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公开(公告)号：CN101070154B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200710091933.6
申请日：2007-03-30
申请人： 富士通株式会社 , 国立大学法人东北大学 , 财团法人神奈川科学技术研究院
CPC分类号： B81C1/00206 , B81B2201/0214 , B81B2203/0361
摘要： 本发明提供由碳纳米管构成的碳纳米管链、适于用作例如目标检测器或传感器的碳纳米管链、以及提供高效的碳纳米管链生产工艺。该碳纳米管链包括载体和一端与载体表面结合的多个碳纳米管，其中该多个碳纳米管定向于与载体表面基本上成一直角的方向。
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公开(公告)号：CN100395821C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200510059481.4
申请日：2005-03-25
申请人： 富士通株式会社 , 财团法人神奈川科学技术研究院
摘要： 一种纳米孔结构，包括：金属矩阵；以及纳米孔，规则排列在该金属矩阵中，其中，所述纳米孔以行为单位隔开特定间隔，以构成纳米孔行。纳米孔行优选同心或螺旋排列。在相邻纳米孔行中的纳米孔优选沿径向设置。每个纳米孔行的宽度优选沿其纵向以特定间隔改变。一种磁记录介质，包括：衬底；以及在该衬底上面或上方的多孔层。该多孔层包括纳米孔，每个纳米孔在基本上垂直于衬底平面的方向上延伸，其中包含至少一种磁性材料，并且该多孔层为上述纳米孔结构。
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公开(公告)号：CN101221773A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200810001530.2
申请日：2008-01-04
申请人： 富士通株式会社 , 财团法人神奈川科学技术研究院
CPC分类号： G11B5/855
摘要： 本发明提供了磁记录介质及其制造方法，其中，该方法能够高精度转印能够用作用于形成阳极化氧化铝纳米孔的源的图案并且实现高生产能力；该大容量磁记录介质能够实现高密度记录。所述方法包括：在形成在模子的表面上的凹凸图案上形成金属层；使用粘合剂将基片结合到金属层的与模子的相反侧的表面；从所述金属层分离所述模子；通过纳米孔形成处理形成多孔层，在所述多孔层中，通过将通过所述模子中的凹凸图案转印到所述金属层已经形成的凹凸图案用作纳米孔源来将多个纳米孔形成为在基本垂直于基片平面的方向上定向；以及将磁材料填入所述纳米孔中。
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公开(公告)号：CN101070154A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200710091933.6
申请日：2007-03-30
申请人： 富士通株式会社 , 国立大学法人东北大学 , 财团法人神奈川科学技术研究院
CPC分类号： B81C1/00206 , B81B2201/0214 , B81B2203/0361
摘要： 本发明提供由碳纳米管构成的碳纳米管链、适于用作例如目标检测器或传感器的碳纳米管链、以及提供高效的碳纳米管链生产工艺。该碳纳米管链包括载体和一端与载体表面结合的多个碳纳米管，其中该多个碳纳米管定向于与载体表面基本上成一直角的方向。
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公开(公告)号：CN1694163A
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN200510059481.4
申请日：2005-03-25
申请人： 富士通株式会社 , 财团法人神奈川科学技术研究院
摘要： 一种纳米孔结构，包括：金属矩阵；以及纳米孔，规则排列在该金属矩阵中，其中，所述纳米孔以行为单位隔开特定间隔，以构成纳米孔行。纳米孔行优选同心或螺旋排列。在相邻纳米孔行中的纳米孔优选沿径向设置。每个纳米孔行的宽度优选沿其纵向以特定间隔改变。一种磁记录介质，包括：衬底；以及在该衬底上面或上方的多孔层。该多孔层包括纳米孔，每个纳米孔在基本上垂直于衬底平面的方向上延伸，其中包含至少一种磁性材料，并且该多孔层为上述纳米孔结构。
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公开(公告)号：CN102286765B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201110225163.6
申请日：2007-06-28
申请人： 三菱丽阳株式会社 , 财团法人神奈川科学技术研究院
CPC分类号： B29C33/3842 , B29C33/38 , B29C35/0888 , B29C59/046 , B29C2059/023 , C25D1/006 , C25D1/10 , C25D1/20 , C25D11/045 , C25D11/12 , C25D11/16 , G02B1/118
摘要： 铸模、铸模的制造方法以及片材的制造方法。在无压延痕迹的铝预制模的表面通过阳极氧化形成有具有微细凹凸结构的氧化铝，且晶界的凹凸高度或深度为300nm以下，所述微细凹凸结构是相邻的凹部或凸部间的距离为可见光的波长以下的结构。
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公开(公告)号：CN101835925B
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN200880113169.0
申请日：2008-10-24
申请人： 三菱丽阳株式会社 , 财团法人神奈川科学技术研究院 , 日本轻金属株式会社
CPC分类号： B29C33/3814 , B29C33/38 , B29C35/0888 , B29C35/10 , B29C39/148 , B29C43/222 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29K2905/02 , C25D5/02 , C25D9/06 , C25D11/04 , C25D11/12 , C25D11/18 , G02B1/118
摘要： 本发明提供一种转印面不会产生宏观的凹凸和颜色不均、且表面形成有阳极氧化的氧化铝的印模以及该印模的制造方法，此外，使用这种印模，提供一种转印面不存在宏观的凹凸和颜色不均的成形体的制造方法。一种印模，其特征在于，通过阳极氧化在母模的表面形成了具有微细凹凸结构的氧化铝，其中，铝母模的铝的纯度为99.5％以上、平均晶粒直径为1mm以下、且表面的算术平均粗糙度Ra为0.05μm以下。通过使用该印模，能够制造转印面不存在宏观的凹凸和颜色不均、且作为防反射物品等优选的成形体。
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公开(公告)号：CN104870694B
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201380064072.6
申请日：2013-12-09
申请人： 三菱化学株式会社 , 公益财团法人神奈川科学技术研究院
CPC分类号： C25D11/06 , B29C59/022 , B29C59/046 , B29C2059/023 , C25D11/024 , C25D11/045 , C25D11/08 , C25D11/10 , C25D11/12
摘要： 本发明涉及一种多孔阳极氧化铝的制造方法，其特征在于，其是铝基材的表面形成有具有多个细孔的氧化覆膜的多孔阳极氧化铝的制造方法，该方法包括：工序(a)，将铝基材浸渍在混合有多种酸的电解液中；工序(b)，对浸渍在前述电解液中的前述铝基材施加电压；工序(c)，实质上不对前述铝基材施加电压，保持将前述铝基材浸渍在电解液中的状态；以及工序(d)，交替重复前述工序(b)和前述工序(c)。根据本发明可以提供使用简便的装置、且以较少的工序数简便地制造铝基材的表面形成有具有多个细孔的氧化覆膜的多孔阳极氧化铝的方法。
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公开(公告)号：CN104520087B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201380041521.5
申请日：2013-08-06
申请人： 三菱丽阳株式会社 , 公益财团法人神奈川科学技术研究院
CPC分类号： B29C33/3842 , B29K2905/02 , C25D1/10 , C25D5/48 , C25D7/00 , C25D9/06 , C25D11/024 , C25D11/045 , C25D11/10 , C25D11/12 , C25D11/24 , C25D21/12
摘要： 一种模具的制造方法，其为制造在铝基材(10)的表面形成了具有多个细孔(12)的氧化覆膜(14)的模具(18)的方法，具有如下工序：(a)对进行了机械加工的铝基材施加电压，对前述铝基材的表面进行阳极氧化而形成氧化覆膜的工序；以及，(b)去除由前述工序(a)形成的氧化覆膜的至少一部分的工序，在前述工序(a)中，即将结束工序(a)之前的电压(Va[V])与从开始施加电压起至到达前述电压(Va[V])为止的时间(ta[秒])满足下述式(i)。0.010
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公开(公告)号：CN102286765A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201110225163.6
申请日：2007-06-28
申请人： 三菱丽阳株式会社 , 财团法人神奈川科学技术研究院
CPC分类号： B29C33/3842 , B29C33/38 , B29C35/0888 , B29C59/046 , B29C2059/023 , C25D1/006 , C25D1/10 , C25D1/20 , C25D11/045 , C25D11/12 , C25D11/16 , G02B1/118
摘要： 铸模、铸模的制造方法以及片材的制造方法。在无压延痕迹的铝预制模的表面通过阳极氧化形成有具有微细凹凸结构的氧化铝，且晶界的凹凸高度或深度为300nm以下，所述微细凹凸结构是相邻的凹部或凸部间的距离为可见光的波长以下的结构。
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