公开(公告)号：CN108962722A

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201810518534.1

申请日：2018-05-25

Applicant: 应用材料公司

Inventor： G·J·威尔森 ,  P·麦克休 ,  K·拉马纳坦

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 描述了用于使用具有多个加热区的批量处理腔室来沉积膜的设备和方法。将所述膜沉积在一个或多个基板上，并且在多个点处确定沉积厚度的均匀性。将所述加热区设定点应用到灵敏度矩阵并确定和设定所述加热区的新的温度或功率设定点。使用所述新的设定点处理一个或多个基板，并且确定所述厚度均匀性并可再次调整所述厚度均匀性以提高所述均匀性。

公开(公告)号：CN111742401B

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN201980014053.X

申请日：2019-02-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： K·B·多林 ,  G·J·威尔森 ,  K·拉马纳坦 ,  M·D·塞法堤 ,  K·格里芬

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  C23C16/455

Abstract: 描述了加热器，加热器具有有顶部和底部的主体，加热器包括热解氮化硼(PBN)、第一加热器电极、和第二加热器电极。加热器电极可以封闭在电绝缘支座内并连接到单独的汇流条以提供电力。还描述了包括一个或多个加热器的加热器组件和包括该加热器组件的处理腔室。

公开(公告)号：CN108962722B

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN201810518534.1

申请日：2018-05-25

Applicant: 应用材料公司

Inventor： G·J·威尔森 ,  P·麦克休 ,  K·拉马纳坦

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 描述了用于使用具有多个加热区的批量处理腔室来沉积膜的设备和方法。将所述膜沉积在一个或多个基板上，并且在多个点处确定沉积厚度的均匀性。将所述加热区设定点应用到灵敏度矩阵并确定和设定所述加热区的新的温度或功率设定点。使用所述新的设定点处理一个或多个基板，并且确定所述厚度均匀性并可再次调整所述厚度均匀性以提高所述均匀性。

公开(公告)号：CN118284958A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202280077298.9

申请日：2022-12-08

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 王颖 ,  徐源辉 ,  G·J·威尔森

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 提供了一种用于清洁和干燥带框基板的方法、系统、和装置。在实施例中，一种用于支撑带框基板的装置包括：吸盘，具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，第一侧具有被配置为支撑带框基板的凸表面；和多个通道，延伸穿过吸盘并具有沿第一侧的出口，其中多个通道被配置为沿第一侧的凸表面从出口分配流体。在实施例中，支撑系统包括吸盘和固持器，固持器被配置为将带框基板安装到吸盘。多个通道被配置为当带框基板安装到吸盘时从出口并且在带框基板与吸盘的凸表面之间分配流体。

公开(公告)号：CN111742401A

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN201980014053.X

申请日：2019-02-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： K·B·多林 ,  G·J·威尔森 ,  K·拉马纳坦 ,  M·D·塞法堤 ,  K·格里芬

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  C23C16/455

Abstract: 描述了加热器，加热器具有有顶部和底部的主体，加热器包括热解氮化硼(PBN)、第一加热器电极、和第二加热器电极。加热器电极可以封闭在电绝缘支座内并连接到单独的汇流条以提供电力。还描述了包括一个或多个加热器的加热器组件和包括该加热器组件的处理腔室。