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公开(公告)号：CN107393795A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710707294.5
申请日：2011-02-26
申请人： 恩特格里斯公司
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317 , H01L21/265
CPC分类号： H01L21/2225 , F17C7/00 , H01J37/08 , H01J37/3002 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/304 , H01L21/223 , H01L21/26506 , Y02E60/321 , Y10T428/13
摘要： 本申请涉及用于提高离子注入系统中的离子源的寿命和性能的方法和设备，并提供一种离子注入系统和方法，其中，通过利用富含同位素的掺杂剂材料，来提高离子注入系统的离子源的性能和寿命，或通过利用具有可有效地提供这种提高的补充气体的掺杂剂材料来实现。
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公开(公告)号：CN107578972A
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201710706402.7
申请日：2011-02-26
申请人： 恩特格里斯公司
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/30 , H01J37/317 , H01L21/22 , H01L21/223 , H01L21/265 , F17C7/00
CPC分类号： H01L21/2225 , F17C7/00 , H01J37/08 , H01J37/3002 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/304 , H01L21/223 , H01L21/26506 , Y02E60/321 , Y10T428/13
摘要： 本申请涉及用于提高离子注入系统中的离子源的寿命和性能的方法和设备，并提供一种离子注入系统和方法，其中，通过利用富含同位素的掺杂剂材料，来提高离子注入系统的离子源的性能和寿命，或通过利用具有可有效地提供这种提高的补充气体的掺杂剂材料来实现。
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公开(公告)号：CN105905916B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201610452337.5
申请日：2012-10-09
申请人： 恩特格里斯公司
IPC分类号： C01B35/06
摘要： 本申请提供一种B2F4制造方法。具体地，提供一种用于由固体反应物材料制备化合物或中间体的反应系统和方法。本发明形成B2F4的方法包括：(i)使BF3气体和含硼固体反应，以形成包含BF和未反应的BF3气体的第一气态混合物；(ii)在有效冷凝第一气态混合物的温度和压力条件下冷却第一气态混合物，以形成第一冷凝产物；(iii)使载气流过反应器并使第一冷凝产物挥发，以形成包含B2F4和BF3的第二气态混合物；(iv)过滤第二气态混合物，以除去颗粒；以及(v)回收来自第二气态混合物的B2F4。
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公开(公告)号：CN104105662B
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201280060937.7
申请日：2012-10-09
申请人： 恩特格里斯公司
CPC分类号： C01B35/061 , B01J3/03 , B01J7/00 , B01J15/00 , B01J19/0073 , B01J19/129 , B01J2219/00094 , B01J2219/00148 , B01J2219/0254 , B01J2219/0272 , B01J2219/0277 , B01J2219/0886 , Y02P20/149
摘要： 提供一种用于由固体反应物材料制备化合物或中间体的反应系统和方法。在一个特定方面中，提供用于制备用作用于基板中硼的离子注入的前体的含硼前体化合物的反应系统和方法。在另一个特定方面中，提供用于制造硼前体，如B2F4的反应器系统和方法。
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