公开(公告)号：CN109476074B

公开(公告)日：2021-04-20

申请号：CN201780043472.7

申请日：2017-07-03

Applicant: 夏普株式会社 ,  大金工业株式会社

Inventor： 林秀和 ,  田口登喜生 ,  中松健一郎 ,  芝井康博 ,  厚母贤 ,  山下恒雄 ,  新居沙弥 ,  阪本英司 ,  英翔 ,  三桥尚志 ,  荒木孝之

IPC: B29C59/04 ,  C08G18/67 ,  C08G18/79 ,  G02B1/18 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  B32B38/06

Abstract: 本发明提供一种防污性和耐擦性优异的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法，包括：将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1)；在将上述树脂夹在中间的状态下将上述基材按压到模具，在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(2)；以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化，形成上述聚合物层的工序(3)，上述树脂含有包含具有全氟(聚)醚基团的化合物而成的防污剂，上述模具的表面用包含具有全氟(聚)醚基团、可水解的基团以及Si原子的化合物而成的脱模剂实施了脱模处理。

公开(公告)号：CN109476074A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780043472.7

申请日：2017-07-03

Applicant: 夏普株式会社 ,  大金工业株式会社

Inventor： 林秀和 ,  田口登喜生 ,  中松健一郎 ,  芝井康博 ,  厚母贤 ,  山下恒雄 ,  新居沙弥 ,  阪本英司 ,  英翔 ,  三桥尚志 ,  荒木孝之

IPC: B29C59/04 ,  C08G18/67 ,  C08G18/79 ,  G02B1/18 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 ,  B32B27/30 ,  B32B38/06

Abstract: 本发明提供一种防污性和耐擦性优异的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法，包括：将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1)；在将上述树脂夹在中间的状态下将上述基材按压到模具，在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(2)；以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化，形成上述聚合物层的工序(3)，上述树脂含有包含具有全氟(聚)醚基团的化合物而成的防污剂，上述模具的表面用包含具有全氟(聚)醚基团、可水解的基团以及Si原子的化合物而成的脱模剂实施了脱模处理。

公开(公告)号：CN116635494B

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202180085749.9

申请日：2021-12-14

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  前平健 ,  三桥尚志

IPC: C08G65/336 ,  C09K3/18 ,  C09K3/00 ,  C09D171/02

Abstract: 本发明提供一种下述式(1)或(2)所示的化合物。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119110820A

公开(公告)日：2024-12-10

申请号：CN202380037064.6

申请日：2023-05-24

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  久保田大贵 ,  三桥尚志 ,  高野真也

IPC: C08G65/32

Abstract: 本发明的目的在于提供一种在比现有技术更低压的情况下且以高收率制造在两末端具有活性基团的含有氟聚醚基的化合物的方法。本发明的含有氟聚醚基的化合物的制造方法包括将式(1)所示的化合物在反应介质的存在下与还原剂发生作用，由此得到式(2)所示的化合物的步骤，上述反应介质含有含氟醇。R1‑CO‑XA‑RF2‑XA‑CO‑R2(1)R1‑CH2‑XA‑RF2‑XA‑CH2‑R2(2)。

公开(公告)号：CN114746479B

公开(公告)日：2024-06-07

申请号：CN202080083372.9

申请日：2020-12-10

Applicant: 迈图高新材料日本合同公司 ,  大金工业株式会社

Inventor： 饭田勋 ,  小野和久 ,  藤本哲夫 ,  丸桥和希 ,  三桥尚志

IPC: C08G77/26 ,  C08G65/336 ,  C08K5/5415 ,  C08L71/02

Abstract: 一种固化性组合物，其包含：通式(I)(式中，各基的定义如说明书所记载)所示的含全氟(聚)醚基的硅烷化合物；(b)具有至少2个与Si原子键合的OR2基的有机硅化合物(在此，R2在每次出现时各自独立地为氢原子或1价的有机基团)或其部分水解缩合物；以及(c)缩合催化剂。该组合物在室温下通过水分而固化，提供深部固化性优异的固化性组合物。

公开(公告)号：CN118027382A

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202410183333.6

申请日：2020-05-14

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 丸桥和希 ,  小泽香织 ,  三桥尚志

IPC: C08G65/00 ,  C08G65/337 ,  C09D171/00 ,  C09D5/00 ,  C08L71/00 ,  C09K3/18

Abstract: 本发明提供一种表面处理剂，其包含以下式(1)或(2)[式中各符号的含义与说明书中的记载相同]所示的至少1种的含氟代聚醚基的化合物和氯离子，表面处理剂中的氯离子浓度为0.1质量ppm以上1.0质量ppm以下。RF1α‑XA‑RSiβ(1)，RSiγ‑XA‑RF2‑XA‑RSiγ(2)。

公开(公告)号：CN113677739B

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202080025560.6

申请日：2020-03-26

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 山下恒雄 ,  三桥尚志 ,  胜川健一 ,  前平健 ,  本成善美

IPC: C08G65/336 ,  C09D171/00 ,  C09K3/18

Abstract: 下述式(1)或(2)所示的含氟代聚醚基的化合物[式中，RSi由式(S1)表示，各记号如说明书所记载]。 ‑X1‑SiRa1p1Rb1q1Rc1r1 (S1)。

公开(公告)号：CN112739789B

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN201980061145.3

申请日：2019-09-05

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 能势雅聪 ,  三桥尚志

IPC: C09K3/18 ,  C08G65/336 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明提供一种表面处理剂，其含有：(α)下述式(α1)或式(α2)所示的化合物；和(β)具有OCF2单元的含全氟聚醚基的硅烷化合物。(式中，各符号的含义与说明书中相同。)#imgabs0#

公开(公告)号：CN111670207B

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN201980011171.5

申请日：2019-01-31

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 三桥尚志 ,  野村孝史 ,  内藤真人 ,  渡边裕介 ,  小泽香织 ,  高野真也 ,  P·胡普菲尔德

IPC: C08G65/336 ,  C03C17/32 ,  C08G65/00 ,  H04M1/02

Abstract: 一种电子设备，其至少在部分表面具有式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)或(C2)中的任一式所示的含氟代(聚)醚基的硅烷化合物形成的表面处理层。式中，PFPE在每次出现时分别独立地为式：－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3XF6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－所示且至少具有1个支链结构的基团、或者为式：－(R16－R17)j1－所示的基团。各符号的含义与说明书中的记载相同。

公开(公告)号：CN114450361B

公开(公告)日：2023-06-20

申请号：CN202080067876.1

申请日：2020-10-16

Applicant: 大金工业株式会社 ,  迈图高新材料公司

Inventor： 三桥尚志 ,  野村孝史 ,  松井元志 ,  小泽香织 ,  H·舍恩 ,  A·查维斯 ,  M·伍斯科 ,  A·H·麦金斯特里

IPC: G02B1/10 ,  C08G77/24 ,  C08G65/336 ,  C09D171/00 ,  C09D183/08

Abstract: 本发明提供一种包含(1)氟烷基硅烷低聚物混合物和(2)含有全氟烷基的硅烷化合物的表面处理剂。