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公开(公告)号：CN100364910C
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN02816597.7
申请日：2002-08-26
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C03C15/00 , H01L21/306
CPC classification number: C03C15/00
Abstract: 本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸以及氟化铵、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸以及至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以x＞x1的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x1时具有极大值f(x1)、x＝x2(其中x1＜x2)时具有极小值f(x2)。
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公开(公告)号：CN1270993C
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN02816809.7
申请日：2002-09-02
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C03C15/00 , H01L21/308 , H05B33/02 , H05B33/10
Abstract: 本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以(2/5)×x1＜x＜x2的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x1时具有极小值f(x1)、x＝x2时具有f(x)＝{f(x2)}/2。
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公开(公告)号：CN1549798A
公开(公告)日：2004-11-24
申请号：CN02816809.7
申请日：2002-09-02
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C03C15/00 , H01L21/308 , H05B33/02 , H05B33/10
Abstract: 本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以(2/5)*x1＜x＜x2的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x1时具有极小值f(x1)、x＝x2时具有f(x)＝{f(x2)}/2。
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公开(公告)号：CN1608037A
公开(公告)日：2005-04-20
申请号：CN02816597.7
申请日：2002-08-26
Applicant: 斯特拉化学株式会社
IPC: C03C15/00 , H01L21/306
CPC classification number: C03C15/00
Abstract: 本发明提供可以使得含有多成分的例如液晶或者有机EL等平板显示器用的玻璃基板本身不产生结晶析出以及不产生表面粗糙而进行加工的含有多成分的玻璃基板用的具有均匀组成的微细加工表面处理液。该处理液的特征在于，含有氢氟酸以及氟化铵、同时含有至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸。该处理液为含有氢氟酸以及至少一种以上酸离解常数比氢氟酸大的酸的药液，其特征在于，在酸离解常数比氢氟酸大的所述酸的含量为x、蚀刻玻璃基板的液温下该药液对于热硅氧化膜的蚀刻速率为f(x)[/min]时，该药液以x＞x1的范围含有酸离解常数比氢氟酸大的所述酸，其中在x＝x1时具有极大值f(x1)、x＝x2(其中x1＜x2)时具有极小值f(x2)。
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