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公开(公告)号：CN111902381A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980022212.0
申请日：2019-03-07
申请人： 康宁公司
发明人： 加布里埃尔·P·阿格尼欧 , T·V·布朗 , 静贺 , N·Z·哲列夫
摘要： 公开了处理或修改玻璃基板(诸如玻璃片)的方法。所述方法包括：使所述玻璃片的相对主表面中的至少一个与流体施加器设备和液体蚀刻剂组合物接触，所述液体蚀刻剂组合物包括乙酸、氟化氨和水，所述接触是以所述液体蚀刻剂向所述相对主表面中的所述至少一个转移的预定速率进行。控制所述预定液体转移速率，以可调整地使所述相对主表面中的所述至少一个纹理化并提供纹理化主表面，其中当所述纹理化主表面和平面表面被放置成接触时，在所述纹理化主表面与所述平面表面之间之间存在粘附力，并且其中所述粘附力在目标粘附力范围内。
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公开(公告)号：CN111902380A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980022067.6
申请日：2019-03-05
申请人： 康宁公司
发明人： 加布里埃尔·P·阿格尼欧 , 静贺 , 克莉丝汀·库尔特·沃尔科特
摘要： 公开了具有纹理化表面的基板。当与未纹理化但原本相同的玻璃基板相比较时，所述纹理化玻璃基板展现低的雾度以及显著地减少的接触静电带电。本发明也公开了通过原位掩模蚀刻工艺产生所述纹理化表面的方法。
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公开(公告)号：CN111902381B
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN201980022212.0
申请日：2019-03-07
申请人： 康宁公司
发明人： 加布里埃尔·P·阿格尼欧 , T·V·布朗 , 静贺 , N·Z·哲列夫
摘要： 公开了处理或修改玻璃基板(诸如玻璃片)的方法。所述方法包括：使所述玻璃片的相对主表面中的至少一个与流体施加器设备和液体蚀刻剂组合物接触，所述液体蚀刻剂组合物包括乙酸、氟化氨和水，所述接触是以所述液体蚀刻剂向所述相对主表面中的所述至少一个转移的预定速率进行。控制所述预定液体转移速率，以可调整地使所述相对主表面中的所述至少一个纹理化并提供纹理化主表面，其中当所述纹理化主表面和平面表面被放置成接触时，在所述纹理化主表面与所述平面表面之间存在粘附力，并且其中所述粘附力在目标粘附力范围内。
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公开(公告)号：CN111902380B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201980022067.6
申请日：2019-03-05
申请人： 康宁公司
发明人： 加布里埃尔·P·阿格尼欧 , 静贺 , 克莉丝汀·库尔特·沃尔科特
摘要： 公开了具有纹理化表面的基板。当与未纹理化但原本相同的玻璃基板相比较时，所述纹理化玻璃基板展现低的雾度以及显著地减少的接触静电带电。本发明也公开了通过原位掩模蚀刻工艺产生所述纹理化表面的方法。
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公开(公告)号：CN217838744U
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN202221121076.6
申请日：2022-05-10
申请人： 康宁公司
发明人： 加布里埃尔·皮尔斯·阿涅洛 , 大卫·迈克尔·卡布雷拉 , 梅勒妮·莲·盖格 , 静贺 , 李艾泽 , 克里斯汀·库尔特·沃尔科特
摘要： 纹理基板包括纹理表面，所述纹理表面包含第一特征、第二特征、第三特征或第四特征中的两个或更多个。第一特征包括约40纳米至约300纳米的高度和约800纳米至约3微米的最大维度。第二特征包括约10纳米至约70纳米的高度和约200纳米至约800纳米的最大维度。第三特征包括约5纳米至约30纳米的深度和约500纳米至约5微米的最大维度。第四特征包括约3纳米至约10纳米的高度和约10纳米至约100纳米的最大维度。
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