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公开(公告)号:CN111906681B
公开(公告)日:2022-03-22
申请号:CN202010727651.6
申请日:2020-07-23
申请人: 山东科技大学
IPC分类号: B24B31/12
摘要: 本发明公开一种用于大长径比微轴的高速磨粒流旋转超精磨装置,包括底座、保护罩、送料机构、磨削机构、卸料机构、驱动机构及控制系统,卸料机构的卸料平台与底座活动相连。磨削机构设在卸料平台上且位于送料机构和驱动机构之间,包括一前一后布置的两个行星齿轮组件,行星齿轮组件包括第二滑动座、外壳、齿圈、中心齿轮轴及多个行星齿轮轴,外壳的底部与导轨滑动配合,齿圈设在外壳内。中心齿轮轴和行星齿轮轴均为两端敞口的空腔结构,两组行星齿轮轴分别一一正对,两个中心齿轮轴活动连接,后侧的中心齿轮轴与驱动机构活动连接。本发明加工精度高,省时省力,自动化程度高,提高了生产效率,保证大长径比微轴表面加工质量的一致性。
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公开(公告)号:CN112223009A
公开(公告)日:2021-01-15
申请号:CN202010912757.3
申请日:2020-09-03
申请人: 山东科技大学
IPC分类号: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B49/00 , B24B47/06
摘要: 本发明公开一种可一次完成非球面曲面加工与测量的精密装置,包括底座、装夹单元、测量单元及控制系统。装夹单元包括位置调整机构、机架、姿态调整机构及RR旋转平台夹具,位置调整机构的底部与底座固定相连,机架固定安装于位置调整机构的运动输出端。姿态调整机构包括支撑板,支撑板活动设置在机架上,RR旋转平台夹具设在支撑板上。测量单元包括支撑座、气动旋转平台、第一气缸及蜗轮蜗杆安装组件,气动旋转平台位于支撑座的上方,蜗轮蜗杆安装组件通过第一气缸设置在气动旋转平台的上方。本发明对工件一次装夹,工件、刀具和测量探头可进行多种姿态调整,实现对非球面曲面加工与测量,加工及测量精度高,生产效率高。
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公开(公告)号:CN112223009B
公开(公告)日:2021-12-21
申请号:CN202010912757.3
申请日:2020-09-03
申请人: 山东科技大学
IPC分类号: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B49/00 , B24B47/06
摘要: 本发明公开一种可一次完成非球面曲面加工与测量的精密装置,包括底座、装夹单元、测量单元及控制系统。装夹单元包括位置调整机构、机架、姿态调整机构及RR旋转平台夹具,位置调整机构的底部与底座固定相连,机架固定安装于位置调整机构的运动输出端。姿态调整机构包括支撑板,支撑板活动设置在机架上,RR旋转平台夹具设在支撑板上。测量单元包括支撑座、气动旋转平台、第一气缸及蜗轮蜗杆安装组件,气动旋转平台位于支撑座的上方,蜗轮蜗杆安装组件通过第一气缸设置在气动旋转平台的上方。本发明对工件一次装夹,工件、刀具和测量探头可进行多种姿态调整,实现对非球面曲面加工与测量,加工及测量精度高,生产效率高。
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公开(公告)号:CN111906681A
公开(公告)日:2020-11-10
申请号:CN202010727651.6
申请日:2020-07-23
申请人: 山东科技大学
IPC分类号: B24B31/12
摘要: 本发明公开一种用于大长径比微轴的高速磨粒流旋转超精磨装置,包括底座、保护罩、送料机构、磨削机构、卸料机构、驱动机构及控制系统,卸料机构的卸料平台与底座活动相连。磨削机构设在卸料平台上且位于送料机构和驱动机构之间,包括一前一后布置的两个行星齿轮组件,行星齿轮组件包括第二滑动座、外壳、齿圈、中心齿轮轴及多个行星齿轮轴,外壳的底部与导轨滑动配合,齿圈设在外壳内。中心齿轮轴和行星齿轮轴均为两端敞口的空腔结构,两组行星齿轮轴分别一一正对,两个中心齿轮轴活动连接,后侧的中心齿轮轴与驱动机构活动连接。本发明加工精度高,省时省力,自动化程度高,提高了生产效率,保证大长径比微轴表面加工质量的一致性。
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公开(公告)号:CN213561879U
公开(公告)日:2021-06-29
申请号:CN202021266539.9
申请日:2020-07-01
申请人: 山东科技大学
IPC分类号: B24B31/027 , B24B31/03 , B24B31/12 , B24B55/00
摘要: 本实用新型来源于对微小异形零件表面的高精度抛光需要,针对芯片、钟表机芯等微小异形零件设计了一种小型同步共振回转抛光装置。本发明在结构上大体可以分为三层:最上层称为顶层,主要是抛光盘、抛光盘的升降机构、抛光盘的增速机构。顶层最上面有一个从右边打开的挡板,可以用来加注机油、润滑脂,故障检测等。中层是同步共振回转抛光装置的主体:抛光装置的加工部分。包含了同步共振回转抛光装置的共振部分、同步共振回转抛光装置的回转部分,是占空间最大的部分。底层是同步共振回转抛光装置的动力机构,负责为整个共振和回转部分提供动力。
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