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公开(公告)号：CN102540702A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110461878.1
申请日：2011-11-16
Applicant: 希捷科技有限公司
CPC classification number: B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B81C2201/0153 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G11B5/855
Abstract: 本发明提供了压印引导的嵌段共聚物图案化的系统和方法。本说明书表述了用于纳米图案化的方法，通过在一个制造工艺中并入一个或多个块聚合物以及一个或多个纳米压印步骤。嵌段共聚物可以包含有机或有机成分，并且可以是片状的、球型的或者圆柱的。结果，形成图案化的媒介，具有5-100nm的特征间距和/或至少1Tdpsi位密度的一维或者两维图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102568498B
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201110420757.2
申请日：2011-10-27
Applicant: 希捷科技有限公司
CPC classification number: B32B27/302 , B32B3/10 , B32B3/14 , B32B27/283 , B32B2429/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0035 , G03F7/2059 , G03F7/40 , Y10T428/24802 , Y10T428/24926
Abstract: 本发明涉及嵌段共聚物自组合方法及由此形成的图案。提供了图案化的基板模板，以及包括合并了光刻和自组合技术的方法。该图案化的基板可以包括第一和第二图案。
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公开(公告)号：CN102540702B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201110461878.1
申请日：2011-11-16
Applicant: 希捷科技有限公司
CPC classification number: B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B81C2201/0153 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G11B5/855
Abstract: 本发明提供了压印引导的嵌段共聚物图案化的系统和方法。本说明书表述了用于纳米图案化的方法，通过在一个制造工艺中并入一个或多个块聚合物以及一个或多个纳米压印步骤。嵌段共聚物可以包含有机或有机成分，并且可以是片状的、球型的或者圆柱的。结果，形成图案化的媒介，具有5‑100nm的特征间距和/或至少1Tdpsi位密度的一维或者两维图案。
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公开(公告)号：CN102568498A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110420757.2
申请日：2011-10-27
Applicant: 希捷科技有限公司
CPC classification number: B32B27/302 , B32B3/10 , B32B3/14 , B32B27/283 , B32B2429/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0035 , G03F7/2059 , G03F7/40 , Y10T428/24802 , Y10T428/24926
Abstract: 本发明涉及嵌段共聚物自组合方法及由此形成的图案。提供了图案化的基板模板，以及包括合并了光刻和自组合技术的方法。该图案化的基板可以包括第一和第二图案。
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公开(公告)号：CN101913554A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200911000142.3
申请日：2009-11-19
Applicant: 希捷科技有限公司
CPC classification number: G11B5/84 , B05D1/322 , B05D3/00 , B05D3/06 , B05D5/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B82Y10/00 , G03F7/0002 , G11B5/59633 , G11B5/743 , G11B5/746 , G11B5/82 , G11B5/855 , Y10T428/24802
Abstract: 一种方法包括：提供具有多个化学反差对准部件的衬底，以及在该衬底的至少一部分上沉积自组装材料，其中该自组装材料的大致球状或圆柱状域的位置和/或取向由该对准部件指引，以形成纳米结构图案，而且其中该对准部件的周期在该球状或圆柱状域的周期的约2倍至约10倍之间。还提供了根据该方法制造的装置。
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公开(公告)号：CN101913554B
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN200911000142.3
申请日：2009-11-19
Applicant: 希捷科技有限公司
IPC: G11B5/84
CPC classification number: G11B5/84 , B05D1/322 , B05D3/00 , B05D3/06 , B05D5/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B82Y10/00 , G03F7/0002 , G11B5/59633 , G11B5/743 , G11B5/746 , G11B5/82 , G11B5/855 , Y10T428/24802
Abstract: 一种方法包括：提供具有多个化学反差对准部件的衬底，以及在该衬底的至少一部分上沉积自组装材料，其中该自组装材料的大致球状或圆柱状域的位置和/或取向由该对准部件指引，以形成纳米结构图案，而且其中该对准部件的周期在该球状或圆柱状域的周期的约2倍至约10倍之间。还提供了根据该方法制造的装置。
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