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公开(公告)号:CN103553709A
公开(公告)日:2014-02-05
申请号:CN201310532498.1
申请日:2013-10-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种POSS基高发射率纳米涂层的制备方法,本发明涉及红外高发射率涂层的制备方法。本发明是要解决现有的红外涂层成膜性差,膜层易开裂的技术问题。本方法:将POSS溶胶与硼酸的乙醇溶液混合后再加入球磨后的耐高温基料和添加剂,混合均匀,得到涂料;将耐火材料基体表面涂覆硼酸-POSS溶液后干燥得到过渡层,然后将涂料再涂覆在过渡层上,经热处理,得到POSS基高发射率纳米涂层。POSS溶胶易涂覆成膜,且具有微裂纹热循环后的自愈合的性能,对波长为11μm~18μm的红外线的发射率在0.9以上,在对波长为15μm的红外线的发射率值达到0.95,可用于工业窑炉中。
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公开(公告)号:CN103553709B
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201310532498.1
申请日:2013-10-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种POSS基高发射率纳米涂层的制备方法,本发明涉及红外高发射率涂层的制备方法。本发明是要解决现有的红外涂层成膜性差,膜层易开裂的技术问题。本方法:将POSS溶胶与硼酸的乙醇溶液混合后再加入球磨后的耐高温基料和添加剂,混合均匀,得到涂料;将耐火材料基体表面涂覆硼酸-POSS溶液后干燥得到过渡层,然后将涂料再涂覆在过渡层上,经热处理,得到POSS基高发射率纳米涂层。POSS溶胶易涂覆成膜,且具有微裂纹热循环后的自愈合的性能,对波长为11μm~18μm的红外线的发射率在0.9以上,在对波长为15μm的红外线的发射率值达到0.95,可用于工业窑炉中。
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