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公开(公告)号：CN112888561A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201980068012.9
申请日：2019-10-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种层叠体及使用该层叠体的图像显示装置，所述层叠体具有支撑体、取向层及光吸收各向异性层，其中，容易仅剥离支撑体。本发明的层叠体依次具有支撑体、取向层、光吸收各向异性层、粘合层，不包括支撑体、粘合层的从支撑体至粘合层之间的厚度为5μm以下，粘合层的厚度为5μm～50μm。
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公开(公告)号：CN102113144B
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN200980129916.4
申请日：2009-07-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L41/09 , H01L41/187 , H01L41/316 , B41J2/045 , B41J2/055 , B41J2/16 , C04B35/49
CPC classification number: B41J2/161 , B41J2/1646 , C04B35/49 , H01L41/0805 , H01L41/0973 , H01L41/1875 , H01L41/316 , Y10T29/42
Abstract: 提供一种具有含Pb的压电膜的压电器件，该压电膜的耐久性得到改善并且没有降低压电性质。压电器件(1)在基板(11)上以下列顺序具有下部电极(12)；压电膜(13)，其包含由下面的通式(P)表示的含Pb的钙钛矿氧化物；以及上部电极(14)，其中烧绿石氧化物层(13p)的平均层厚度Th不大于20nm。通式(P)：AaBbO3，其中，A：至少一种类型的包含Pb作为主要组分的A位元素，B：至少一种类型的B位元素，所述B位元素选自由Ti、Zr、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Sc、Co、Cu、In、Sn、Ga、Zn、Cd、Fe和Ni组成的组，以及O：氧元素。
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公开(公告)号：CN102113144A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN200980129916.4
申请日：2009-07-27
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: B41J2/161 , B41J2/1646 , C04B35/49 , H01L41/0805 , H01L41/0973 , H01L41/1875 , H01L41/316 , Y10T29/42
Abstract: 提供一种具有含Pb的压电膜的压电器件，该压电膜的耐久性得到改善并且没有降低压电性质。压电器件(1)在基板(11)上以下列顺序具有下部电极(12)；压电膜(13)，其包含由下面的通式(P)表示的含Pb的钙钛矿氧化物；以及上部电极(14)，其中烧绿石氧化物层(13p)的平均层厚度Th不大于20nm。通式(P)：AaBbO3，其中，A：至少一种类型的包含Pb作为主要组分的A位元素，B：至少一种类型的B位元素，所述B位元素选自由Ti、Zr、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Sc、Co、Cu、In、Sn、Ga、Zn、Cd、Fe和Ni组成的组，以及O：氧元素。
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公开(公告)号：CN112888561B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201980068012.9
申请日：2019-10-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种层叠体及使用该层叠体的图像显示装置，所述层叠体具有支撑体、取向层及光吸收各向异性层，其中，容易仅剥离支撑体。本发明的层叠体依次具有支撑体、取向层、光吸收各向异性层、粘合层，不包括支撑体、粘合层的从支撑体至粘合层之间的厚度为5μm以下，粘合层的厚度为5μm～50μm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108884568A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780018488.2
申请日：2017-03-09
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够在与图案状被镀层对应的位置形成低电阻的金属层的导电性层叠体的制造方法、层叠体及导电性层叠体。本发明的导电性层叠体的制造方法具有：使用规定的被镀层形成用组合物，在基材上形成被镀层形成用层的工序；对被镀层形成用层以图案状实施曝光处理及显影处理，而形成包含线宽小于3μm的部分的图案状被镀层的工序；使用含有镀覆催化剂或其前体的碱性的镀覆催化剂赋予液，将镀覆催化剂或其前体赋予到图案状被镀层的工序；及使用含有氨基羧酸类的镀覆液，对赋予有镀覆催化剂或其前体的图案状被镀层进行镀覆处理，而在图案状被镀层上形成金属层的工序。
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公开(公告)号：CN117987028A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202410131954.X
申请日：2020-01-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09J7/29 , G02B5/30 , H10K59/10 , H10K59/80 , C09J133/00
Abstract: 本发明的课题在于提供一种耐湿热性优异的包含被粘合剂层夹住的光吸收各向异性层的层叠体及使用该层叠体的图像显示装置。本发明的层叠体为依次具有粘合剂层1、光吸收各向异性层及粘合剂层2的层叠体，其中，光吸收各向异性层包含有机二色性物质，光吸收各向异性层的厚度为5μm以下，粘合剂层1及粘合剂层2分别为在层叠体中从光吸收各向异性层观察时位于最近的位置的粘合剂层，下述式(I)所表示的H为10.0以下，H＝(粘合剂层1的厚度+粘合剂层2的厚度)/位于比粘合剂层1及粘合剂层2更靠内侧的位置的层的总厚度式(I)。
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公开(公告)号：CN113302051A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202080009110.8
申请日：2020-01-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B32B27/00 , C09J133/06 , C09J201/00 , H05B33/02 , H01L51/50 , G02B5/30 , G09F9/00 , H01L27/32 , C09J7/38 , B32B7/023 , G02F1/13363
Abstract: 本发明的课题在于提供一种耐湿热性优异的包含被粘合剂层夹住的光吸收各向异性层的层叠体及使用该层叠体的图像显示装置。本发明的层叠体为依次具有粘合剂层(1)、光吸收各向异性层及粘合剂层(2)的层叠体，其中，光吸收各向异性层包含有机二色性物质，光吸收各向异性层的厚度为5μm以下，粘合剂层(1)及粘合剂层(2)分别为在层叠体中从光吸收各向异性层观察时位于最近的位置的粘合剂层，下述式(I)所表示的H为10.0以下，H＝(粘合剂层1的厚度+粘合剂层(2)的厚度)/位于比粘合剂层(1)及粘合剂层(2)更靠内侧的位置的层的总厚度式(I)。
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公开(公告)号：CN108884568B
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201780018488.2
申请日：2017-03-09
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够在与图案状被镀层对应的位置形成低电阻的金属层的导电性层叠体的制造方法、层叠体及导电性层叠体。本发明的导电性层叠体的制造方法具有：使用规定的被镀层形成用组合物，在基材上形成被镀层形成用层的工序；对被镀层形成用层以图案状实施曝光处理及显影处理，而形成包含线宽小于3μm的部分的图案状被镀层的工序；使用含有镀覆催化剂或其前体的碱性的镀覆催化剂赋予液，将镀覆催化剂或其前体赋予到图案状被镀层的工序；及使用含有氨基羧酸类的镀覆液，对赋予有镀覆催化剂或其前体的图案状被镀层进行镀覆处理，而在图案状被镀层上形成金属层的工序。
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公开(公告)号：CN119013589A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202380029928.X
申请日：2023-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/30 , B29D11/00 , B32B7/023 , C08J7/04 , G02B3/00 , G02B27/02 , G02F1/1335 , G02F1/13363 , G09F9/00 , H10K50/86 , H10K59/10
Abstract: 本发明所要解决的课题在于提供一种成形方法、光学膜、胆甾醇型液晶层、光学层叠体及曲面状光学功能性层的制作方法，该成形方法可获得例如在虚拟现实显示装置中使用时能够抑制产生重影的光学膜。通过以下构成解决课题，即包括：加热工序，对光学膜进行加热；成形工序，将光学膜按压在模具上并使其变形；及裁切工序，裁切光学膜，加热工序为通过对光学膜照射红外线来进行加热的工序，红外线的照射量在光学膜的面内具有分布。
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