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公开(公告)号：CN103990488A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201410257837.4
申请日：2014-06-11
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 两步法制备Cu2O/TaON复合光催化材料，本发明涉及一种复合光催化材料的制备方法，它为了解决现有复合光催化材料的合成周期长，分解水制氧性能低的问题。一、研磨后的Ta2O5放入管式炉中在氨气气氛下高温烧结，制备TaON固体；二、研磨TaON固体和氯化铜固体，研磨过程中加入氢氧化钠溶液，得到混合粉末；三、向混合粉末中加入葡萄糖和去离子水，水浴加热反应；四、离心反应液，固相产物经洗涤、干燥完成复合光催化材料的制备。该合成工艺周期短，得到的复合光催化粉体颗粒无团聚、产量大，在可见光下表现出良好的分解水制氧性能。
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公开(公告)号：CN103990488B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201410257837.4
申请日：2014-06-11
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 两步法制备Cu2O/TaON复合光催化材料的方法，本发明涉及一种复合光催化材料的制备方法，它为了解决现有复合光催化材料的合成周期长，分解水制氧性能低的问题。一、研磨后的Ta2O5放入管式炉中在氨气气氛下高温烧结，制备TaON固体；二、研磨TaON固体和氯化铜固体，研磨过程中加入氢氧化钠溶液，得到混合粉末；三、向混合粉末中加入葡萄糖和去离子水，水浴加热反应；四、离心反应液，固相产物经洗涤、干燥完成复合光催化材料的制备。该合成工艺周期短，得到的复合光催化粉体颗粒无团聚、产量大，在可见光下表现出良好的分解水制氧性能。
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公开(公告)号：CN103553709B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201310532498.1
申请日：2013-10-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种POSS基高发射率纳米涂层的制备方法，本发明涉及红外高发射率涂层的制备方法。本发明是要解决现有的红外涂层成膜性差，膜层易开裂的技术问题。本方法：将POSS溶胶与硼酸的乙醇溶液混合后再加入球磨后的耐高温基料和添加剂，混合均匀，得到涂料；将耐火材料基体表面涂覆硼酸-POSS溶液后干燥得到过渡层，然后将涂料再涂覆在过渡层上，经热处理，得到POSS基高发射率纳米涂层。POSS溶胶易涂覆成膜，且具有微裂纹热循环后的自愈合的性能，对波长为11μm～18μm的红外线的发射率在0.9以上，在对波长为15μm的红外线的发射率值达到0.95，可用于工业窑炉中。
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公开(公告)号：CN103553709A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201310532498.1
申请日：2013-10-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种POSS基高发射率纳米涂层的制备方法，本发明涉及红外高发射率涂层的制备方法。本发明是要解决现有的红外涂层成膜性差，膜层易开裂的技术问题。本方法：将POSS溶胶与硼酸的乙醇溶液混合后再加入球磨后的耐高温基料和添加剂，混合均匀，得到涂料；将耐火材料基体表面涂覆硼酸-POSS溶液后干燥得到过渡层，然后将涂料再涂覆在过渡层上，经热处理，得到POSS基高发射率纳米涂层。POSS溶胶易涂覆成膜，且具有微裂纹热循环后的自愈合的性能，对波长为11μm～18μm的红外线的发射率在0.9以上，在对波长为15μm的红外线的发射率值达到0.95，可用于工业窑炉中。
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