采用无氯烷氧基硅烷制备多晶硅的方法

    公开(公告)号:CN1935649A

    公开(公告)日:2007-03-28

    申请号:CN200610010599.2

    申请日:2006-09-25

    Abstract: 采用无氯烷氧基硅烷制备多晶硅的方法,它涉及多晶硅的制备方法。它解决了现有制备多晶硅中是采用高压、高温,需使用价格昂贵的设备以及高稳定性的高合金钢,耗能高,硅烷法为粒状多晶硅表面大、易污染,而且工艺过程中采用了氯化物,对人的危害及设备腐蚀严重的问题。方法为:1.采用工业硅和乙醇为原料通过相互作用来制取三乙氧基硅烷;2.采用吸附或蒸馏提纯法分离三乙氧基硅烷;3.将分离出来的三乙氧基硅烷在常压和60~110℃条件下催化歧化,制取甲硅烷;4.采用吸收或吸附法进行甲硅烷提纯;5.将提纯的甲硅烷在硅芯板底经通过热解后进入反应器制备出多晶硅。本发明制备多晶硅的过程中不采用氯元素,生态性好、能耗低,产品的质量好。

Patent Agency Ranking