用于强化玻璃制品的表面瑕疵改性
摘要:
公开的是受控的化学蚀刻方法,该方法用于改性薄的玻璃基材和由该玻璃基材形成的玻璃基材组件中表面瑕疵的几何形貌,且特别用于适于制造有源矩阵显示器的玻璃基材,该玻璃基材基本上不含如Na2O、K2O和Li2O的碱金属氧化物。
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