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公开(公告)号：CN115815087B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202211601457.9
申请日：2022-12-13
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
Abstract: 本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种紫外固化设备。紫外固化设备包括真空腔室，真空腔室内设有喷淋板和晶圆载盘，晶圆载盘位于喷淋板的下方，真空腔室内还包括分气环；分气环为环体结构，其环周顶部与喷淋板的周向下边沿相抵接设置；其环形内壁朝向真空腔室的内部设置，且环形内壁沿其周向设有多个分气孔；分气环的环形内壁、环周顶部、环形外壁和环周底部依次相接合围成环形气道，分气孔与环形气道相通设置，将环形气道内的气体通入至真空腔室的内部；晶圆载盘设置为可升降结构，其朝靠近或远离分气环的方向升降。紫外固化设备解决了真空腔室清洗效果不佳，导致单次设备维护与保养时间短、单次跑片数量低、成本过高的技术问题。
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公开(公告)号：CN114280701A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202111662110.0
申请日：2021-12-30
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种光学照明装置及光学改性设备，该光学照明装置包括两个线光源和扫描反射部件，所述扫描反射部件具有两个反射面，每个所述线光源设有一个光调制部件，所述光调制部件用于将所述线光源发出的光线调制为平行光且匀化后形成具有设定长度的光带，两个所述反射面分别用于接收两个所述光带，并将两个所述光带反射至同一处理件的工作面；还包括驱动部件，所述驱动部件用于驱动所述扫描反射部件沿设定方向往复运动，所述设定方向为平行于所述工作面的方向。该光学照明装置的结构设置能够提高局部辐照能量密度，使目标工作面的不同区域受到的辅助总能量相对均匀，同时还能够提高产能。
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公开(公告)号：CN114323263B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202111662085.6
申请日：2021-12-30
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
IPC: G01J1/00
Abstract: 本发明公开了一种UV光检测结构及UV处理设备，所述UV光检测结构包括机体和设于所述机体内部的UV光源和光反射器，所述光反射器用于反射所述UV光源发出的UV光，以使所述UV光照射由所述光发射器所限定的工作区域，所述机体内部具有位于所述工作区域外侧的间隙空间，并具有用于将UV光源的部分余光从边侧漏出至所述间隙空间的透光结构；所述机体设有光传感器，所述光传感器的检测端位于所述间隙空间内，以检测所述UV光源从所述透光结构漏出至所述间隙空间的余光。该检测结构在不干扰UV光处理效果以及不影响UV处理设备内部空间布局的前提下，可以实时监测UV灯的光照情况，获得光学相关参数，而且，结构简单、易于安装，便于进行后期维护。
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公开(公告)号：CN114325889A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111662134.6
申请日：2021-12-30
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种光学照明装置及光学改性设备，该光学照明装置包括线光源、光调制部件、中继反射部件和两个扫描反射镜，光调制部件用于将线光源发出的光线调制成平行光，且匀化后形成具有设定长度的光带，中继反射部件具有两个反射面，用于将光带反射至两个扫描反射镜，两个扫描反射镜用于将接收的光线分别反射至两个处理件的工作面；还包括驱动部件，驱动部件用于驱动扫描反射镜沿设定方向往复运动，设定方向为平行于工作面的方向；或者，扫描反射镜为球面镜，扫描反射镜反射至工作面的光线范围至少覆盖工作面。该光学照明装置的结构设置能够提高局部辐照能量密度，使目标工作面的不同区域受到的辐照总能量相对更均匀，同时还能够节约成本。
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公开(公告)号：CN115793411A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211598761.2
申请日：2022-12-12
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种用于半导体工艺的UV照射装置及半导体工艺设备，包括：UV光源，置于待加工的半导体器件上方以沿竖直方向照射半导体器件的待加工表面；分光镜，分光镜设于UV光源与半导体器件之间，分光镜包括分别覆盖UV光源照射范围的斜面和底面，斜面设有紫外反射图层以反射UV光源发出的紫外光，底面为设有红外阻挡图层的挡板以阻挡UV光源发出的红外光透射至半导体器件的待加工表面；以及紫外反射镜，紫外反射镜与分光镜设于同一水平位置，配置用于接收分光镜反射的紫外光后，再将该些紫外光反射并覆盖至半导体器件的待加工表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114256111A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202111669165.4
申请日：2021-12-30
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本申请实施例提供一种UV微波屏蔽结构和反应腔设备，用于屏蔽UV光源的微波，所述UV微波屏蔽结构包括透光基座，所述透光基座内部设置有金属网。透光基座内部设置金属网，透光基座在不影响紫外线对待处理产品的照射的前提下，作为金属网的支撑结构件，且金属网位于透光基座内部，可以得到保护，则金属网处于相对稳定的状态，不易偏移、变形等，从而更好地发挥其屏蔽微波的功能，使用寿命也更长。此外，也正因为金属网的结构稳定，金属网的网格尺寸可以设置的更大，金属网的金属线的直径也可以设置的更小，也就说可以设置的更细，从而节省材料。
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公开(公告)号：CN115815087A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211601457.9
申请日：2022-12-13
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
Abstract: 本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种紫外固化设备。紫外固化设备包括真空腔室，真空腔室内设有喷淋板和晶圆载盘，晶圆载盘位于喷淋板的下方，真空腔室内还包括分气环；分气环为环体结构，其环周顶部与喷淋板的周向下边沿相抵接设置；其环形内壁朝向真空腔室的内部设置，且环形内壁沿其周向设有多个分气孔；分气环的环形内壁、环周顶部、环形外壁和环周底部依次相接合围成环形气道，分气孔与环形气道相通设置，将环形气道内的气体通入至真空腔室的内部；晶圆载盘设置为可升降结构，其朝靠近或远离分气环的方向升降。紫外固化设备解决了真空腔室清洗效果不佳，导致单次设备维护与保养时间短、单次跑片数量低、成本过高的技术问题。
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公开(公告)号：CN114323263A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111662085.6
申请日：2021-12-30
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
IPC: G01J1/00
Abstract: 本发明公开了一种UV光检测结构及UV处理设备，所述UV光检测结构包括机体和设于所述机体内部的UV光源和光反射器，所述光反射器用于反射所述UV光源发出的UV光，以使所述UV光照射由所述光发射器所限定的工作区域，所述机体内部具有位于所述工作区域外侧的间隙空间，并具有用于将UV光源的部分余光从边侧漏出至所述间隙空间的透光结构；所述机体设有光传感器，所述光传感器的检测端位于所述间隙空间内，以检测所述UV光源从所述透光结构漏出至所述间隙空间的余光。该检测结构在不干扰UV光处理效果以及不影响UV处理设备内部空间布局的前提下，可以实时监测UV灯的光照情况，获得光学相关参数，而且，结构简单、易于安装，便于进行后期维护。
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公开(公告)号：CN219555545U
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202223346448.8
申请日：2022-12-13
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种微波屏蔽结构和一种半导体器件的加工设备。该微波屏蔽结构包括金属屏蔽网，其中，所述金属屏蔽网设置于反应腔室内的光源下方的开口处，其外部覆盖支撑板，其特征在于，所述支撑板具有调光结构，用以调整经过所述微波屏蔽结构的光线的光谱和/或光路。通过采用上述微波屏蔽结构，对光路系统进行调整，不仅增强了滤光功能，加大了紫外线的透过率并减少了其他波段的光线的干扰，而且能够获得更均匀的紫外光线的光谱分布。
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公开(公告)号：CN216559388U
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202123366057.8
申请日：2021-12-28
Applicant: 拓荆科技股份有限公司
Abstract: 本申请涉及一种用于检测晶圆表面温度的检测装置，包括安装部、热偶和探头，热偶安装于安装部，并且探头设于热偶的检测端；安装部能够固定于机台外，且热偶的检测端能够插入机台的侧壁并进入机台的腔体内，使探头接触晶圆的表面，热偶和机台的侧壁之间沿热偶的周向密封；热偶的外表面包裹有隔热部件。该检测装置能够准确测量晶圆在机台的腔体内加工时的表面温度。
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