像素界定层制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119110657A

    公开(公告)日:2024-12-10

    申请号:CN202410726665.4

    申请日:2024-06-06

    Inventor: 赵贤相 金庆洙

    Abstract: 本发明涉及像素界定层制备方法,包括涂布及涂层包含着色剂的感光性组合物,该着色剂的平均粒度尺寸为60nm至140nm;预烘烤;曝光;显影;后曝光;以及后烘处理;所述后烘处理步骤在200℃至300℃烤箱实施30分钟至120分钟,后烘处理步骤后,Full‑tone的厚度为2.80μm至3.20μm,Half‑tone的厚度为1.00μm至1.90μm,无残渣。

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