集成存储装置及方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1750170B

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN200510091725.7

    申请日:2005-08-15

    CPC classification number: G11C16/0416 H01L27/115 H01L29/8616

    Abstract: 集成存储装置及方法,本案提出一种利用穿隧场效晶体管(TFET)以及埋藏位线的存储装置。该存储装置包括一包含储存单元行以及储存单元列的矩阵,其中,每一个储存单元包含至少一单元晶体管,而该单元晶体管则是依次会包含第一掺杂区域以及第二掺杂区域,其一为一漏极区域,以及另一为一源极区域。再者,该存储装置包括字线,其每一个都连接至一行的储存单元,以及位线,各位线连接至一列的储存单元。此外,该等第一掺杂区域为与该等第二掺杂区域不同的掺杂型态。

    集成存储装置及方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1750170A

    公开(公告)日:2006-03-22

    申请号:CN200510091725.7

    申请日:2005-08-15

    CPC classification number: G11C16/0416 H01L27/115 H01L29/8616

    Abstract: 本案提出一种利用穿隧场效晶体管(TFET)以及埋藏位线的存储装置。该存储装置包括一包含储存单元行以及储存单元列的矩阵,其中,每一个储存单元包含至少一单元晶体管,而该单元晶体管则是依次会包含第一掺杂区域以及第二掺杂区域,其一为一漏极区域,以及另一为一源极区域。再者,该存储装置包括字线,其每一个都连接至一行的储存单元,以及位线,各位线连接至一列的储存单元。此外,该等第一掺杂区域为与该等第二掺杂区域不同的掺杂型态。

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