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公开(公告)号:CN221911389U
公开(公告)日:2024-10-29
申请号:CN202320204085.X
申请日:2023-02-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/34 , B24B37/20 , H01L21/687
Abstract: 提供了用于在抛光或清洁工艺中使用的垫载体,其包括垫载体组件和耦接基座,垫载体组件被配置为耦接到垫载体定位臂的第一端,耦接基座包括耦接基座主体,所述耦接基座主体包括设置在耦接基座主体内的一个或多个含铁磁或顺磁材料元件。垫载体组件包括夹紧板和支撑板。夹紧板包括夹紧主体,所述夹紧主体包括:设置在夹紧主体内的一个或多个含铁磁或顺磁材料元件;以及设置在夹紧主体的第一侧上的第一保持表面。支撑板包括支撑主体,所述支撑主体包括:设置在支撑主体的第一侧上的第二保持表面;以及多个支撑板保持特征,其中每个支撑板保持特征被配置为在磨光垫的唇部部分定位在第一保持表面与第二保持表面之间时接收形成在磨光垫中的垫保持特征。
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