一种高Ce含量烧结磁体及其制备方法

    公开(公告)号:CN119480314A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411671532.8

    申请日:2024-11-21

    Applicant: 安徽大学

    Abstract: 本发明提供一种高Ce含量烧结磁体及其制备方法,涉及稀土永磁材料制备技术领。采用Ce含量大于22.0wt.%的富Ce主相作为主合金,采用含重稀土Dy、Tb且矫顽力大于20kOe的烧结Nd‑Fe‑B磁体废料作为辅合金来提供高磁晶各向异性场(HA)的主相晶粒。通过设计两种主相合金的粉末粒度和热处理工艺,让粒径较小且富含重稀土Dy、Tb的主相晶粒均匀分散在富Ce主相晶粒周围,在长时间烧结‑原位扩散热处理中利用两种主相晶粒之间的固‑固扩散,在富Ce主相晶粒表层构筑具有高HA的富Dy、Tb壳层,同时保持细小的晶粒尺寸,从而实现利用烧结Nd‑Fe‑B磁体废料制备具有高Ce含量且保持良好磁性能的烧结磁体。

    一种多主相富Ce烧结磁体及其制备方法

    公开(公告)号:CN119480313A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411671369.5

    申请日:2024-11-21

    Applicant: 安徽大学

    Abstract: 本发明提供一种多主相富Ce烧结磁体及其制备方法,涉及稀土磁性材料制备技术领域。采用Ce含量大于12.0wt.%的富Ce主相气流磨粉作为主合金,采用烧结Nd‑Fe‑B油泥经过纯化和气流磨后的磁粉作为辅合金来提供具有高磁晶各向异性场(HA)的富Pr\Nd主相晶粒。通过设计两种主相合金的粉末粒度和热处理工艺,让粒径较小的富Pr\Nd主相晶粒均匀分散在富Ce主相晶粒周围,经过长时间烧结‑原位扩散热处理,利用两种主相晶粒之间的固‑固扩散,在富Ce主相晶粒表层构筑具有高HA的富Pr\Nd壳层,同时保持细小的晶粒尺寸,从而实现利用烧结Nd‑Fe‑B油泥制备具有良好磁性能的多主相富Ce烧结磁体。

    一种高磁导率、低磁损的复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN112863801B

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202110046166.7

    申请日:2021-01-14

    Applicant: 安徽大学

    Abstract: 本发明提供一种高磁导率、低磁损的复合材料及其制备方法,涉及软磁复合材料加工技术领域。所述高磁导率、低磁损的复合材料为FeAlSi/羰基铁复合材料,其制备方法主要包括:金属粉制备、原料钝化、复合材料制备等步骤。本发明克服了现有技术的不足,通过羰基铁颗粒的存在增强了FeAlSi之间的磁耦合,导致磁导率增加,磁滞损耗降低,同时羰基铁本身的磁滞损耗大于FeAlSi,当含量为4%时,样品的磁损耗最低,磁导率高,具有优良的商业应用价值。

    一种高磁导率、低磁损的复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN112863801A

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202110046166.7

    申请日:2021-01-14

    Applicant: 安徽大学

    Abstract: 本发明提供一种高磁导率、低磁损的复合材料及其制备方法,涉及软磁复合材料加工技术领域。所述高磁导率、低磁损的复合材料为FeAlSi/羰基铁复合材料,其制备方法主要包括:金属粉制备、原料钝化、复合材料制备等步骤。本发明克服了现有技术的不足,通过羰基铁颗粒的存在增强了FeAlSi之间的磁耦合,导致磁导率增加,磁滞损耗降低,同时羰基铁本身的磁滞损耗大于FeAlSi,当含量为4%时,样品的磁损耗最低,磁导率高,具有优良的商业应用价值。

    一种高性能超薄稀土永磁磁片及其制备方法

    公开(公告)号:CN119694774A

    公开(公告)日:2025-03-25

    申请号:CN202510206958.4

    申请日:2025-02-25

    Abstract: 本发明公开了一种高性能超薄稀土永磁磁片及其制备方法,属于稀土永磁材料制备技术领域。所述制备方法包括以下步骤:铁原料和部分钐原料在真空条件下熔化后再加入余量钐,继续熔炼,得到的熔融合金浇筑至冷却辊上,得到钐铁合金片;对钐铁合金片依次进行均匀化处理、氢化处理和氮化处理,得到氮化后的磁粉;向磁粉中加入磷酸和缓蚀剂,湿法球磨、干燥后得到表面处理后磁粉;向表面处理后磁粉中加入粘结剂,密炼得到磁颗粒;对磁颗粒采用平板硫化机压制,制备得到的稀土永磁磁片厚度仅为0.2mm—0.4mm,磁片耐腐蚀性能强,表磁充足,磁性能强,制备成本较低,能够满足特定场景应用需求。

Patent Agency Ranking