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公开(公告)号:CN117747687B
公开(公告)日:2024-08-30
申请号:CN202311568685.5
申请日:2023-11-22
Applicant: 广州市南沙区北科光子感知技术研究院 , 北京信息科技大学
IPC: H01L31/0352 , H01L31/101 , H01L31/09 , H01L31/18 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供了一种应变平衡的红外探测器吸收区及制备方法,红外探测器吸收区采用多量子阱或超晶格结构,每个周期至少包括第一Ge层,以及在第一Ge层外延生长的Ge1‑xSnx外延层,GeSn外延层上生长的第二Ge层,以及在第二Ge层外延生长的Si1‑yGey薄膜层。本发明在Ge1‑xSnx中插入Si1‑yGey薄膜层,采用周期交替生长外延方法,利用外延中断特点释放应力,形成Ge1‑xSnx/Si1‑yGey应变平衡多量子阱结构或超晶格,调控高锡组分锗锡材料中的应变,实现较厚高质量晶体材料和抑制锡分凝目的,并有效提升高锡组分材料的外延厚度,进而有助于提升器件量子效率,实现高锡组分的高性能、高量子效率和长探测截止波长的红外探测。
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公开(公告)号:CN117747687A
公开(公告)日:2024-03-22
申请号:CN202311568685.5
申请日:2023-11-22
Applicant: 广州市南沙区北科光子感知技术研究院 , 北京信息科技大学
IPC: H01L31/0352 , H01L31/101 , H01L31/09 , H01L31/18 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供了一种应变平衡的红外探测器吸收区及制备方法,红外探测器吸收区采用多量子阱或超晶格结构,每个周期至少包括第一Ge层,以及在第一Ge层外延生长的Ge1‑xSnx外延层,GeSn外延层上生长的第二Ge层,以及在第二Ge层外延生长的Si1‑yGey薄膜层。本发明在Ge1‑xSnx中插入Si1‑yGey薄膜层,采用周期交替生长外延方法,利用外延中断特点释放应力,形成Ge1‑xSnx/Si1‑yGey应变平衡多量子阱结构或超晶格,调控高锡组分锗锡材料中的应变,实现较厚高质量晶体材料和抑制锡分凝目的,并有效提升高锡组分材料的外延厚度,进而有助于提升器件量子效率,实现高锡组分的高性能、高量子效率和长探测截止波长的红外探测。
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