一种硅片上料涂覆机构、涂布平台、硅片涂布机

    公开(公告)号:CN117019567A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202311302076.5

    申请日:2023-10-10

    IPC分类号: B05C13/02 B05C5/02 H01L21/67

    摘要: 本发明涉及光伏半导体加工设备领域,具体涉及一种硅片上料涂覆机构、涂布平台、硅片涂布机。一种硅片上料涂覆机构,包括:工作台,工作台上安装有加工台面,加工台面上具有若干加工工位;工作台下方设置有若干定位部。加工工位沿周向设置有若干吹气机构。放置工件时,工件摆放在定位部上,以调节工件至摆正;定位工件时,定位部与工件脱离,工作台吸附工件;工件涂覆后,吹气机构向上吹气,以吹走流动至吹气机构上的涂覆溶液。在正式上料前,先将工件通过支撑柱支撑在工作台上方,并以一个工件位置为基准,通过机械手调节另一个工件至摆正。设置多个上料涂覆机构,以使涂布机构在涂布时同时对多个工件进行涂布,从而大大提高整体的涂布效率。

    炉体设备
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113488561B

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202110797807.2

    申请日:2021-07-14

    IPC分类号: H01L31/18

    摘要: 本发明提供了一种炉体设备,包括:架体,具有在长度方向上相对设置的第一端和第二端;第一光辐射机构,设于架体,第一光辐射机构靠近第一端;第二光辐射机构,设于架体,第二光辐射机构靠近第二端,第一光辐射机构和第二光辐射机构沿架体的长度方向布置;传输机构,设于架体,传输机构用于将物料由架体的第一端输送至第二端,传输机构穿设于第一光辐射机构和第二光辐射机构,第一光辐射机构对物料进行单面和/或双面照射,第二光辐射机构对物料进行单面照射。本发明的技术方案中,物料在经过第二光辐射机构之前,会先经过第一光辐射机构,第一光辐射机构能够对物料的正反面进行全方位红外光线的辐射注入,经过辐射退火处理后的物料可以提效0.3%。

    一种激光加工光学系统
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118905418A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202411318052.3

    申请日:2024-09-20

    摘要: 本发明提供一种激光加工光学系统,包括:转台,四个吸附平台,均匀间隔分布于转台周侧,用于吸附目标基片;上下料装置、视觉定位装置、第一激光加工装置和第二激光加工装置,依次间隔环绕设置于转台的四周位置;驱动装置,用于驱动转台旋转;上下料装置用于将目标基片对吸附平台上下料;视觉定位装置用于对目标基片进行视觉定位;第一激光加工装置用于形成第一加工光斑,并以第一加工光斑沿第一线性加工方向对目标基片加工第一栅线;第二激光加工装置用于形成第二加工光斑,并以第二加工光斑沿垂直于第一线性加工方向的第二线性加工方向对目标基片加工第二栅线。该激光加工光学系统提升了基片栅线的加工效率,且在加工较宽栅线时可减少拼线次数。

    炉体设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113488561A

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN202110797807.2

    申请日:2021-07-14

    IPC分类号: H01L31/18

    摘要: 本发明提供了一种炉体设备,包括:架体,具有在长度方向上相对设置的第一端和第二端;第一光辐射机构,设于架体,第一光辐射机构靠近第一端;第二光辐射机构,设于架体,第二光辐射机构靠近第二端,第一光辐射机构和第二光辐射机构沿架体的长度方向布置;传输机构,设于架体,传输机构用于将物料由架体的第一端输送至第二端,传输机构穿设于第一光辐射机构和第二光辐射机构,第一光辐射机构对物料进行单面和/或双面照射,第二光辐射机构对物料进行单面照射。本发明的技术方案中,物料在经过第二光辐射机构之前,会先经过第一光辐射机构,第一光辐射机构能够对物料的正反面进行全方位红外光线的辐射注入,经过辐射退火处理后的物料可以提效0.3%。

    烘干装置
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218955399U

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202223132156.4

    申请日:2022-11-24

    摘要: 本实用新型公开了一种烘干装置,涉及硅片加工技术领域。具体包括:烘干箱体,带有进风口和出风口;加热件,设于所述进风口处用于对进风口处的气流进行加热;风机,设于所述加热件上靠近出风口的一侧,用于将被加热的气流吹入所述烘干箱体内;第一温度检测件,设置在风机的叶轮腔内用于检测风机叶轮腔内的温度;以及控制单元,根据第一温度检测件的检测结果启动或关闭所述烘干箱体。旨在避免因为风机的损坏或反转导致烘干装置出现温度异常。

    烘干装置
    6.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218380372U

    公开(公告)日:2023-01-24

    申请号:CN202222517187.5

    申请日:2022-09-22

    IPC分类号: F26B21/00 F26B25/00

    摘要: 本实用新型公开了一种烘干装置,涉及太阳能电池制作装置技术领域。具体包括带有烘干空间的烘干箱体、连接于所述烘干箱体用于向所述烘干空间内吹入气流的进风通道、以及连接于所述烘干箱体用于将气流与待烘干件完成换热后产生的废气排出的排风通道;所述进风通道可与所述废气进行换热以提高所述进风通道内气流的温度。旨在将烘干装置产生的废气中的热量回收利用,降低能源的消耗。

    一种可防磨损的传输结构及炉体设备

    公开(公告)号:CN217334041U

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202220824453.6

    申请日:2022-04-11

    摘要: 本实用新型公开了一种可防磨损的传输结构及炉体设备,包括:传输电池片或硅片的网链,支撑网链的支撑结构以及涂油装置,涂油装置将润滑油涂抹在网链接触支撑结构的接触处。本实用新型通过在网链上架设涂油装置对网链进行涂油,涂油装置能够在网链的带动下自动将润滑油涂抹在网链接触石英管的接触处,减少网链与石英管的摩擦,从而避免摩擦产生的粉尘会降低电池片的洁净度,影响电池片的加工质量,有效解决了网链磨损产生粉末和噪音的弊端。同时也提高支撑结构即石英管的使用寿命。

    一种硅片输送机构及其下料系统

    公开(公告)号:CN220906448U

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202322705973.2

    申请日:2023-10-10

    IPC分类号: B65G47/90 B65G47/24 B65G43/08

    摘要: 本实用新型涉及硅片制造工艺领域,具体涉及一种硅片输送机构及其下料系统。本实用新型实施例提供了一种硅片输送机构,包括:输送带,所述输送带下方的夹板组件,所述夹板组件两端延伸至所述输送带两侧,所述夹板组件适于沿长度方向伸缩,且伸缩方向与所述输送带的输送方向垂直;其中硅片沿输送带移动至两夹板组件之间时,两所述夹板组件相向靠近以扶正硅片。通过在输送带下方设置夹板组件,从而对经过的硅片一一进行扶正,避免硅片掉落,通过检测器检测每个输送带上是否正确有硅片输送。