具有凹进场板的半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN118281063A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202311318957.6

    申请日:2023-10-12

    摘要: 一种半导体装置包括具有上表面和沟道的半导体衬底、在所述半导体衬底的所述上表面上方的源极电极和漏极电极、在所述源极电极与所述漏极电极之间的钝化层、在所述源极电极与所述漏极电极之间的栅极电极,以及邻近于所述栅极电极的导电场板。所述钝化层包括下部钝化子层和在所述下部钝化子层上方的上部钝化子层。所述栅极电极包括至少部分地延伸穿过所述钝化层的下部部分。所述导电场板包括延伸穿过所述上部钝化子层但不延伸穿过所述下部钝化子层的凹进区。所述导电场板和所述半导体衬底的所述上表面通过所述下部钝化子层的一部分分离。

    具有含凹进区和悬垂部分的场板的半导体装置及制造方法

    公开(公告)号:CN118263294A

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202311318951.9

    申请日:2023-10-12

    摘要: 一种半导体装置包括具有上表面和沟道的半导体衬底、在所述半导体衬底的所述上表面上方的源极电极和漏极电极、在所述源极电极与所述漏极电极之间的钝化层、在所述钝化层上方的第一介电层、在所述源极电极与所述漏极电极之间的栅极电极,以及邻近于所述栅极电极的导电场板。所述钝化层包括下部钝化子层和在所述下部钝化子层上方的上部钝化子层。所述栅极电极包括延伸穿过所述钝化层的下部部分。所述导电场板包括第一部分和悬垂部分,所述第一部分具有延伸穿过所述上部钝化子层但不延伸穿过所述下部钝化子层的凹进区,所述悬垂部分在所述第一介电层的上表面上方延伸。