公开(公告)号：CN107548518B

公开(公告)日：2021-09-21

申请号：CN201680025809.7

申请日：2016-04-19

申请人： 应用材料公司

发明人： A·拉维德 ,  T·J·伊根 ,  E·韦斯 ,  M·R·赖斯 ,  L·克莱蒙曼

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

摘要： 在多个工艺条件下用于在反应器腔室内晶片定位的校准的光学校准方法和设备采用在腔室的盖中的相机阵列，使用晶片边缘的多个图像，以相对于参考特征而定位晶片。

公开(公告)号：CN107548518A

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201680025809.7

申请日：2016-04-19

申请人： 应用材料公司

发明人： A·拉维德 ,  T·J·伊根 ,  E·韦斯 ,  M·R·赖斯 ,  L·克莱蒙曼

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC分类号： G05B19/402 ,  G05B2219/39157 ,  G05B2219/40572

摘要： 在多个工艺条件下用于在反应器腔室内晶片定位的校准的光学校准方法和设备采用在腔室的盖中的相机阵列，使用晶片边缘的多个图像，以相对于参考特征而定位晶片。