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公开(公告)号:CN106414791A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:CN201580031944.8
申请日:2015-05-20
申请人: 奥博泰克有限公司
CPC分类号: B23K26/34 , B23K26/57 , B23K2103/10 , B23K2103/14 , C23C14/048 , C23C14/08 , C23C26/02 , H01C17/06 , H05K1/167 , H05K3/101 , H05K3/18 , H05K2203/0315 , H05K2203/087 , H05K2203/107 , H05K2203/128
摘要: 一种用于材料沉积的方法,其包括提供具有相对的第一与第二表面及在该第二表面上形成的包括金属的供体膜(36)的透明供体基板(34)。在含氧氛围中接近受体基板(22)定位该供体基板,其中该第二表面面向该受体基板。引导激光辐射脉冲通过该供体基板的该第一表面且冲射于该供体膜上,以便诱发熔融材料的液滴(44)自该供体膜喷射至该受体基板上,从而在该受体基板上形成该金属的粒子(46),其外层(54)包含该金属的氧化物。