公开(公告)号：CN2786784Y

公开(公告)日：2006-06-07

申请号：CN200420115729.5

申请日：2004-11-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卡尔·布朗 ,  诺拉·阿雷拉诺 ,  谢约恩·舍尔斯廷斯基 ,  刘家凌 ,  蔡振雄 ,  维尼特·梅赫塔 ,  史蒂夫·桑索尼 ,  王伟

IPC: H01L21/68 ,  B23Q3/154

CPC classification number: H01L21/6831 ,  Y10T279/23

Abstract: 本实用新型提供了一种能够安装到处理室中底座上的静电吸盘。所述吸盘具有包括带嵌入电极的陶瓷体的静电圆盘。所述陶瓷体具有带环形外缘的衬底支撑表面。所述吸盘还具有在所述静电圆盘之下的基板，所述基板是陶瓷材料和金属的复合物。所述基板具有延伸到所述陶瓷体的外缘之外的环形凸缘。所述基板和静电圆盘可以由支撑底座来支撑，该支撑底座具有壳体和环形壁架，所述环形壁架从所述壳体向外延伸以安装到所述基板的所述环形凸缘。还可以设置具有嵌入热传递流体通道的热传递板。