公开(公告)号：CN101896995B

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN200880120627.3

申请日：2008-12-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 曾明贵(迈克尔) ,  诺曼·塔姆 ,  横田义孝 ,  阿古斯·查德拉 ,  罗伯特·纳瓦斯卡 ,  梅德赫拉恩·贝赫贾特 ,  森德·拉马默蒂 ,  凯达尔纳什·桑格姆 ,  亚历山大·N·勒纳

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67115 ,  F27D7/06 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67098

Abstract: 本发明的实施例提供用于改善热处理期间的气体分布的设备及方法。本发明的一个实施例提供一种用于处理基板的设备，该设备包括：腔室主体，该腔室主体界定一处理容积；基板支撑件，该基板支撑件设置于该处理容积中，其中该基板支撑件配置以支撑并旋转该基板；气体入口组件，该气体入口组件耦接至该腔室主体的入口，并配置以提供第一气流至该处理容积；以及排气组件，该排气组件耦接至该腔室主体的出口，其中该气体入口组件及该排气组件设置在该腔室主体的相对侧，且该排气组件界定配置以延伸该处理容积的排气容积。