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公开(公告)号：CN100465357C
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200480010535.1
申请日：2004-04-23
Applicant: 斯特拉化学株式会社 , 株式会社福田结晶技术研究所
CPC classification number: C30B15/08 , C01B9/08 , C30B29/12 , Y10T117/10
Abstract: 提供可用极短的时间制造氟化物晶体的制造装置及制造方法。对装置实施改造，使之具有能处理氟化物的反应室、窗户材等，可进行高真空排气，且使种晶与熔融液容易接触，并且通过使用对坩埚坑部的毛细部进行了控制的坩埚，能够用短时间稳定地得到高品质的氟化物单晶。
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公开(公告)号：CN100434933C
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200480024303.1
申请日：2004-08-25
Applicant: 斯特拉化学株式会社
CPC classification number: G01T1/2023 , A61B6/037 , A61B6/4258
Abstract: 本发明提供一种闪烁体材料，具有优良的发光强度与衰减速度特性，并且容易培育结晶。闪烁体是Pr1-xCexF3(0＜x＜0.5)的结晶，可以在紫外线或可见光区域发出光线或射线。
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公开(公告)号：CN1639069A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN03804725.X
申请日：2003-02-27
Applicant: 斯特拉化学株式会社
CPC classification number: C22B3/0005 , C01G33/00 , C01G33/003 , C01G35/00 , C01G35/003 , C22B34/24 , Y02P10/234
Abstract: 本发明提供一种能够更为简便且低成本地进行高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制的高纯度铌化合物和/或钽化合物的精制方法。其特征在于，将有机溶剂添加于含有不纯物的铌化合物和/或钽化合物所溶解的水溶液中后，进行提取。其特征在于，使用对溶解液进行晶析后所得到的结晶制成前述水溶液。
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公开(公告)号：CN1549798A
公开(公告)日：2004-11-24
申请号：CN02816809.7
申请日：2002-09-02
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C03C15/00 , H01L21/308 , H05B33/02 , H05B33/10
Abstract: 本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以(2/5)*x1＜x＜x2的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x1时具有极小值f(x1)、x＝x2时具有f(x)＝{f(x2)}/2。
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公开(公告)号：CN100347346C
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200480020566.5
申请日：2004-07-20
Applicant: 斯特拉化学株式会社 , 株式会社福田结晶技术研究所
Abstract: 本发明提供一种可以制造任意形状的氟化物晶体的氟化物晶体的制造方法。本发明是通过从容纳氟化物原料的熔融液且底部具有孔的坩埚中下拉单晶来制造氟化物单晶的氟化物晶体的制造方法，其特征在于，使位于前述孔的出口部的面形成为所希望的任意的面形状来进行单晶的下拉。通过使用能够对应于氟化物的坩埚材料的碳、铂、铱，并设置考虑了与各个氟化物之间的润湿性的坩埚的形状，可以育成适合目的形状的氟化物晶体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1312329C
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN02804711.7
申请日：2002-02-07
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C30B29/12
CPC classification number: C30B31/06 , C01F11/22 , C01F17/0062 , C01P2004/60 , C01P2004/61 , C01P2006/80 , C30B29/12 , C30B33/02 , Y10T436/19
Abstract: 提供减少高纯度氟化物如氟化钙和氟化钡(高纯度氟化物不局限于氟化钙和氟化钡)中或稀土元素氟化物如氟化镱和氟化铈中的氧和碳组分的方法，这些氟化物被用于光学纤维、涂料等。本发明方法的特征在于高纯度氟化物中含有的氧和碳组分可通过氟气处理来减少。
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公开(公告)号：CN1270993C
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN02816809.7
申请日：2002-09-02
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C03C15/00 , H01L21/308 , H05B33/02 , H05B33/10
Abstract: 本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以(2/5)×x1＜x＜x2的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x1时具有极小值f(x1)、x＝x2时具有f(x)＝{f(x2)}/2。
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公开(公告)号：CN100364910C
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN02816597.7
申请日：2002-08-26
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C03C15/00 , H01L21/306
CPC classification number: C03C15/00
Abstract: 本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸以及氟化铵、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸以及至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以x＞x1的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x1时具有极大值f(x1)、x＝x2(其中x1＜x2)时具有极小值f(x2)。
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公开(公告)号：CN1653033A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03811021.0
申请日：2003-04-17
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C07C209/84 , C07C211/63 , H01M10/40 , H01G9/038
CPC classification number: H01G9/038 , C07C209/84 , H01G11/62 , H01M6/166 , H01M10/0568 , H01M2300/0025 , Y02E60/13 , C07C211/63
Abstract: 本发明提供一种四级烷基铵盐的精制方法，利用该方法可以高收率地得到适合作为电解液的电解质的水分含量低的粒子状的四级烷基铵四氟硼酸盐类。该方法的特征在于，包括使被精制的四级烷基铵盐分散在有机溶剂中而形成悬浊液的步骤。烷基的碳原子数为1～5的范围内。在使被精制的四级烷基铵盐分散至有机溶剂中制成悬浊液的步骤后，利用醇溶剂洗涤。
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公开(公告)号：CN1823183A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200480020566.5
申请日：2004-07-20
Applicant: 斯特拉化学株式会社 , 株式会社福田结晶技术研究所
Abstract: 本发明提供一种可以制造任意形状的氟化物晶体的氟化物晶体的制造方法。本发明是通过从容纳氟化物原料的熔融液且底部具有孔的坩埚中下拉单晶来制造氟化物单晶的氟化物晶体的制造方法，其特征在于，使位于前述孔的出口部的面形成为所希望的任意的面形状来进行单晶的下拉。通过使用能够对应于氟化物的坩埚材料的碳、铂、铱，并设置考虑了与各个氟化物之间的润湿性的坩埚的形状，可以育成适合目的形状的氟化物晶体。
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