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公开(公告)号：CN115362138B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202180022483.3
申请日：2021-02-24
申请人： 康宁股份有限公司
发明人： J·S·小阿博特 , T·H·弗莱切 , S·戈麦斯-莫尔 , K·E·贺迪纳 , D·A·斯特恩奎斯特
IPC分类号： C03C21/00
摘要： 本文所述的实施方式涉及用于强化玻璃制品的组合物、体系和方法，同时还使得用于离子交换工艺的熔融盐浴中的分解产物的浓度最小化，以延长盐浴寿命并维持经强化的玻璃制品随着时间的化学耐久性。所述盐浴组合物一般可以包含90重量％至99.9重量％的一种或多种碱或金属盐以及0.1重量％至10重量％的硅酸聚集体，基于盐浴组合物的总重量计。
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公开(公告)号：CN103108842A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201180040566.1
申请日：2011-08-12
申请人： 康宁股份有限公司
CPC分类号： C03C17/32 , B32B17/064 , C03C15/00 , C03C19/00 , Y10T428/315
摘要： 一种强化玻璃制品的边缘同时保持该制品主表面或者沉积在制品表面上的保护层或结构的光学透明度的方法。在玻璃制品的至少一个表面上施加有聚合物或聚合物树脂的保护涂层或膜。所述表面可熔化产生或经过抛光，以及/或者经过化学强化或热强化。用蚀刻剂蚀刻边缘以减小边缘上瑕疵的尺寸并减少其数量，从而强化边缘。还提供了具有通过该方法强化的边缘的玻璃制品。
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公开(公告)号：CN113614045A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080022588.4
申请日：2020-01-15
申请人： 康宁股份有限公司
摘要： 透明工件的加工方法包括：引导脉冲激光束进入透明工件中，使得被引导进入到透明工件中的一部分的脉冲激光束在透明工件中产生感应吸收，从而在透明工件内形成损坏线，以及被引导进入到透明工件中的那部分的脉冲激光束包括：波长λ，光斑尺寸wo，和大于FD(方程式(I))的瑞利范围ZR，式中，FD是包含10或更大数值的无量纲发散性因子。此外，对透明工件进行加工的方法包括：用蚀刻蒸汽对透明工件进行蚀刻从而沿着损坏线去除至少一部分的透明工件，从而形成延伸穿过所述至少一部分的透明工件厚度的孔隙。
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公开(公告)号：CN103797405A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201280042951.4
申请日：2012-07-06
申请人： 康宁股份有限公司
CPC分类号： H01L27/1262 , C03C15/02 , G02F1/1333 , H01L21/02019 , H01L33/58 , Y10T428/1095
摘要： 公开的是受控的化学蚀刻方法，该方法用于改性薄的玻璃基材和由该玻璃基材形成的玻璃基材组件中表面瑕疵的几何形貌，且特别用于适于制造有源矩阵显示器的玻璃基材，该玻璃基材基本上不含如Na2O、K2O和Li2O的碱金属氧化物。
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公开(公告)号：CN102448904A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080024906.7
申请日：2010-03-26
申请人： 康宁股份有限公司
CPC分类号： C03C15/00 , C03C23/00 , C03C2217/77 , C09G1/00
摘要： 一种具有防眩光表面的玻璃制品。所述防眩光表面的反射图像清晰度小于95，雾度小于或等于50％。在一个实施方式中，所述玻璃制品还包括设置在所述防眩光表面上的防污染表面。本发明还描述了制备所述玻璃制品和防眩光表面的方法。
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公开(公告)号：CN115362138A
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN202180022483.3
申请日：2021-02-24
申请人： 康宁股份有限公司
发明人： J·S·小阿博特 , T·H·弗莱切 , S·戈麦斯-莫尔 , K·E·贺迪纳 , D·A·斯特恩奎斯特
IPC分类号： C03C21/00
摘要： 本文所述的实施方式涉及用于强化玻璃制品的组合物、体系和方法，同时还使得用于离子交换工艺的熔融盐浴中的分解产物的浓度最小化，以延长盐浴寿命并维持经强化的玻璃制品随着时间的化学耐久性。所述盐浴组合物一般可以包含90重量％至99.9重量％的一种或多种碱或金属盐以及0.1重量％至10重量％的硅酸聚集体，基于盐浴组合物的总重量计。
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公开(公告)号：CN103797405B
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201280042951.4
申请日：2012-07-06
申请人： 康宁股份有限公司
CPC分类号： H01L27/1262 , C03C15/02 , G02F1/1333 , H01L21/02019 , H01L33/58 , Y10T428/1095
摘要： 公开的是受控的化学蚀刻方法，该方法用于改性薄的玻璃基材和由该玻璃基材形成的玻璃基材组件中表面瑕疵的几何形貌，且特别用于适于制造有源矩阵显示器的玻璃基材，该玻璃基材基本上不含如Na2O、K2O和Li2O的碱金属氧化物。
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