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发明公开
用于产生用于远程等离子体处理的蚀刻剂的装置审中-实审

公开(公告)号：CN119343739A

公开(公告)日：2025-01-21

申请号：CN202280096986.X

申请日：2022-10-10

Applicant: 应用材料公司

Inventor： T·S·周 , D·M·本杰明森 , K·沙茨 , R·M·帕库斯基 , M·Y·崔 , P·古纳西兰 , 黄智勇

IPC: H01J37/32 , H01L21/67

Abstract: 用于产生蚀刻剂的远程等离子体源(RPS)利用对称的中空阴极腔来增加蚀刻剂速率。RPS包括：具有第一中空腔的上电极，所述第一中空腔被配置为在所述第一中空腔内引起中空阴极效应；具有第二中空腔的下电极，所述第二中空腔被配置为在所述第二中空腔内引起中空阴极效应，其中所述第一中空腔与所述第二中空腔是对称的；第一间隙，所述第一间隙定位在所述上电极与所述下电极之间且将所述上电极与所述下电极电性分离；以及环形介电盖，所述环形介电盖直接接触所述第一间隙中的所述下电极并在所述环形介电盖的最上表面与所述上电极的最下表面之间形成第二间隙。所述环形介电盖填充所述第一间隙的高度的约50％至约95％。

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