硅异质结太阳电池及其制备方法

    公开(公告)号:CN109148614A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201710456695.8

    申请日:2017-06-16

    摘要: 本发明公开了硅异质结太阳电池及其制备方法。其中,该太阳电池包括:n型晶硅衬底层;轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层,氢化非晶硅缓冲层形成在衬底层的上、下两侧表面上;重掺杂p型氢化非晶硅发射极层,氢化非晶硅发射极层形成在一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;重掺杂n型氢化非晶硅背场层,氢化非晶硅背场层形成在另一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;透明导电氧化物层,透明导电氧化物层形成在氢化非晶硅发射极层和氢化非晶硅背场层的表面上;金属栅线电极层,金属栅线电极层包括:合金过渡层,合金过渡层形成在透明导电氧化物层、氢化非晶硅背场层和氢化非晶硅发射极层至少一层表面上;含铜导电合金层,含铜导电合金层形成在合金过渡层的表面上。

    硅异质结太阳电池及其制备方法

    公开(公告)号:CN110137296A

    公开(公告)日:2019-08-16

    申请号:CN201810130409.3

    申请日:2018-02-08

    IPC分类号: H01L31/0747 H01L31/20

    摘要: 本发明公开了硅异质结太阳电池及其制备方法,该方法包括:提供n型晶硅衬底;在n型晶硅衬底的上表面沉积非晶硅钝化层薄膜和p型非晶硅发射极层,将所得样品浸入清洗液中清洗;在n型晶硅衬底的下表面沉积非晶硅钝化层薄膜和n型非晶硅背场层,将所得样品浸入清洗液中清洗;在p型非晶硅发射极层的上表面沉积透明导电氧化物薄膜,将所得样品浸入清洗液中清洗;在n型非晶硅背场层的下表面沉积透明导电氧化物薄膜,将所得样品进行第一退火处理;形成上表面和下表面电极,将所得样品进行第二退火处理。该方法在对晶硅衬底沉积薄膜层后,对样品进行清洗和退火处理,显著改善了样品各层界面的界面性能,提高了制备得到的硅异质结太阳电池的性能。

    硅异质结太阳电池及其制备方法

    公开(公告)号:CN109148616A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201710461478.8

    申请日:2017-06-16

    摘要: 本发明公开了硅异质结太阳电池及其制备方法。其中,该太阳电池包括:n型晶硅衬底层;轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层,氢化非晶硅缓冲层形成在衬底层的上、下两侧表面上;重掺杂p型氢化非晶硅发射极层,氢化非晶硅发射极层形成在一侧轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层的表面上;重掺杂n型氢化非晶硅背场层,氢化非晶硅背场层形成在另一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;透明导电氧化物层,透明导电氧化物层分别形成在氢化非晶硅发射极层和氢化非晶硅背场层的表面上;合金栅线电极层,合金栅线电极层形成在透明导电氧化物层、氢化非晶硅背场层和氢化非晶硅发射极层的至少一层的表面上;以及电极保护层,电极保护层形成在合金栅线电极层的表面上。

    硅异质结太阳电池
    7.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207398153U

    公开(公告)日:2018-05-22

    申请号:CN201720707435.9

    申请日:2017-06-16

    摘要: 本实用新型公开了硅异质结太阳电池。该太阳电池包括:n型晶硅衬底层;轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层,氢化非晶硅缓冲层形成在衬底层的上、下两侧表面上;重掺杂p型氢化非晶硅发射极层,氢化非晶硅发射极层形成在一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;重掺杂n型氢化非晶硅背场层,氢化非晶硅背场层形成在另一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;透明导电氧化物层,透明导电氧化物层形成在氢化非晶硅发射极层和氢化非晶硅背场层的表面上;金属栅线电极层,金属栅线电极层包括:合金过渡层,合金过渡层形成在透明导电氧化物层、氢化非晶硅背场层和氢化非晶硅发射极层至少一层表面上;含铜导电合金层,含铜导电合金层形成在合金过渡层的表面上。

    硅异质结太阳电池
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207398154U

    公开(公告)日:2018-05-22

    申请号:CN201720708353.6

    申请日:2017-06-16

    IPC分类号: H01L31/0224 H01L31/074

    摘要: 本实用新型公开了硅异质结太阳电池。该太阳电池包括:n型晶硅衬底层;轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层,氢化非晶硅缓冲层形成在衬底层的上、下两侧表面上;重掺杂p型氢化非晶硅发射极层,氢化非晶硅发射极层形成在一侧轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层的表面上;重掺杂n型氢化非晶硅背场层,氢化非晶硅背场层形成在另一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;透明导电氧化物层,透明导电氧化物层分别形成在氢化非晶硅发射极层和氢化非晶硅背场层的表面上;合金栅线电极层,合金栅线电极层形成在透明导电氧化物层、氢化非晶硅背场层和氢化非晶硅发射极层的至少一层的表面上;以及电极保护层,电极保护层形成在合金栅线电极层的表面上。

    硅异质结太阳电池
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207233747U

    公开(公告)日:2018-04-13

    申请号:CN201720708354.0

    申请日:2017-06-16

    IPC分类号: H01L31/0224 H01L31/074

    摘要: 本实用新型公开了硅异质结太阳电池,该硅异质结太阳电池包括:n型晶硅衬底;第一轻掺杂n型氢化非晶硅层;重掺杂p型氢化非晶硅发射极层;第一透明导电氧化物层;第二轻掺杂n型氢化非晶硅层;重掺杂n型氢化非晶硅背场层;第二透明导电氧化物层;以及多个金属栅线电极层。该硅异质结太阳电池采用轻掺杂的氢化非晶硅替代本征非晶硅作为钝化层,可以在保证良好的界面钝化作用的前提下,显著改善串联电阻,提高电池性能。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利