二氧化碳激光的光束整形设备以及光束整形方法

    公开(公告)号:CN116184681B

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202310468102.5

    申请日:2023-04-27

    IPC分类号: G02B27/09

    摘要: 本申请公开了一种二氧化碳激光的光束整形设备以及光束整形方法,属于光学技术领域。该光束整形设备包括沿激光光束的入射方向依次设置的第一镜组、偏振调节系统、第二镜组、积分镜、AOI模组和短轴聚焦模组;其中,第一镜组包括对称设置的凹面形离轴抛物镜和凸面形离轴抛物镜;偏振调节系统包括沿激光光束的入射方向设置的半波片和薄膜偏振器;第二镜组包括对称设置的凸面形柱面镜和凹面形柱面镜。通过该光束整形设备以及方法将高斯分布的二氧化碳激光光束整形为线形平顶光束,线性光斑均匀性提升,同时对激光功率利用率可提高至80%以上,从而降低能耗及维护成本,并提高装备稳定性及可靠性。

    一种光束整形模组、方法及装置

    公开(公告)号:CN116931286B

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202311188945.6

    申请日:2023-09-15

    IPC分类号: G02B27/09

    摘要: 本申请实施例提供一种光束整形模组、方法及装置,涉及光学技术领域,模组包括顺序设置的鲍威尔棱镜、平凸球面透镜和若干个平凸柱面透镜;鲍威尔棱镜用于接收单模高斯光束并将其整形为扇形发散的X轴方向为线性分布的第一光斑;其中,单模高斯光束的光斑尺寸范围为0.65‑0.75mm;平凸球面透镜用于固定第一光斑的Y轴方向宽度至目标宽度范围内并压缩第一光斑的X轴方向长度以得到第二光斑;若干个平凸柱面透镜用于将第二光斑的X轴方向长度压缩至目标长度范围内以得到目标线性平顶光束。解决了现有技术中激光生成的线斑存在顶部能量分布均匀性不佳等缺点,很难满足激光退火高均匀性和高稳定性的要求的问题。

    应用于激光退火系统的温度控制方法和激光退火系统

    公开(公告)号:CN117238801A

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN202310997052.X

    申请日:2023-08-08

    摘要: 本发明的实施例提供一种应用于激光退火系统的温度控制方法和激光退火系统,涉及激光退火领域。该方法中,在二氧化碳激光器开启且近红外预热激光器关闭时,利用硅基温度检测模块检测晶圆表面的温度,并生成指示晶圆表面的温度的第一温度信号;利用温度控制模块根据第一温度信号和第一预设温度值控制二氧化碳激光器产生第一目标功率的激光;在二氧化碳激光器和近红外预热激光器均开启时,利用固体半导体检测器通过焦距可调倍镜检测晶圆表面的温度,并生成指示晶圆表面的温度的第二温度信号;利用温度控制模块根据第二温度信号和第二预设温度值控制激光器组产生第二目标功率的激光;以及,根据第二目标功率设置焦距可调倍镜的放大倍数。

    二氧化碳激光的光束整形设备以及光束整形方法

    公开(公告)号:CN116184681A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202310468102.5

    申请日:2023-04-27

    IPC分类号: G02B27/09

    摘要: 本申请公开了一种二氧化碳激光的光束整形设备以及光束整形方法,属于光学技术领域。该光束整形设备包括沿激光光束的入射方向依次设置的第一镜组、偏振调节系统、第二镜组、积分镜、AOI模组和短轴聚焦模组;其中,第一镜组包括对称设置的凹面形离轴抛物镜和凸面形离轴抛物镜;偏振调节系统包括沿激光光束的入射方向设置的半波片和薄膜偏振器;第二镜组包括对称设置的凸面形柱面镜和凹面形柱面镜。通过该光束整形设备以及方法将高斯分布的二氧化碳激光光束整形为线形平顶光束,线性光斑均匀性提升,同时对激光功率利用率可提高至80%以上,从而降低能耗及维护成本,并提高装备稳定性及可靠性。

    应用于激光退火系统的温度控制方法和激光退火系统

    公开(公告)号:CN117238801B

    公开(公告)日:2024-09-13

    申请号:CN202310997052.X

    申请日:2023-08-08

    摘要: 本发明的实施例提供一种应用于激光退火系统的温度控制方法和激光退火系统,涉及激光退火领域。该方法中,在二氧化碳激光器开启且近红外预热激光器关闭时,利用硅基温度检测模块检测晶圆表面的温度,并生成指示晶圆表面的温度的第一温度信号;利用温度控制模块根据第一温度信号和第一预设温度值控制二氧化碳激光器产生第一目标功率的激光;在二氧化碳激光器和近红外预热激光器均开启时,利用固体半导体检测器通过焦距可调倍镜检测晶圆表面的温度,并生成指示晶圆表面的温度的第二温度信号;利用温度控制模块根据第二温度信号和第二预设温度值控制激光器组产生第二目标功率的激光;以及,根据第二目标功率设置焦距可调倍镜的放大倍数。

    光斑的分析方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN118279309A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202410705140.2

    申请日:2024-06-03

    IPC分类号: G06T7/00 G06T7/66 G06T7/73

    摘要: 本申请提供一种光斑的分析方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取目标图像中的光斑图像;构建坐标系,并计算光斑图像在坐标系的质心坐标;获取在光斑图像中特定直线上的光强分布;其中,特定直线过质心坐标;以及基于光强分布计算光斑图像的光斑特性参数。该方法通过计算光斑图像的质心坐标,并基于质心坐标计算经过该光斑质心坐标的特定直线上的光强分布。以基于该光强分布计算光斑分析所需的光斑特性参数,提高了对光斑进行分析的准确性。

    应用于激光退火系统的温度控制方法和激光退火系统

    公开(公告)号:CN115903940A

    公开(公告)日:2023-04-04

    申请号:CN202310018788.8

    申请日:2023-01-06

    摘要: 本发明的实施例提供一种应用于激光退火系统的温度控制方法和激光退火系统,涉及激光退火领域。该方法中,温度检测模块检测晶圆表面的温度,并生成指示晶圆表面的温度的温度信号;温度控制模块根据温度信号和预设温度值生成模拟电压信号,并向激光发生模块发送模拟电压信号;在激光发生模块的激光照射位置进入晶圆表面的退火区域时,激光发生模块根据模拟电压信号产生目标功率的激光,目标功率的激光用于对晶圆进行退火,并且使得晶圆表面的温度达到预设温度值;在激光发生模块的激光照射位置离开晶圆表面的退火区域时,激光发生模块根据预设模拟电压产生预设功率的激光,预设功率小于目标功率。本方案能够提升激光退火温度的稳定性和准确性。

    一种光束整形模组、方法及装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116931286A

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202311188945.6

    申请日:2023-09-15

    IPC分类号: G02B27/09

    摘要: 本申请实施例提供一种光束整形模组、方法及装置,涉及光学技术领域,模组包括顺序设置的鲍威尔棱镜、平凸球面透镜和若干个平凸柱面透镜;鲍威尔棱镜用于接收单模高斯光束并将其整形为扇形发散的X轴方向为线性分布的第一光斑;其中,单模高斯光束的光斑尺寸范围为0.65‑0.75mm;平凸球面透镜用于固定第一光斑的Y轴方向宽度至目标宽度范围内并压缩第一光斑的X轴方向长度以得到第二光斑;若干个平凸柱面透镜用于将第二光斑的X轴方向长度压缩至目标长度范围内以得到目标线性平顶光束。解决了现有技术中激光生成的线斑存在顶部能量分布均匀性不佳等缺点,很难满足激光退火高均匀性和高稳定性的要求的问题。

    一种用于晶圆激光退火的挡光环及其制备方法

    公开(公告)号:CN115841973B

    公开(公告)日:2023-04-28

    申请号:CN202310127876.1

    申请日:2023-02-17

    摘要: 本申请公开了一种用于晶圆激光退火的挡光环及其制备方法,属于半导体晶圆技术领域,该制备方法包括:对石英玻璃的上表面进行抛光处理后,采用激光隐形切割方式对石英玻璃进行切割,得到挡光环粗品;对挡光环粗品的下表面进行表面磨制,再对挡光环粗品的内环断面进行磨制,以及对挡光环粗品进行超声波清洗以及激光预处理,得到挡光环。这种挡光环的上表面为抛光面,对0.2~0.9μm波长的激光能量几乎无能量吸收,因此具有极强的抗激光损伤能力,也不易产生颗粒。同时,这种挡光环的下表面经磨砂处理后,聚焦的锥形光束在磨砂面上从内向外散射,形成较大的散射斑,大幅降低辐射至晶圆边缘上的激光能量密度,从而达到很好的挡光效果。

    一种用于晶圆激光退火的挡光环及其制备方法

    公开(公告)号:CN115841973A

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202310127876.1

    申请日:2023-02-17

    摘要: 本申请公开了一种用于晶圆激光退火的挡光环及其制备方法,属于半导体晶圆技术领域,该制备方法包括:对石英玻璃的上表面进行抛光处理后,采用激光隐形切割方式对石英玻璃进行切割,得到挡光环粗品;对挡光环粗品的下表面进行表面磨制,再对挡光环粗品的内环断面进行磨制,以及对挡光环粗品进行超声波清洗以及激光预处理,得到挡光环。这种挡光环的上表面为抛光面,对0.2~0.9μm波长的激光能量几乎无能量吸收,因此具有极强的抗激光损伤能力,也不易产生颗粒。同时,这种挡光环的下表面经磨砂处理后,聚焦的锥形光束在磨砂面上从内向外散射,形成较大的散射斑,大幅降低辐射至晶圆边缘上的激光能量密度,从而达到很好的挡光效果。