真空成膜装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1385554A

    公开(公告)日:2002-12-18

    申请号:CN02107382.1

    申请日:2002-03-19

    CPC classification number: C23C14/547 C23C14/30 C23C14/505 C23C14/541

    Abstract: 一种真空成膜装置,包括用于保持内部空间的真空氛围气的成膜用真空腔和为辅助成膜而在所述真空腔内使用的辅助器具,所述辅助器具通过设于所述真空腔的开口部跨所述真空腔的内外而设置,固定于所述真空腔外设置的静止结构件上,同时,通过由可维持所述真空腔内的真空氛围气的材质形成并具有弹性的连接部件安装在所述真空腔上。

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