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公开(公告)号：CN101154560B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200710141042.7
申请日：2007-08-16
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/67 , G03F1/00 , G02F1/1333 , H01J9/00 , G11B7/26 , G11B5/84
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/67028 , Y10S134/902
Abstract: 一种基板处理装置和基板处理方法，使用IPA等低表面张力溶剂使被处理液浸湿的基板干燥，防止在基板表面上产生水斑同时使基板表面良好地干燥。向间隙空间(SP)供给氮气的同时，从设置在遮断构件(9)上的冲洗液喷出口(96a)喷出冲洗液(DIW)，而对基板表面(Wf)实施冲洗处理；并且，向间隙空间(SP)供给氮气的同时，从设置在遮断构件(9)上的混合液喷出口(97a)喷出混合液(IPA+DIW)，将附着在基板表面(Wf)上的冲洗液置换为混合液。因此，在附着于基板表面(Wf)上的冲洗液被置换为混合液时，能够抑制混合液的溶解氧浓度上升，能够切实地防止在基板表面(Wf)上形成氧化膜或产生水斑。
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公开(公告)号：CN100411108C
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200510125092.7
申请日：2005-11-18
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/12
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和方法，可以在抑制损坏基板的同时对基板进行均匀的处理。与由多个卡盘销保持的基板对向而配置遮断板，通过从处理液喷嘴向基板表面和遮断板的对置面所夹持的空间中供给处理液，形成处理液的液密状态。并且，保持形成处理液的液密状态原样，使基板和遮断板旋转。在此状态，从超声波喷嘴对遮断板的对置面大致垂直地喷射传播了超声波振动的液体(纯水)。超声波振动在遮断板的内部向水平方向扩展，其中一部分的振动波从遮断板的对置面向液密状态的处理液扩展大范围并均匀地传递，使该处理液振动。为此，对基板表面振动能量不集中，可以在抑制基板损坏的同时对基板均匀处理。
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公开(公告)号：CN100501921C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200710106560.5
申请日：2007-06-06
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/67 , H01L21/027 , G03F7/30
Abstract: 本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置，利用IPA等有机溶剂成分使被液体浸湿的基板表面干燥，在抑制有机溶剂成分的消耗量的同时，使基板表面良好地干燥。在漂洗处理之后，使基板(W)旋转而从基板表面(Wf)甩掉并除去附着于基板表面(Wf)上的漂洗液(DIW)的表层部。接着，向基板表面(Wf)供给由IPA和DIW混合而成的混合液。由于除去基板表面(Wf)上的大部分漂洗液，因此，即使在基板表面(Wf)上形成有微细图案(FP)，附着于图案间隙处的液体成分也被混合液置换。还有，向基板表面(Wf)供给的混合液中的IPA浓度为50%以下。因此，能够抑制IPA的消耗量的同时，能够有效地防止图案倒塌。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101154560A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200710141042.7
申请日：2007-08-16
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/67 , G03F1/00 , G02F1/1333 , H01J9/00 , G11B7/26 , G11B5/84
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/67028 , Y10S134/902
Abstract: 一种基板处理装置和基板处理方法，使用IPA等低表面张力溶剂使被处理液浸湿的基板干燥，防止在基板表面上产生水斑同时使基板表面良好地干燥。向间隙空间(SP)供给氮气的同时，从设置在遮断构件(9)上的冲洗液喷出口(96a)喷出冲洗液(DIW)，而对基板表面(Wf)实施冲洗处理；并且，向间隙空间(SP)供给氮气的同时，从设置在遮断构件(9)上的混合液喷出口(97a)喷出混合液(IPA+DIW)，将附着在基板表面(Wf)上的冲洗液置换为混合液。因此，在附着于基板表面(Wf)上的冲洗液被置换为混合液时，能够抑制混合液的溶解氧浓度上升，能够切实地防止在基板表面(Wf)上形成氧化膜或产生水斑。
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公开(公告)号：CN1794430A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200510125092.7
申请日：2005-11-18
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/12
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和方法，可以在抑制损坏基板的同时对基板进行均匀的处理。与由多个卡盘销保持的基板对向而配置遮断板，通过从处理液喷嘴向基板表面和遮断板的对置面所夹持的空间中供给处理液，形成处理液的液密状态。并且，保持形成处理液的液密状态原样，使基板和遮断板旋转。在此状态，从超声波喷嘴对遮断板的对置面大致垂直地喷射传播了超声波振动的液体(纯水)。超声波振动在遮断板的内部向水平方向扩展，其中一部分的振动波从遮断板的对置面向液密状态的处理液扩展大范围并均匀地传递，使该处理液振动。为此，对基板表面振动能量不集中，可以在抑制基板损坏的同时对基板均匀处理。
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公开(公告)号：CN100543931C
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200710127899.3
申请日：2007-07-17
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: B08B7/0014 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , H01L21/67109 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供一种能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时，在整个基板表面生成冻结膜的基板处理装置、液膜冻结方法以及使用该液膜冻结方法的基板处理方法。从冷却气体排放喷嘴向形成了液膜的基板表面局部的排放冷却气体。然后，在旋转基板的同时，使冷却气体排放喷嘴沿着移动轨迹从基板的旋转中心位置向基板的端缘位置摇动。由此，在基板表面的表面区域中，冻结了液膜的区域(冻结区域)从基板表面的中央部向周缘部扩散。因此，冷却气体的供给部位被限定在基板表面上的一部分区域，从而能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时，在整个基板表面生成冻结膜。
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公开(公告)号：CN101145502A
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200710127899.3
申请日：2007-07-17
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
CPC classification number: B08B7/0014 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , H01L21/67109 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供一种能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时，在整个基板表面生成冻结膜的基板处理装置、液膜冻结方法以及使用该液膜冻结方法的基板处理方法。从冷却气体排放喷嘴向形成了液膜的基板表面局部的排放冷却气体。然后，在旋转基板的同时，使冷却气体排放喷嘴沿着移动轨迹从基板的旋转中心位置向基板的端缘位置摇动。由此，在基板表面的表面区域中，冻结了液膜的区域(冻结区域)从基板表面的中央部向周缘部扩散。因此，冷却气体的供给部位被限定在基板表面上的一部分区域，从而能够在抑制基板周边构件的耐久性劣化的同时，在整个基板表面生成冻结膜。
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公开(公告)号：CN101097837A
公开(公告)日：2008-01-02
申请号：CN200710106560.5
申请日：2007-06-06
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/67 , H01L21/027 , G03F7/30
Abstract: 本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置，利用IPA等有机溶剂成分使被液体浸湿的基板表面干燥，在抑制有机溶剂成分的消耗量的同时，使基板表面良好地干燥。在漂洗处理之后，使基板(W)旋转而从基板表面(Wf)甩掉并除去附着于基板表面(Wf)上的漂洗液(DIW)的表层部。接着，向基板表面(Wf)供给由IPA和DIW混合而成的混合液。由于除去基板表面(Wf)上的大部分漂洗液，因此，即使在基板表面(Wf)上形成有微细图案(FP)，附着于图案间隙处的液体成分也被混合液置换。还有，向基板表面(Wf)供给的混合液中的IPA浓度为50％以下。因此，能够抑制IPA的消耗量的同时，能够有效地防止图案倒塌。
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