硒源加热裂解装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117551984A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202210938962.6

    申请日:2022-08-05

    IPC分类号: C23C16/448

    摘要: 本公开涉及一种硒源加热裂解装置,包括:加热单元,包括盒体、坩埚和第一加热组件,盒体包括密闭的空腔以及与空腔连通的至少一个喷口,坩埚设于所述空腔中,第一加热组件设于盒体,用于在第一预设温度将坩埚中的硒料加热成硒蒸气;以及裂解单元,包括裂解管以及设于裂解管周向的第二加热组件,裂解管的一端与喷口连通,第二加热组件用于在第二预设温度对流经裂解管的硒蒸气进行裂解,其中,所述第二预设温度高于所述第一预设温度。通过上述技术方案,该硒源加热裂解装置用以至少部分解决硒反应时的活性不高、硒消耗量大、硒蒸气控制不稳定而影响薄膜结晶质量和电学特性的技术问题。

    真空镀膜系统及真空镀膜方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117551977A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202210940330.3

    申请日:2022-08-05

    摘要: 本公开涉及一种真空镀膜系统及真空镀膜方法,系统包括:真空腔体,设置于真空腔体内部用于带动基片移动的传送装置,以及设置于真空腔体内部用于加热基片的加热器;真空腔体内还设置有沿基片移动方向的多个蒸发镀膜腔室,以及与每个蒸发镀膜腔室配合的镀膜检测组件,蒸发镀膜腔室内设置有蒸发源;控制器,控制器用于至少根据目标镀膜检测组件检测得到的目标镀膜信息,确定与目标镀膜检测组件配合的目标蒸发镀膜腔室的目标镀膜结果,并基于目标镀膜结果对目标蒸发镀膜腔室的蒸发源进行控制,目标镀膜检测组件为真空腔体内的任一个镀膜检测组件。采用本公开的系统,可以对镀膜工艺起到更加细致的控制,使得控制更加灵活准确。

    蒸发源裂解管、蒸发源装置以及沉积装置

    公开(公告)号:CN118621268A

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202310254520.4

    申请日:2023-03-09

    摘要: 本公开涉及一种蒸发源裂解管、蒸发源装置以及沉积装置,蒸发源裂解管包括管体、加热器以及多个形成在管体内的裂解通道,加热器用于对管体进行加热,每个裂解通道均沿管体的长度方向贯穿管体,且相邻两个裂解通道之间存在间隔且独立设置。本方案提供的蒸发源裂解管的管体内形成有多个裂解通道,这样的设置在管体外周的加热丝在对管体进行加热的过程中,能够同时对位于多个裂解通道内的蒸气进行加热,从而使得蒸气能够同时从多个裂解通道内喷出,起到增大蒸气流量的效果,并且,蒸汽具有更多与裂解通道的内壁碰撞进行热交换的机会,从而提升加热效率,使得蒸气在更短的运动距离内达到目标温度,并且使裂解通道内的蒸气达到更高的温度。

    表面电阻检测装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118553633A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202310212461.4

    申请日:2023-02-27

    IPC分类号: H01L21/66

    摘要: 本公开涉及一种表面电阻检测装置,检测装置包括安装板、测量头以及与测量头电连接的控制单元,其中,测量头通过转轴可上下转动地连接在安装板上,以使测量头的探头远离或者贴附在基材的表面,探头包括柔性探头或刚性滚轮探头。通过上述技术方案,将柔性探头或刚性滚轮探头通过转轴上下转动地连接在安装板上,测量时转轴转动使其探头可以贴附在基材的表面,确保探头与基材良好接触的同时还不会损伤基材膜层的表面,同时控制单元通过对探头的测量数据实时采集并通过计算得出电阻值。从而解决无法实时的在线测量,以及接触式测量对基材膜层表面带来损伤,影响基材的性能的问题。

    真空镀膜用传动辊及真空镀膜设备

    公开(公告)号:CN118186357A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202211600656.8

    申请日:2022-12-12

    IPC分类号: C23C14/54 C23C16/46

    摘要: 本公开涉及一种真空镀膜用传动辊及真空镀膜设备,该传动辊包括呈管状的主辊辊体,主辊辊体的两端分别通过连接法兰固定连接有转轴;连接法兰包括法兰盘体,法兰盘体的中心形成有用于套设于转轴的安装孔,法兰盘体上还形成有沿法兰盘体的轴向方向延伸的隔热腔。通过上述技术方案,本公开提供的真空镀膜用传动辊能够有效地阻隔传动辊轴向传热,实现传动辊轴向温度均匀分布,成膜质量高。