公开(公告)号：CN107735851A

公开(公告)日：2018-02-23

申请号：CN201680031800.7

申请日：2016-05-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 周杰 ,  殷正操 ,  尚布休·N·罗伊 ,  斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ,  刘菁菁 ,  冶利.Y.叶

IPC: H01L21/033

CPC classification number: H01L21/311 ,  H01L21/0337

Abstract: 本文的实施方式提供在多重图案化工艺中用于在间隔物层上进行具有良好轮廓控制的沉积和图案化工艺的设备和方法。在一个实施方式中，一种在多重图案化工艺期间沉积和图案化间隔物层的方法包括以下步骤：在设在基板上的图案化结构的外表面上保形地形成间隔物层，其中所述图案化结构间界定有第一组开口；选择性地处理形成在基板上的间隔物层的第一部分，而不处理间隔物层的第二部分；以及选择性地移除间隔物层经处理的第一部分。

公开(公告)号：CN107735851B

公开(公告)日：2021-11-05

申请号：CN201680031800.7

申请日：2016-05-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 周杰 ,  殷正操 ,  尚布休·N·罗伊 ,  斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ,  刘菁菁 ,  冶利.Y.叶

IPC: H01L21/033

Abstract: 本文的实施方式提供在多重图案化工艺中用于在间隔物层上进行具有良好轮廓控制的沉积和图案化工艺的设备和方法。在一个实施方式中，一种在多重图案化工艺期间沉积和图案化间隔物层的方法包括以下步骤：在设在基板上的图案化结构的外表面上保形地形成间隔物层，其中所述图案化结构间界定有第一组开口；选择性地处理形成在基板上的间隔物层的第一部分，而不处理间隔物层的第二部分；以及选择性地移除间隔物层经处理的第一部分。