无电解镀金液
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100347339C

    公开(公告)日:2007-11-07

    申请号:CN03102181.6

    申请日:2003-01-30

    CPC classification number: C23C18/44 H05K3/244

    Abstract: 本发明提供能够以单步工序形成密合性良好、且有孔度低的均一的金镀膜的无电解镀金液。该无电解镀金液通过置换反应得到的金的析出量是15μg/cm2以上,其中含有:可由金氧化的还原剂和与该还原剂同种或不同种的、可由基底金属氧化的还原剂。

    无电解镀金液
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1506494A

    公开(公告)日:2004-06-23

    申请号:CN200310120252.X

    申请日:2003-12-10

    CPC classification number: C23C18/42 C23C18/44

    Abstract: 本发明提供一种无电解镀金液,其不含有氰化合物作为金源,含有以通式(1)表示的分解抑制剂(其中不包括含有亚硫酸的金配位盐,上述分解抑制剂是胞嗪和pH为6.0以下的情况)。通式(1)中,R1~R4表示氢原子、可以具有取代基的碳原子数1~10的烷基、可以具有取代基的碳原子数6~10的芳基、可以具有取代基的碳原子数1~10的烷氧基、氨基、羟基、=O、卤原子,R2和R3或者R3和R4可以相互交联形成饱和环或者不饱和环,该饱和环或者不饱和环可以含有氧原子、硫原子或氮原子,上述各取代基是卤原子、氰基;=是单键或者双健。

    无电解镀金液
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1435510A

    公开(公告)日:2003-08-13

    申请号:CN03102181.6

    申请日:2003-01-30

    CPC classification number: C23C18/44 H05K3/244

    Abstract: 本发明提供能够以单步工序形成密合性良好、且有孔度低的均一的金镀膜的无电解镀金液。该无电解镀金液通过置换反应得到的金的析出量是15μg/cm2以上,其中含有:可由金氧化的还原剂和与该还原剂同种或不同种的、可由基底金属氧化的还原剂。

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