-
公开(公告)号:CN115151516A
公开(公告)日:2022-10-04
申请号:CN202180014557.9
申请日:2021-01-05
申请人: 康宁公司
摘要: 用于处理基板的设备和方法,例如纹理化基板。在一些实施例中,将掩蔽材料按预定图案施加至所述基板的表面,然后用去除所述掩蔽材料的蚀刻剂接触所述表面。用所述蚀刻剂接触所述表面产生多个共定位纹理。在其他实施例中,可消除所述掩蔽步骤,并以预定图案施加所述蚀刻剂,以产生多个共定位纹理。在又其他实施例中,所述基板具有化学组成,并且所述基板暴露在浸出剂中,所述浸出剂浸出所述化学组成中的至少一种成分,以产生在所述基板表面处具有不同化学组成的基板。
-
-
公开(公告)号:CN116924685A
公开(公告)日:2023-10-24
申请号:CN202310346886.4
申请日:2023-04-03
申请人: 康宁公司
IPC分类号: C03C11/00 , C03C3/06 , C03B20/00 , C03B5/16 , C03B17/06 , C03C15/00 , C03C3/093 , C03C3/095 , C03C3/091
摘要: 一种使用包括富含氧化硅的第一相和富含硼的第二相的相分离硅酸盐玻璃制作玻璃制品的方法。相分离氧化硅玻璃用蚀刻剂进行蚀刻以除去第二相的至少一部分并获得高氧化硅含量的多孔玻璃制品。多孔玻璃制品可进行热处理以固结该多孔玻璃制品从而闭合该多孔玻璃制品的孔并获得具有非常低介电性质的经固结的玻璃制品。公开了通过调幅分解而相分离的各种玻璃组合物。
-
公开(公告)号:CN118804901A
公开(公告)日:2024-10-18
申请号:CN202280088766.2
申请日:2022-12-13
申请人: 康宁公司
摘要: 一种蚀刻剂包括:大于或等于20wt%且小于或等于45wt%的二氟化铵;大于或等于0.25wt%且小于或等于10wt%的硅化合物;大于或等于5wt%且小于或等于30wt%的氢氯酸;大于或等于25wt%且小于或等于60wt%的水;以及大于或等于0.5wt%且小于或等于20wt%的多元醇。所述硅化合物包括硅石、硅凝胶、六氟硅酸铵、六氟硅酸钾、六氟硅酸钠、六氟硅酸镁或前述项的组合。
-
公开(公告)号:CN217838744U
公开(公告)日:2022-11-18
申请号:CN202221121076.6
申请日:2022-05-10
申请人: 康宁公司
发明人: 加布里埃尔·皮尔斯·阿涅洛 , 大卫·迈克尔·卡布雷拉 , 梅勒妮·莲·盖格 , 静贺 , 李艾泽 , 克里斯汀·库尔特·沃尔科特
摘要: 纹理基板包括纹理表面,所述纹理表面包含第一特征、第二特征、第三特征或第四特征中的两个或更多个。第一特征包括约40纳米至约300纳米的高度和约800纳米至约3微米的最大维度。第二特征包括约10纳米至约70纳米的高度和约200纳米至约800纳米的最大维度。第三特征包括约5纳米至约30纳米的深度和约500纳米至约5微米的最大维度。第四特征包括约3纳米至约10纳米的高度和约10纳米至约100纳米的最大维度。
-
-
-
-