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公开(公告)号：CN102959121B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201180029760.X
申请日：2011-08-17
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/0008 , C23C14/042 , H01L27/3211 , H01L27/3244 , H01L51/0011 , H01L51/56
Abstract: 依次配置蒸镀源(60)、多个控制板(80)和蒸镀掩模(70)。使基板(10)相对于蒸镀掩模以隔开一定间隔的状态相对地移动。从蒸镀源的蒸镀源开口(61)被放出的蒸镀颗粒(91)通过相邻的控制板间空间(81)，并且通过形成于蒸镀掩模的掩模开口(71)，附着在基板而形成覆膜(90)。覆膜的至少一部分由通过相互不同的两个以上的控制板间空间的蒸镀颗粒形成。由此，能够形成抑制了端缘的模糊和厚度不均的覆膜。
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公开(公告)号：CN102482760B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201080040615.7
申请日：2010-09-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/042 , C23C14/12 , H01L51/0011
Abstract: 使用掩模单元(80)，该掩模单元(80)具备阴影掩模(81)和蒸镀源(85)，且将阴影掩模(81)和蒸镀源(85)的相对位置固定，该阴影掩模(81)具有开口部(82)，且面积小于被成膜基板(200)的蒸镀区域(210)，该蒸镀源(85)具有射出蒸镀颗粒的射出口(86)，该射出口(86)与阴影掩模(81)相对配置，进行阴影掩模(81)和被成膜基板(200)之间的空隙量的调整，将掩模单元(80)和被成膜基板(200)之间的空隙量保持一定，使掩模单元(80)和被成膜基板(200)中的至少一方相对移动，将蒸镀颗粒经由阴影掩模(81)的开口部(82)在蒸镀区域(210)上顺次蒸镀。由此，能够在大型的基板上形成高精细的蒸镀图案。
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公开(公告)号：CN103282540B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201180063869.5
申请日：2011-12-28
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L21/02263 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/562 , H01L21/67017 , H01L51/0008 , H01L51/56
Abstract: 蒸镀装置(50)的掩模(60)具有周期性的图案，仅一周期的图案的形成区域露出。掩模基材的与长边方向垂直的方向的长度比被成膜基板(200)的扫描方向的长度短。掩模(60)配设成掩模基材的长边方向与扫描方向垂直，并设置成能够通过卷出辊(91)和卷取辊(92)的旋转使露出区域在与扫描方向垂直的方向上移动。
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公开(公告)号：CN103282540A
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN201180063869.5
申请日：2011-12-28
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L21/02263 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/562 , H01L21/67017 , H01L51/0008 , H01L51/56
Abstract: 蒸镀装置(50)的掩模(60)具有周期性的图案，仅一周期的图案的形成区域露出。掩模基材的与长边方向垂直的方向的长度比被成膜基板(200)的扫描方向的长度短。掩模(60)配设成掩模基材的长边方向与扫描方向垂直，并设置成能够通过卷出辊(91)和卷取辊(92)的旋转使露出区域在与扫描方向垂直的方向上移动。
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公开(公告)号：CN102860132A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201180021351.5
申请日：2011-05-02
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/001 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24 , H01L27/3211 , H01L51/56
Abstract: 依次配置蒸镀源（60）、多个限制板（81）和蒸镀掩模（70）。使基板相对于蒸镀掩模以隔开一定间隔的状态相对地移动。从蒸镀源的蒸镀源开口（61）放出的蒸镀颗粒（91），通过相邻的限制板之间，并通过在蒸镀掩模形成的掩模开口（71）附着于基板，而形成覆膜（90）。限制板限制向掩模开口入射的蒸镀颗粒的、沿基板的相对移动方向看时的入射角度。由此，在大型的基板也能够以不扩大像素间距、不降低开口率等的方式形成有机EL元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102482760A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080040615.7
申请日：2010-09-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/042 , C23C14/12 , H01L51/0011
Abstract: 使用掩模单元(80)，该掩模单元(80)具备阴影掩模(81)和蒸镀源(85)，且将阴影掩模(81)和蒸镀源(85)的相对位置固定，该阴影掩模(81)具有开口部(82)，且面积小于被成膜基板(200)的蒸镀区域(210)，该蒸镀源(85)具有射出蒸镀颗粒的射出口(86)，该射出口(86)与阴影掩模(81)相对配置，进行阴影掩模(81)和被成膜基板(200)之间的空隙量的调整，将掩模单元(80)和被成膜基板(200)之间的空隙量保持一定，使掩模单元(80)和被成膜基板(200)中的至少一方相对移动，将蒸镀颗粒经由阴影掩模(81)的开口部(82)在蒸镀区域(210)上顺次蒸镀。由此，能够在大型的基板上形成高精细的蒸镀图案。
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公开(公告)号：CN116020432A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202211312562.0
申请日：2022-10-25
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供一种光催化剂涂层结构，其能够设置在容易产生挥发性有机化合物的基材上，并且具有优异的恶臭物质除去效率。本发明的光催化剂涂层结构的特征在于，具备：底涂层；以及光催化剂层，其设置于所述底涂层上，所述底涂层包含聚乙烯醇系树脂和混入所述聚乙烯醇系树脂中的板状的粘土矿物粒子，所述聚乙烯醇系树脂的皂化度为90mol％以上时，所述聚乙烯醇系树脂在20℃下的4％水溶液粘度大于28mPa·s，所述聚乙烯醇系树脂的皂化度小于90mol％时，所述聚乙烯醇系树脂的20℃的4％水溶液粘度小于44mPa·s。
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公开(公告)号：CN107075778A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580049795.8
申请日：2015-01-28
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明的洗衣机(40)的特征在于，具备电解水生成部(2)和洗涤筒(15)，电解水生成部(2)具备电解液供给部(10)和具有电解用电极对(1)的电解部(5)，电解液供给部(10)设为将电解水生成用电解质(13)的水溶液向电解部(5)供给，电解水生成用电解质(13)包含碱金属氯化物和水溶液为酸性的物质，电解部(5)设为通过电解用电极对(1)将电解水生成用电解质(13)的水溶液电解而生成电解水(18)，电解水生成部(2)设为将通过电解部(5)生成的电解水(18)向洗涤筒(15)供给，通过电解水生成部(2)向洗涤筒(15)供给的电解水(18)的pH值大于6.5且小于8.0。
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公开(公告)号：CN106661742A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580041222.0
申请日：2015-01-28
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C25B1/34 , C02F1/46104 , C02F1/4618 , C02F1/4674 , C02F2001/46142 , C02F2001/46185 , C02F2201/4611 , C02F2209/29 , C02F2301/024 , C25B1/26 , C25B9/00 , C25B9/06 , C25B15/08
Abstract: 本发明的电解装置具备电解单元，上述电解单元具备被处理流体流路、至少一组电解用电极对、流入口以及流出口，上述电解用电极对以相对于竖直方向而倾斜的方式配置，并且包括相互相对配置的上部电极和下部电极，上述被处理流体流路设置成：从上述流入口流入的流体在上述上部电极与上述下部电极之间的电极间流路从下侧向上侧流动，从上述流出口流出。
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公开(公告)号：CN102959121A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201180029760.X
申请日：2011-08-17
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/0008 , C23C14/042 , H01L27/3211 , H01L27/3244 , H01L51/0011 , H01L51/56
Abstract: 依次配置蒸镀源(60)、多个控制板(80)和蒸镀掩模(70)。使基板(10)相对于蒸镀掩模以隔开一定间隔的状态相对地移动。从蒸镀源的蒸镀源开口(61)被放出的蒸镀颗粒(91)通过相邻的控制板间空间(81)，并且通过形成于蒸镀掩模的掩模开口(71)，附着在基板而形成覆膜(90)。覆膜的至少一部分由通过相互不同的两个以上的控制板间空间的蒸镀颗粒形成。由此，能够形成抑制了端缘的模糊和厚度不均的覆膜。
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