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公开(公告)号：CN109475901B
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN201780043471.2
申请日：2017-07-03
Abstract: 本发明提供一种能以长期间连续制造防污性优异的防污性膜的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法，包括：将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1)；在涂敷有第一脱模剂的模具的表面上涂敷第二脱模剂的工序(2)；在将上述树脂夹在中间的状态下，将上述基材按压到上述模具的涂敷有上述第二脱模剂的表面，在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(3)；以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化，形成上述聚合物层的工序(4)，上述树脂含有包含规定的化合物而成的防污剂，上述第一脱模剂是包含规定的化合物而成的，上述第二脱模剂是包含规定的化合物而成的。
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公开(公告)号：CN109476074A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780043472.7
申请日：2017-07-03
Abstract: 本发明提供一种防污性和耐擦性优异的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法，包括：将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1)；在将上述树脂夹在中间的状态下将上述基材按压到模具，在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(2)；以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化，形成上述聚合物层的工序(3)，上述树脂含有包含具有全氟(聚)醚基团的化合物而成的防污剂，上述模具的表面用包含具有全氟(聚)醚基团、可水解的基团以及Si原子的化合物而成的脱模剂实施了脱模处理。
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公开(公告)号：CN109475901A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780043471.2
申请日：2017-07-03
Abstract: 本发明提供一种能以长期间连续制造防污性优异的防污性膜的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法，包括：将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1)；在涂敷有第一脱模剂的模具的表面上涂敷第二脱模剂的工序(2)；在将上述树脂夹在中间的状态下，将上述基材按压到上述模具的涂敷有上述第二脱模剂的表面，在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(3)；以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化，形成上述聚合物层的工序(4)，上述树脂含有包含规定的化合物而成的防污剂，上述第一脱模剂是包含规定的化合物而成的，上述第二脱模剂是包含规定的化合物而成的。
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公开(公告)号：CN109476074B
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN201780043472.7
申请日：2017-07-03
Abstract: 本发明提供一种防污性和耐擦性优异的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法，包括：将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1)；在将上述树脂夹在中间的状态下将上述基材按压到模具，在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(2)；以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化，形成上述聚合物层的工序(3)，上述树脂含有包含具有全氟(聚)醚基团的化合物而成的防污剂，上述模具的表面用包含具有全氟(聚)醚基团、可水解的基团以及Si原子的化合物而成的脱模剂实施了脱模处理。
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公开(公告)号：CN111234576A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201911165176.1
申请日：2019-11-25
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供耐擦性优异、能长时间较高地维持防污性的防污性膜。本发明的防污性膜具备：基材；以及聚合物层，其配置于基材的表面上，在表面具有按可见光的波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构，在上述防污性膜中，聚合物层是聚合性组合物的固化物，聚合性组合物以有效成分换算含有75～95重量％的聚合性单体，含有2.5～12.5重量％的含氟和酯的氨基甲酸酯丙烯酸酯，含有2.5～9重量％的每1分子具有1个(甲基)丙烯酰基的全氟烷基系单体，聚合性单体包含具有环氧乙烷基的双官能丙烯酸酯和不具有环氧乙烷基的多官能丙烯酸酯，全氟烷基系单体中的氟原子浓度是50～60重量％，聚合性组合物中的环氧乙烷基浓度是20～50重量％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109571836A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811142590.6
申请日：2018-09-28
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供即便模具的转印次数增加，也可以抑制聚合物层及模具的脱模性降低、且提高防污性及耐刮擦性的防污膜的制造方法。本发明的防污膜的制造方法是具有基材和聚合物层的防污膜的制造方法，该聚合物层配置于基材表面上，且于表面具有以可见光波长以下的间距设置多个凸部的凹凸结构，该防污膜的制造方法包含：将第一树脂涂布于模具表面上的工序、将第二树脂涂布于基材表面上的工序、于将第一树脂及第二树脂夹于其间的状态下将基材抵压于模具上而形成于表面具有凹凸结构的树脂层的工序、及使树脂层硬化而形成聚合物层的工序，第一树脂含有至少一种氟系脱模剂和丙烯酸2-(2-乙烯氧基乙氧基)乙酯，且以有效成分换算计而含有40～95重量％的丙烯酸2-(2-乙烯氧基乙氧基)乙酯。
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公开(公告)号：CN106332553A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201680000545.X
申请日：2016-02-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B29D11/00788 , B29C33/62 , B29C35/0805 , B29C59/026 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29D11/0073 , B29D11/00865 , B29K2033/04 , B29K2105/0002 , B29K2105/0005 , B29K2995/0087 , B29K2995/0097 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B27/30 , B32B37/15 , B32B38/06 , B32B2551/00 , C08F290/067 , C08L75/16 , C09D5/006 , C09D5/1662 , C09D5/1681 , C09D5/1693 , C09D133/08 , C09D133/24 , C09D175/16 , G02B1/118 , G02B1/14 , G02B1/18 , C08F222/1006 , G02B1/111
Abstract: 本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
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公开(公告)号：CN102803577A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201180014427.1
申请日：2011-03-22
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G02B1/118 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , C25D11/04 , C25D11/045 , C25D11/12 , C25D11/24
Abstract: 本发明的目的在于提供抑制了凹坑(凹陷)的形成、在表面具有多孔氧化铝层的模具的制造方法，本发明的蛾眼用模具的制造方法是在表面具有多孔氧化铝层(14)的模具的制造方法，包含：准备具有铝基材(12)和在铝基材(12)的表面沉积的纯度为99.99质量％以上的铝膜(18)的模具基材(10)的工序；对铝膜(18)的表面(18s)进行阳极氧化，由此形成具有多个微细的凹部(14p)的多孔氧化铝层(14)的工序；以及使多孔氧化铝层(14)与蚀刻液接触，由此使多孔氧化铝层(14)的多个微细的凹部(14p)扩大的工序。
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公开(公告)号：CN109476073B
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201780043392.1
申请日：2017-07-03
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种不损害透明性而提高防污性和耐擦性的光学构件的制造方法。在本发明的光学构件的制造方法中，光学构件具备：基材；以及聚合物层，在其表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构，光学构件的制造方法包括：工序(1)，使光固化性树脂和脱模剂溶解于溶剂，调制树脂溶液；工序(2)，将上述树脂溶液涂敷到上述基材的表面上；工序(3)，进行从上述树脂溶液的涂敷物除去上述溶剂的加热处理，形成树脂层；工序(4)，在将上述树脂层夹在中间的状态下，将上述基材按压于模具，将上述凹凸结构形成于上述树脂层的表面；以及工序(5)，通过光照射使上述树脂层固化，形成上述聚合物层，上述光固化性树脂和上述脱模剂是在相互混合的情况下表现出规定的浊度的组合，上述光学构件的雾度不到1.0％。
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公开(公告)号：CN109494139B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201811050597.5
申请日：2018-09-07
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种能使现有的电子发射元件实现特性提升及/或寿命增长且具有新颖构造的电子发射元件及其制造方法。电子发射元件的制造方法包含：步骤A，准备铝基板(12)或由基板支承的铝层；步骤B，通过使铝基板的表面(12s)或铝层的表面阳极氧化，而形成具有多个细孔(34)的多孔氧化铝层(32)；步骤C，通过向多个细孔内赋予银纳米粒子(42n)，而使多个细孔内承载银纳米粒子；步骤D，在步骤C之后，对铝基板或铝层的实质整个表面，赋予绝缘层形成溶液(36)；步骤E，在步骤D之后，通过至少减少绝缘层形成溶液中所含的溶剂而形成绝缘层(37)；及步骤F，在绝缘层上形成电极(52)。
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