/006

Abstract: 本发明提供能够简化冷却用流路的配设结构的真空处理用腔室。本发明的真空处理用腔室，具有多片壁构件(1、2、3、4、11、12、13)，该壁构件(1、2、3、4、11、12、13)的表面的一部分形成接合面，该接合面之间气密接合形成的接合部，将所述多片壁构件(1、2、3、4、11、12、13)加以接合，构成腔室主体(100)的真空处理用腔室，至少一部分接合部(10)，是在接合面内形成沿该接合面延伸的间隙(30、31)，而且该接合面的周围利用焊接气密接合形成间隙内藏型接合部(10)。

公开(公告)号：CN1385554A

公开(公告)日：2002-12-18

申请号：CN02107382.1

申请日：2002-03-19

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 冈本浩一 ,  福田祥慎

IPC: C23C14/56

CPC classification number: C23C14/547 ,  C23C14/30 ,  C23C14/505 ,  C23C14/541

Abstract: 一种真空成膜装置,包括用于保持内部空间的真空氛围气的成膜用真空腔和为辅助成膜而在所述真空腔内使用的辅助器具,所述辅助器具通过设于所述真空腔的开口部跨所述真空腔的内外而设置,固定于所述真空腔外设置的静止结构件上,同时,通过由可维持所述真空腔内的真空氛围气的材质形成并具有弹性的连接部件安装在所述真空腔上。

公开(公告)号：CN101203625A

公开(公告)日：2008-06-18

申请号：CN200680016257.X

申请日：2006-07-21

Applicant: 新明和工业株式会社

Inventor： 岩崎安邦 ,  福田祥慎 ,  宫崎修

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/44

CPC classification number: C23C14/564 ,  B01J3/006

Abstract: 本发明提供能够简化冷却用流路的配设结构的真空处理用腔室。本发明的真空处理用腔室，具有多片壁构件(1、2、3、4、11、12、13)，该壁构件(1、2、3、4、11、12、13)的表面的一部分形成接合面，该接合面之间气密接合形成的接合部，将所述多片壁构件(1、2、3、4、11、12、13)加以接合，构成腔室主体(100)的真空处理用腔室，至少一部分接合部(10)，是在接合面内形成沿该接合面延伸的间隙(30、31)，而且该接合面的周围利用焊接气密接合形成间隙内藏型接合部(10)。