一种高抗剥铜箔的粗化工艺方法

    公开(公告)号:CN112962128B

    公开(公告)日:2022-04-19

    申请号:CN202110126122.5

    申请日:2021-01-29

    摘要: 本发明公开了一种高抗剥铜箔的粗化工艺方法,其特征在于,粗化处理中使用的粗化液的成分包括铜离子、钼离子、铁离子、壳聚糖、无机酸,还包括有机酸或有机酸盐。具体地,所述的粗化液的成分包括:铜离子30‑70g/L、无机酸150‑250g/L、钼离子1‑10ppm、铁离子1‑10ppm、壳聚糖10‑20ppm、以及有机酸或有机酸盐10‑50ppm。本发明一方面提供了一种高抗剥铜箔的粗化工艺,另一方面本发明粗化层处理仅采用一种溶液,与目前的粗化工艺多采用粗化液、固化夜两种溶液相比,工艺简单,更利于生产的过程管控。

    一种高抗剥铜箔的粗化工艺方法

    公开(公告)号:CN112962128A

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN202110126122.5

    申请日:2021-01-29

    摘要: 本发明公开了一种高抗剥铜箔的粗化工艺方法,其特征在于,粗化处理中使用的粗化液的成分包括铜离子、钼离子、铁离子、壳聚糖、无机酸,还包括有机酸或有机酸盐。具体地,所述的粗化液的成分包括:铜离子30‑70g/L、无机酸150‑250g/L、钼离子1‑10ppm、铁离子1‑10ppm、壳聚糖10‑20ppm、以及有机酸或有机酸盐10‑50ppm。本发明一方面提供了一种高抗剥铜箔的粗化工艺,另一方面本发明粗化层处理仅采用一种溶液,与目前的粗化工艺多采用粗化液、固化夜两种溶液相比,工艺简单,更利于生产的过程管控。