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公开(公告)号：CN100498411C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200580006672.2
申请日：2005-04-27
Applicant: 奥林巴斯株式会社
Abstract: 本发明提供一种激光聚光光学系统。本发明的激光聚光光学系统具有：激光光源，其出射激光；聚光光学系统，其配置在该激光光源与介质之间，将所述激光在介质中聚光，并且将来自聚光点的光再聚光；光检测器，其检测通过所述聚光光学系统被再聚光的所述光；以及激光发散点移动单元，其对应于使所述激光聚光的所述介质的折射率以及从所述介质的表面到聚光位置的距离，可使所述激光的激光发散点的位置和所述光检测器的位置沿所述激光的光轴移动。
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公开(公告)号：CN1906522A
公开(公告)日：2007-01-31
申请号：CN200580001727.0
申请日：2005-04-27
Applicant: 奥林巴斯株式会社 , 濱松赫德尼古斯股份有限公司
IPC: G02B27/00 , B23K26/04 , B23K26/06 , H01L21/301
Abstract: 激光束会聚光学系统设有：激光束源，用于投射激光束；束会聚光学系统，布置在所述激光束源与介质之间，用于将所述激光束会聚在所述介质处；以及激光发射点移动装置，其可以与要将所述激光束会聚到其中的所述介质的折射率和在所述介质的表面与要将所述激光束会聚到的位置之间的距离相对应地，来沿所述激光束的光轴移动所述激光束的激光发射点的位置。
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公开(公告)号：CN1705867A
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN200480001443.7
申请日：2004-09-01
Applicant: 奥林巴斯株式会社
Inventor： 江田幸夫
CPC classification number: G01M11/0271 , G01B11/2441
Abstract: 一种测定被检光学系统的波像差的波像差测定装置。照明系统(1)具有输出各波长(λ1、λi)的激光束的激光光源(1－1、1－2)，对应被作为进行波像差分析的对象的被检光学系统(8)的波长(λ1、 λi)选择任意一个激光光源(1－1、1－2)，波像差分析装置(2)根据在照明系统(1)所选择的激光束的波长(λ1、λi)和干涉条纹图像数据，分析被检光学系统(8)的波像差。
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公开(公告)号：CN1967185B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN200610138442.8
申请日：2006-11-14
Applicant: 奥林巴斯株式会社
CPC classification number: G01M11/0264
Abstract: 本发明提供一种镜头评价装置，该装置具有：配置在平面上的多个点光源；拍摄像并取得图像的摄像部；使上述点光源或者上述摄像部和成为评价对象的光学系统之间的相对距离变化的移动部；对每当上述移动部使上述相对距离变化时上述摄像部拍摄通过上述光学系统的上述多个点光源的像而取得的层叠图像进行记录的记录介质；从上述记录介质所记录的上述层叠图像内的多个点光源像中算出多个像位置的像位置算出部；以及将像差的模型函数拟合于由上述像位置算出部所算出的上述多个像位置以取得像差的测量值的像差取得部。
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公开(公告)号：CN101396764B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200810149840.9
申请日：2005-04-27
Applicant: 奥林巴斯株式会社 , 濱松赫德尼古斯股份有限公司
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明提供激光处理装置。激光束会聚光学系统设有：激光束源，用于投射激光束；束会聚光学系统，布置在所述激光束源与介质之间，用于将所述激光束会聚在所述介质处；以及激光发射点移动装置，其可以与要将所述激光束会聚到其中的所述介质的折射率和在所述介质的表面与要将所述激光束会聚到的位置之间的距离相对应地，来沿所述激光束的光轴移动所述激光束的激光发射点的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100526830C
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200480001443.7
申请日：2004-09-01
Applicant: 奥林巴斯株式会社
Inventor： 江田幸夫
CPC classification number: G01M11/0271 , G01B11/2441
Abstract: 一种测定被检光学系统的波像差的波像差测定装置。照明系统(1)具有输出各波长(λ1、λi)的激光束的激光光源(1-1、1-2)，对应被作为进行波像差分析的对象的被检光学系统(8)的波长(λ1、λi)选择任意一个激光光源(1-1、1-2)，波像差分析装置(2)根据在照明系统(1)所选择的激光束的波长(λ1、λi)和干涉条纹图像数据，分析被检光学系统(8)的波像差。
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公开(公告)号：CN1967185A
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200610138442.8
申请日：2006-11-14
Applicant: 奥林巴斯株式会社
CPC classification number: G01M11/0264
Abstract: 本发明提供一种镜头评价装置，该装置具有：配置在平面上的多个点光源；拍摄像并取得图像的摄像部；使上述点光源或者上述摄像部和成为评价对象的光学系统之间的相对距离变化的移动部；对每当上述移动部使上述相对距离变化时上述摄像部拍摄通过上述光学系统的上述多个点光源的像而取得的层叠图像进行记录的记录介质；从上述记录介质所记录的上述层叠图像内的多个点光源像中算出多个像位置的像位置算出部；以及将像差的模型函数拟合于由上述像位置算出部所算出的上述多个像位置以取得像差的测量值的像差取得部。
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公开(公告)号：CN101396765B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200810149841.3
申请日：2005-04-27
Applicant: 奥林巴斯株式会社 , 濱松赫德尼古斯股份有限公司
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明提供激光处理装置。激光束会聚光学系统设有：激光束源，用于投射激光束；束会聚光学系统，布置在所述激光束源与介质之间，用于将所述激光束会聚在所述介质处；以及激光发射点移动装置，其可以与要将所述激光束会聚到其中的所述介质的折射率和在所述介质的表面与要将所述激光束会聚到的位置之间的距离相对应地，来沿所述激光束的光轴移动所述激光束的激光发射点的位置。
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公开(公告)号：CN100485446C
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200580001727.0
申请日：2005-04-27
Applicant: 奥林巴斯株式会社 , 濱松赫德尼古斯股份有限公司
IPC: G02B27/00 , B23K26/04 , B23K26/06 , H01L21/301
Abstract: 激光束会聚光学系统设有：激光束源，用于投射激光束；束会聚光学系统，布置在所述激光束源与介质之间，用于将所述激光束会聚在所述介质处；以及激光发射点移动装置，其可以与要将所述激光束会聚到其中的所述介质的折射率和在所述介质的表面与要将所述激光束会聚到的位置之间的距离相对应地，来沿所述激光束的光轴移动所述激光束的激光发射点的位置。
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公开(公告)号：CN101396765A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200810149841.3
申请日：2005-04-27
Applicant: 奥林巴斯株式会社 , 濱松赫德尼古斯股份有限公司
Abstract: 本发明提供激光处理装置。激光束会聚光学系统设有：激光束源，用于投射激光束；束会聚光学系统，布置在所述激光束源与介质之间，用于将所述激光束会聚在所述介质处；以及激光发射点移动装置，其可以与要将所述激光束会聚到其中的所述介质的折射率和在所述介质的表面与要将所述激光束会聚到的位置之间的距离相对应地，来沿所述激光束的光轴移动所述激光束的激光发射点的位置。
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