公开(公告)号：CN116635494B

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202180085749.9

申请日：2021-12-14

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  前平健 ,  三桥尚志

IPC: C08G65/336 ,  C09K3/18 ,  C09K3/00 ,  C09D171/02

Abstract: 本发明提供一种下述式(1)或(2)所示的化合物。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119110820A

公开(公告)日：2024-12-10

申请号：CN202380037064.6

申请日：2023-05-24

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  久保田大贵 ,  三桥尚志 ,  高野真也

IPC: C08G65/32

Abstract: 本发明的目的在于提供一种在比现有技术更低压的情况下且以高收率制造在两末端具有活性基团的含有氟聚醚基的化合物的方法。本发明的含有氟聚醚基的化合物的制造方法包括将式(1)所示的化合物在反应介质的存在下与还原剂发生作用，由此得到式(2)所示的化合物的步骤，上述反应介质含有含氟醇。R1‑CO‑XA‑RF2‑XA‑CO‑R2(1)R1‑CH2‑XA‑RF2‑XA‑CH2‑R2(2)。

公开(公告)号：CN113677739B

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202080025560.6

申请日：2020-03-26

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  三桥尚志 ,  胜川健一 ,  前平健 ,  本成善美

IPC: C08G65/336 ,  C09D171/00 ,  C09K3/18

Abstract: 下述式(1)或(2)所示的含氟代聚醚基的化合物[式中，RSi由式(S1)表示，各记号如说明书所记载]。 ‑X1‑SiRa1p1Rb1q1Rc1r1 (S1)。

公开(公告)号：CN109475901B

公开(公告)日：2021-12-14

申请号：CN201780043471.2

申请日：2017-07-03

Applicant: 夏普株式会社 ,  大金工业株式会社

Inventor： 林秀和 ,  田口登喜生 ,  中松健一郎 ,  芝井康博 ,  厚母贤 ,  山下恒雄 ,  阪本英司 ,  新居沙弥 ,  荒木孝之

IPC: B05D5/00 ,  B05D7/24 ,  B29C59/02 ,  B32B3/30 ,  B32B5/14 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 ,  C08J7/18

Abstract: 本发明提供一种能以长期间连续制造防污性优异的防污性膜的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法，包括：将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1)；在涂敷有第一脱模剂的模具的表面上涂敷第二脱模剂的工序(2)；在将上述树脂夹在中间的状态下，将上述基材按压到上述模具的涂敷有上述第二脱模剂的表面，在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(3)；以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化，形成上述聚合物层的工序(4)，上述树脂含有包含规定的化合物而成的防污剂，上述第一脱模剂是包含规定的化合物而成的，上述第二脱模剂是包含规定的化合物而成的。

公开(公告)号：CN110023450A

公开(公告)日：2019-07-16

申请号：CN201880004573.8

申请日：2018-01-11

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 三桥尚志 ,  能势雅聪 ,  小泽香织 ,  山下恒雄

IPC: C09K3/18 ,  C08G65/04 ,  C08G65/325 ,  C08L71/00 ,  C09D5/16 ,  C09D7/40 ,  C09D171/02

Abstract: 含有含全氟(聚)醚基的硅烷化合物和含全氟(聚)醚基化合物的表面处理剂。该含全氟(聚)醚基化合物在分子内具有自由基捕捉基或紫外线吸收基。

公开(公告)号：CN109311191A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780034912.2

申请日：2017-06-14

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  阪本英司 ,  英翔 ,  新居沙弥 ,  荒木孝之

IPC: B29C33/62 ,  B29C59/02 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种制造方法，其中即使反复进行转印，被转印物也不容易从基板剥离或附着于模具。一种被转印物的制造方法，其特征在于，其包括下述工序：工序(1)，将含有氟聚醚的组合物涂布至形成有脱模层的在表面具有凹凸图案的模具的上述脱模层；工序(2)，将上述模具压抵至被转印物，转印上述凹凸图案；以及工序(3)，将上述模具从上述被转印物脱模，得到具有转印图案的上述被转印物。

公开(公告)号：CN104220224A

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：CN201380019153.4

申请日：2013-04-09

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  森田正道 ,  桑嶋佳子

IPC: B29C33/40 ,  B29C59/02 ,  H01L21/027 ,  B29K27/12 ,  B29K33/04

CPC classification number: C08L33/16 ,  B29C33/3857 ,  B29C33/40 ,  B29C33/424 ,  B29C43/003 ,  B29C43/02 ,  B29C43/50 ,  B29C71/04 ,  B29C2043/025 ,  B29K2033/12 ,  B29K2105/0014 ,  B29K2105/0085 ,  B29K2105/0088 ,  B29K2105/24 ,  B29L2031/757 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C08L37/00 ,  C08L2205/06 ,  C08L2312/06 ,  G03F7/0002 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086 ,  C08F220/24 ,  C08F2220/1875 ,  C08F2220/325 ,  C08F220/20 ,  C08F230/08

Abstract: 本发明提供一种脱模性优异的压印用的树脂模具材料和树脂复制模具材料组合物、含有该材料组合物而成的树脂模具和树脂复制模具以及它们的制造方法。一种压印用的树脂模具材料或者树脂复制模具材料组合物，含有压印用的模具树脂或者复制模具树脂100重量份和固化性的氟系聚合物(A)0.1～10重量份。优选一种材料组合物，其中，氟系聚合物(A)为含有(a1)具有碳原子数4～6的氟烷基的α位取代丙烯酸酯和(a2)在均聚物状态下的玻璃化转变温度或软化点显示为50℃以上的高软化点单体5～120重量份作为重复单元、且重均分子量为3,000～20,00的氟系聚合物(A1)。

公开(公告)号：CN119213055A

公开(公告)日：2024-12-27

申请号：CN202380036011.2

申请日：2023-04-25

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 渡边裕介 ,  前平健 ,  山下恒雄 ,  三桥尚志

IPC: C08G65/28 ,  C08G65/336 ,  G02B1/18 ,  C09K3/18

Abstract: 本发明提供一种成分(B)：式(B1)或式(B2)[式中：各符号的详细情况记载于说明书中]所示的含有氟代聚醚基的聚氧化亚烷基化合物。RFB1‑XB‑RB(B1)RB‑XB‑RFB2‑XB‑RB(B2)。

公开(公告)号：CN114206986B

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202080054377.9

申请日：2020-07-30

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  前平健 ,  三桥尚志

IPC: C08G65/336 ,  C08L71/00 ,  C09K3/18 ,  C03C17/30 ,  C09D171/02

Abstract: 本发明提供一种含有式(1)或(2)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物(A)和含氟代聚醚基的硅烷化合物(B)的表面处理剂。各符号如说明书中的记载。RF1α‑XA‑RSiβ (1)；RSiγ‑XA‑RF2‑XA‑RSiγ (2)。

公开(公告)号：CN113956464B

公开(公告)日：2024-07-16

申请号：CN202111291757.7

申请日：2017-09-22

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  能势雅聪 ,  三桥尚志 ,  新居沙弥 ,  阪本英司 ,  小泽香织

IPC: C08G65/333

Abstract: 本发明提供具有异氰脲骨架的化合物和包含其的组合物，目的在于提供一种能够适当地用于防污剂的化合物。一种化合物，其特征在于，其由式(1)所表示(式中，R1表示包含聚醚链的一价有机基团，其中不包括包含氨基甲酸酯键的基团，X1和X2独立地表示一价基团，上述聚醚链为式：‑(OC6F12)m11‑(OC5F10)m12‑(OC4F8)m13‑(OC3X106)m14‑(OC2F4)m15‑(OCF2)m16‑(式中，m11、m12、m13、m14、m15和m16独立地为0或1以上的整数，m11～m16合计为10以上的整数，X10独立地为H、F或Cl，各重复单元的存在顺序为任意的)所表示的链)。#imgabs0#