晶片级自形成纳米通道及其制造方法

    公开(公告)号:CN103922275A

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:CN201410007808.2

    申请日:2014-01-08

    CPC classification number: H01B13/06 B82Y40/00 G01N33/48721 Y10S977/70

    Abstract: 本发明涉及晶片级自形成纳米通道及其制造方法。提供了一种制造纳米器件的纳米通道的机制。在衬底上沉积绝缘膜。在所述膜上构图纳米线。在所述纳米线和膜上沉积绝缘材料。在所述绝缘材料中形成第一圆形孔洞作为入口,所述第一圆形孔洞在所述纳米线的第一末端上方从而暴露所述第一末端。形成第二圆形孔洞作为出口,所述第二圆形孔洞在所述纳米线的与所述第一末端相对的第二末端上方从而暴露所述第二末端。通过所述第一和第二孔洞中的蚀刻剂蚀刻掉所述纳米线,纳米通道连接所述第一和第二孔洞。在所述第一圆形孔洞上附着第一储存器使其在所述第一末端原先的位置处与所述纳米通道连接。在所述第二圆形孔洞上附着第二储存器使其在所述第二末端原先的位置处与所述纳米通道连接。

    增加的到纳米孔中的分子捕获率

    公开(公告)号:CN104487836B

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201380038979.5

    申请日:2013-05-30

    CPC classification number: B03C5/005 B03C5/026 B03C2201/26 B82Y15/00

    Abstract: 提供一种用于捕获分子的机构。纳米孔通过将第一腔与第二腔分开的膜,并且所述纳米孔、所述第一腔和所述第二腔填充有离子缓冲物。窄颈部处于所述第一腔的中间区域,并且所述窄颈部被对准到所述纳米孔的入口。与具有低强度电场的所述第一腔的其它区域相比,所述窄颈部具有高强度电场。在对准到所述纳米孔的所述入口的中间区域处,具有高强度电场的所述窄颈部集中所述分子。施加在所述第一腔和所述第二腔之间的电压驱动被集中在所述纳米孔的所述入口处的所述分子通过所述纳米孔。

    晶片级自形成纳米通道及其制造方法

    公开(公告)号:CN103922275B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201410007808.2

    申请日:2014-01-08

    CPC classification number: H01B13/06 B82Y40/00 G01N33/48721 Y10S977/70

    Abstract: 本发明涉及晶片级自形成纳米通道及其制造方法。提供了一种制造纳米器件的纳米通道的机制。在衬底上沉积绝缘膜。在所述膜上构图纳米线。在所述纳米线和膜上沉积绝缘材料。在所述绝缘材料中形成第一圆形孔洞作为入口,所述第一圆形孔洞在所述纳米线的第一末端上方从而暴露所述第一末端。形成第二圆形孔洞作为出口,所述第二圆形孔洞在所述纳米线的与所述第一末端相对的第二末端上方从而暴露所述第二末端。通过所述第一和第二孔洞中的蚀刻剂蚀刻掉所述纳米线,纳米通道连接所述第一和第二孔洞。在所述第一圆形孔洞上附着第一储存器使其在所述第一末端原先的位置处与所述纳米通道连接。在所述第二圆形孔洞上附着第二储存器使其在所述第二末端原先的位置处与所述纳米通道连接。

    增加的到纳米孔中的分子捕获率

    公开(公告)号:CN104487836A

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201380038979.5

    申请日:2013-05-30

    CPC classification number: B03C5/005 B03C5/026 B03C2201/26 B82Y15/00

    Abstract: 提供一种用于捕获分子的机构。纳米孔通过将第一腔与第二腔分开的膜,并且所述纳米孔、所述第一腔和所述第二腔填充有离子缓冲物。窄颈部处于所述第一腔的中间区域,并且所述窄颈部被对准到所述纳米孔的入口。与具有低强度电场的所述第一腔的其它区域相比,所述窄颈部具有高强度电场。在对准到所述纳米孔的所述入口的中间区域处,具有高强度电场的所述窄颈部集中所述分子。施加在所述第一腔和所述第二腔之间的电压驱动被集中在所述纳米孔的所述入口处的所述分子通过所述纳米孔。

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