-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106486335A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201610724716.5
申请日：2016-08-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本申请公开了利用二次等离子体注入的等离子体蚀刻系统及方法。一种等离子体处理装置包括：第一等离子体源；第一平面电极；气体分配设备；等离子体阻挡筛网；以及工件卡盘。所述第一等离子体源产生第一等离子体产物，所述第一等离子体产物从所述第一等离子体源离开，穿过所述第一平面电极中的第一孔隙。所述第一等离子体产物继续穿过所述气体分配设备中的第二孔隙。所述等离子体阻挡筛网包括具有第四孔隙的第三板，并且面对所述气体分配设备，使得所述第一等离子体产物穿过所述多个第四孔隙。所述工件卡盘面对所述等离子体阻挡筛网的第二侧，从而在所述等离子体阻挡筛网与所述工件卡盘之间限定工艺腔室。所述第四孔隙具有足够小的大小，以便阻挡所述工艺腔室中产生的等离子体到达所述气体分配设备。
-
公开(公告)号：CN106486335B
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201610724716.5
申请日：2016-08-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本申请公开了利用二次等离子体注入的等离子体蚀刻系统及方法。一种等离子体处理装置包括：第一等离子体源；第一平面电极；气体分配设备；等离子体阻挡筛网；以及工件卡盘。所述第一等离子体源产生第一等离子体产物，所述第一等离子体产物从所述第一等离子体源离开，穿过所述第一平面电极中的第一孔隙。所述第一等离子体产物继续穿过所述气体分配设备中的第二孔隙。所述等离子体阻挡筛网包括具有第四孔隙的第三板，并且面对所述气体分配设备，使得所述第一等离子体产物穿过所述多个第四孔隙。所述工件卡盘面对所述等离子体阻挡筛网的第二侧，从而在所述等离子体阻挡筛网与所述工件卡盘之间限定工艺腔室。所述第四孔隙具有足够小的大小，以便阻挡所述工艺腔室中产生的等离子体到达所述气体分配设备。
-
公开(公告)号：CN107533945B
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201680008395.7
申请日：2016-01-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 晶片夹具组件包括圆盘、杆、及基座。该圆盘包括电气绝缘材料，该电气绝缘材料界定该圆盘的顶表面，多个电极嵌入在该电气绝缘材料内。该圆盘也包括内圆盘元件，该内圆盘元件形成热交换流体的一个或多个通道，且与该电气绝缘材料热连通，且导电板材被设置与该内圆盘元件邻近。该杆包括与该板材及多个连接器电性耦接的导电杆壳体，且包括多个连接器，该多个连接器包括该电极的电气连接器。该基座包括与该杆壳体电性耦接的导电基座壳体、被设置在该基座壳体内的电气绝缘终端块，该多个连接器穿行通过该终端块。
-
公开(公告)号：CN107533945A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680008395.7
申请日：2016-01-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 晶片夹具组件包括圆盘、杆、及基座。该圆盘包括电气绝缘材料，该电气绝缘材料界定该圆盘的顶表面，多个电极嵌入在该电气绝缘材料内。该圆盘也包括内圆盘元件，该内圆盘元件形成热交换流体的一个或多个通道，且与该电气绝缘材料热连通，且导电板材被设置与该内圆盘元件邻近。该杆包括与该板材及多个连接器电性耦接的导电杆壳体，且包括多个连接器，该多个连接器包括该电极的电气连接器。该基座包括与该杆壳体电性耦接的导电基座壳体、被设置在该基座壳体内的电气绝缘终端块，该多个连接器穿行通过该终端块。
-
公开(公告)号：CN206225317U
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201620945537.X
申请日：2016-08-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/3244 , H01J37/32082 , H01J37/32357 , H01J37/32532 , H01J37/32715
Abstract: 本申请公开了用于等离子体处理的装置和等离子体处理腔室。一种用于等离子体处理的装置包括：第一等离子体源；第一平面电极；气体分配设备；等离子体阻挡筛网；以及工件卡盘。所述第一等离子体源产生第一等离子体产物，所述第一等离子体产物从所述第一等离子体源离开，穿过所述第一平面电极中的第一孔隙。所述第一等离子体产物继续穿过所述气体分配设备中的第二孔隙。所述等离子体阻挡筛网包括具有第四孔隙的第三板，并且面对所述气体分配设备，使得所述第一等离子体产物穿过所述多个第四孔隙。所述工件卡盘面对所述等离子体阻挡筛网的第二侧，从而在所述等离子体阻挡筛网与所述工件卡盘之间限定工艺腔室。所述第四孔隙具有足够小的大小，以便阻挡所述工艺腔室中产生的等离子体到达所述气体分配设备。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.015 seconds)
