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公开(公告)号：CN106643557A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201710104131.8
申请日：2017-02-24
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/24
Abstract: 基于共焦显微原理的宏微结合面形测量装置及其测量方法，属于光学精密测量技术领域，本发明为解决现有微观结构的测量方法测量范围有限，无法进行大口径光学元件测量的问题。本发明包括共焦显微模块、直线运动平台模块和旋转运动平台模块，共焦显微三维测量模块包括第一激光器、第一分光棱镜、二维扫描振镜、扫描透镜、管镜、第一物镜、第一收集透镜和第一光电探测器；共焦光学探针模块包括第二激光器、第二分光棱镜、第二物镜、第二收集透镜和第二光电探测器；共焦光学探针模块用于完成宏观结构的三维测量，共焦显微三维测量模块用于完成微观结构的三维测量。本发明用于测量复杂面形的光学元件。
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公开(公告)号：CN106441143A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610891200.X
申请日：2016-10-12
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01B11/22
CPC classification number: G01B11/22 , G01B21/045
Abstract: 一种采用光学显微方式测量沟槽样品深度的方法，涉及光学显微测量领域，具体涉及一种沟槽样品深度的方法。本发明为了解决现有的测量沟槽样品深度的方法存在精度较低的问题。本发明首先采用光学显微方式获得沟槽样品的轮廓数据，并确定沟槽样品两侧边缘的位置和沟槽的宽度W；然后在上、下表面轮廓数据部分分别删除上表面避让距离Dd和下表面避让距离Ds；最后，利用沟槽上、下表面剩余的有效数据范围对应的沟槽样品轮廓数据进行拟合，从而得到准确的沟槽深度。本发明适用于光学显微仪器的测量领域。
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公开(公告)号：CN105823433A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201610273360.8
申请日：2016-04-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种基于共焦显微技术的大口径非球面谐衍射样品测量装置与方法，所述装置由共焦显微模块、直线运动平台模块和被测样品构成，所述的共焦显微模块的照明模块按照照明光传播方向依次为：激光器、准直镜、光阑、分光棱镜和物镜；探测模块按照信号光传播方向依次为：物镜、分光棱镜、滤光片、收集透镜、针孔和光电探测器；所述的照明模块、探测模块共用物镜与分光棱镜；所述的直线运动平台模块为气浮直线导轨；所述的被测样品为非球面谐衍射元件的待测样品。本发明首次通过共焦技术进行大口径谐衍射元件轮廓测量，提出了曲面基底台阶高度计算方法，不仅拟合精度高，而且可以进行对宏微结合的复杂面形的测量。
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公开(公告)号：CN118914203A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411010417.6
申请日：2024-07-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本申请公开了一种基于多分数阶角动量解调的暗场共焦显微测量装置及方法，涉及共焦显微测量技术领域，该装置包括：调制照明模块和信号采集解调模块；在调制照明模块中，通过不同分数阶的涡旋相位图，调制得到不同分数阶的涡旋光，以对待测样品进行扫描，不同分数阶的涡旋光照射在待测样品上后反射出去；通过信号采集解调模块采集反射光并生成暗场图像；最后，根据不同分数阶的涡旋光下生成的暗场图像进行互相关处理，即可得到高信噪比数据；本申请提供的上述装置采用不同分数阶涡旋光照明样品并进行暗场探测，可同时获取缺陷对多阶涡旋分量的响应，提高了微小缺陷的信号强度，利用互相关算法能够有效抑制共模噪声，凸显纳米级缺陷微弱的相关信息。
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公开(公告)号：CN109458950A
公开(公告)日：2019-03-12
申请号：CN201811494394.5
申请日：2018-12-07
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种基于中介层散射的针孔随动共焦显微装置和方法，属于光学精密测量技术领域，为了解决共焦显微技术测量大口径高陡度光学元件测量效率低的问题。激光器发出的照明激光光通过耦合光纤输出，依次经过准直镜、物镜，物镜将激光汇聚至镀有荧光膜的待测样品，样品激发的荧光依次经过物镜、准直镜，耦合光纤、滤光片，最终入射至光电探测器，高速微位移执行器带动耦合光纤扫描，从而完成对被测点的测量。本发明适用于测量大口径高陡度光学元件表面轮廓。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106908012A
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201710103553.3
申请日：2017-02-24
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/24
Abstract: 横向快速扫描共焦测量装置及基于该装置的光学元件表面轮廓测量方法，属于光学领域，本发明为解决现有共焦逐点测量时轴向扫描效率低，导致对样品长时间照明容易引起中介层荧光猝灭，影响最终的面形测量精度的问题。本发明包括照明模块、扫描模块、探测模块和宽场成像模块；照明模块按照照明光传播方向依次为激光器、单模光纤、准直器、二向色镜、分光棱镜和物镜；探测模块按照信号光传播方向依次为物镜、分光棱镜、二向色镜、滤光片、第一收集透镜、多模光纤和光电倍增管；扫描模块包括二维扫描振镜、扫描透镜和管镜；宽场成像模块包括CCD和第二收集透镜。本发明用于大口径高曲率光学元件的测量。
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公开(公告)号：CN118914204B
公开(公告)日：2025-05-23
申请号：CN202411018180.6
申请日：2024-07-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明公开一种基于差分分数阶涡旋光束的暗场共焦显微测量装置与方法，涉及光学精密测量领域，该装置包括：分数阶涡旋光模块，用于生成第一分数阶涡旋光和第二分数阶涡旋光；光学扫描模块，用于将第一分数阶涡旋光和第二分数阶涡旋光分别对样品进行扫描，得到第一信号回光和第二信号回光；暗场探测模块，用于分别对第一信号回光和第二信号回光进行暗场探测，得到第一分数阶散射暗场图像和第二分数阶散射暗场图像；差分暗场散射图像确定模块，用于将第一分数阶散射暗场图像和第二分数阶散射暗场图像进行差分，得到差分暗场散射图像；缺陷确定模块，用于对差分暗场散射图像进行处理，得到样品缺陷。本发明可提升成像信噪比，提高缺陷检测的灵敏度。
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公开(公告)号：CN106643557B
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201710104131.8
申请日：2017-02-24
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 基于共焦显微原理的宏微结合面形测量装置及其测量方法，属于光学精密测量技术领域，本发明为解决现有微观结构的测量方法测量范围有限，无法进行大口径光学元件测量的问题。本发明包括共焦显微模块、直线运动平台模块和旋转运动平台模块，共焦显微三维测量模块包括第一激光器、第一分光棱镜、二维扫描振镜、扫描透镜、管镜、第一物镜、第一收集透镜和第一光电探测器；共焦光学探针模块包括第二激光器、第二分光棱镜、第二物镜、第二收集透镜和第二光电探测器；共焦光学探针模块用于完成宏观结构的三维测量，共焦显微三维测量模块用于完成微观结构的三维测量。本发明用于测量复杂面形的光学元件。
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公开(公告)号：CN109443240A
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201811495500.1
申请日：2018-12-07
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 一种基于中介层散射的激光三角光测量装置和方法，属于光学精密测量技术领域，为了解决激光三角光无法测量光滑透明的光学元件样品。首先，首先使待测样品成为镀膜样品，然后激光器发出激光经过光纤输出，经过透镜变为平行光束，平行光束被物镜聚焦到样品表面激发荧光，荧光被收集透镜汇聚到光电探测器，通过光斑在探测器上的偏移量从而测量被测样品的相对位置。本发明适用于大口径光滑透明光学元件面形测量。
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公开(公告)号：CN106441143B
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201610891200.X
申请日：2016-10-12
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01B11/22
Abstract: 一种采用光学显微方式测量沟槽样品深度的方法，涉及光学显微测量领域，具体涉及一种沟槽样品深度的方法。本发明为了解决现有的测量沟槽样品深度的方法存在精度较低的问题。本发明首先采用光学显微方式获得沟槽样品的轮廓数据，并确定沟槽样品两侧边缘的位置和沟槽的宽度W；然后在上、下表面轮廓数据部分分别删除上表面避让距离Dd和下表面避让距离Ds；最后，利用沟槽上、下表面剩余的有效数据范围对应的沟槽样品轮廓数据进行拟合，从而得到准确的沟槽深度。本发明适用于光学显微仪器的测量领域。
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