公开(公告)号：CN1127121C

公开(公告)日：2003-11-05

申请号：CN98801111.5

申请日：1998-08-04

Applicant: 岸本产业株式会社 ,  大塚化学株式会社

Inventor： 矢田隆司 ,  肥沼丰 ,  福村和则 ,  福村嘉仁

IPC: H01L21/302 ,  C11D3/06 ,  C11D7/16 ,  C23C22/07

CPC classification number: H01L21/31116 ,  C11D3/3784 ,  C11D7/16 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3272 ,  C11D11/0023 ,  C11D11/0047 ,  G02F2001/133302 ,  H01L21/02063

Abstract: 本发明的清洁剂包含作为活性成分的由正磷酸和脲反应产生的多磷酸-脲缩合物或磷酸-脲聚合物。这种清洁剂用于半导体器件生产过程或液晶器件生产过程中至少一步中的金属表面和/或玻璃表面的清洁。根据本发明，可以在高的环境和工作安全性条件下，有效地清洁金属(包括半金属)和玻璃表面的蚀刻残余物及杂质，而且不会引起金属腐蚀的问题。

公开(公告)号：CN1236482A

公开(公告)日：1999-11-24

申请号：CN98801111.5

申请日：1998-08-04

Applicant: 岸本产业株式会社 ,  大塚化学株式会社

Inventor： 矢田隆司 ,  肥沼丰 ,  福村和则 ,  福村嘉仁

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/31116 ,  C11D3/3784 ,  C11D7/16 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3272 ,  C11D11/0023 ,  C11D11/0047 ,  G02F2001/133302 ,  H01L21/02063

Abstract: 本发明的清洁剂包含作为活性成分的由正磷酸和脲反应产生的多磷酸－脲缩合物或磷酸－脲聚合物。这种清洁剂用于半导体器件生产过程或液晶器件生产过程中至少一步中的金属表面和/或玻璃表面的清洁。根据本发明,可以在高的环境和工作安全性条件下,有效地清洁金属(包括半金属)和玻璃表面的蚀刻残余物及杂质,而且不会引起金属腐蚀的问题。

公开(公告)号：CN1878890A

公开(公告)日：2006-12-13

申请号：CN200380110669.6

申请日：2003-11-10

Applicant: 大塚化学株式会社

Inventor： 福村和则 ,  于玉华 ,  楮本征也 ,  滨裕司 ,  滨涡高志 ,  八木洋

IPC: C23F11/00

CPC classification number: C23C22/83 ,  C23F11/149 ,  C23F11/161

Abstract: 含有选自式(1)～(2)所示化合物及其盐类组成群的至少1种作为有效成分的镁和/或镁合金用防锈剂、及使用这种防锈剂的镁和/或镁合金制部件的制造方法。式中，R1表示氢原子或C1－4烷基，R2表示氢原子、C1－4烷基、巯基或羟基，R3表示氢原子、C1－4烷基或羟基，A表示－N＝或－C(R4)＝，R4表示氢原子或氨基。

公开(公告)号：CN1426492A

公开(公告)日：2003-06-25

申请号：CN01808639.X

申请日：2001-04-27

Applicant: 大塚化学株式会社

Inventor： 福村和则 ,  坂根讲二

IPC: C23C22/07 ,  C23C22/23 ,  C23C22/83 ,  C23F11/00

CPC classification number: C23C22/68 ,  C23C22/83 ,  C23C26/00 ,  C23C28/00

Abstract: 被处理的镁和/或镁合金制部件的制造方法，其特征在于，把镁和/或镁合金制部件，(A)用含有磷酸盐的表面处理剂进行处理后，(B)用防锈预处理剂处理，然后根据需要，(C)用含有从芳香族羧酸或其盐类中选出的至少1种及表面活性剂的洗涤剂处理，再根据需要，(D)用镁用防锈剂进行处理。

公开(公告)号：CN1650049A

公开(公告)日：2005-08-03

申请号：CN03809820.2

申请日：2003-04-25

Applicant: 大塚化学株式会社

Inventor： 福村和则 ,  滨裕司 ,  河野和浩

IPC: C23F11/10

CPC classification number: C23F11/10 ,  C23F11/173

Abstract: 一种防锈剂，其中作为有效成分含有亲水性或者水溶性的聚合性单体(A)和具有含聚合性双键的基团的羟苯基苯并三唑化合物单体(B)的共聚物。本发明还涉及作为有效成分含有上述(A)、上述(B)、用通式(1)表示的苯并三唑类(D)的防锈剂，[R1表示氢原子、C1～8的烷基、羧基、C1～8的烷氧基羰基、苯氧基羰基、羟基或者卤原子，R2表示氢原子、羟基、氨基、卤原子或者金属原子]。作为上述单体(B)的例子，包含用通式(2)表示的化合物。本防锈剂即使没有使用有机溶剂也可以作为水系溶液使用，而且对于铜及其合金的防锈特别有效。

公开(公告)号：CN1308487C

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：CN03809820.2

申请日：2003-04-25

Applicant: 大塚化学株式会社

Inventor： 福村和则 ,  滨裕司 ,  河野和浩

IPC: C23F11/10

CPC classification number: C23F11/10 ,  C23F11/173

Abstract: 一种防锈剂，其中作为有效成分含有亲水性或者水溶性的聚合性单体(A)和具有含聚合性双键的基团的羟苯基苯并三唑化合物单体(B)的共聚物。本发明还涉及作为有效成分含有上述(A)、上述(B)、用通式(1)表示的苯并三唑类(D)的防锈剂，[R1表示氢原子、C1-8的烷基、羧基、C1-8的烷氧基羰基、苯氧基羰基、羟基或者卤原子，R2表示氢原子、羟基、氨基、卤原子或者金属原子]。作为上述单体(B)的例子，包含用通式(2)表示的化合物。本防锈剂即使没有使用有机溶剂也可以作为水系溶液使用，而且对于铜及其合金的防锈特别有效。

公开(公告)号：CN1335896A

公开(公告)日：2002-02-13

申请号：CN00802592.4

申请日：2000-01-06

Applicant: 大塚化学株式会社

Inventor： 福村和则 ,  白石隆彦

IPC: C23F11/00 ,  C23F11/12 ,  C23C22/07

CPC classification number: C23G1/12 ,  C23C22/18 ,  C23C22/23 ,  C23F11/10 ,  C23F11/124 ,  C23F11/149

Abstract: 本发明提供了含有芳族羧酸及其盐类中至少一种物质作为有效成分的镁或镁合金防锈剂组合物,而且还提供了含有从芳族羧酸及其盐类中选出的至少一种物质,以及从吡唑类化合物和三唑类化合物中选出的至少一种物质的镁或镁合金防锈剂组合物,同时也提供了其中含有磷酸盐、从芳族羧酸及其盐类中选出的至少一种物质以及必要时含有从吡唑类化合物和三唑类化合物中选出的至少一种物质的镁或镁合金部件用表面处理剂及表面处理方法。本发明提供对镁或镁合金防锈处理简便,处理时能保持金属光泽,且环境问题少的防锈剂及防锈方法。